リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

メーカー・取り扱い企業： 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

UVオゾン洗浄表面改質装置『ASM401N』

特殊形状の低圧水銀ランプを採用し高い照度を実現！扉を開けるとランプが消…

ーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。 高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強い エネルギーを持っており、有機汚染物質が揮発性の二酸化炭素や 水分となり飛散することで、基盤表面がクリーンになります。 【特長】 ■コンパクトな箱型設計 ■スピーディな処理が可能 ■熱処理と違いワークへの熱弊害も軽減 ■取扱いと設置も簡単 ■紫外線安全対策機能付き ※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研