• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定 製品画像

    『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

    PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

    当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

    メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行え...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置 製品画像

    高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

    「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

    が可能 ■リアクティブ成膜用イオンソースを搭載  ▶成膜時のイオン照射による基板上での酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 ■大型基板への成膜  ▶300mm もしくは 280×330×50 mm サイズの基盤(フラット、曲面)まで対応  ▶基盤加熱機構も組み込み可能...

    • unnamed.jpg
    • FHR.Star.500-EOSS.jpeg
    • unnamed (1).jpg
    • unnamed (2).jpg

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • スパッタ・蒸着複合装置 製品画像

    スパッタ・蒸着複合装置

    1インチUHV対応スパッタカソード2源!ロードロック室は増設することが…

    当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着と なっております。 【特長】 ■1インチUHV対応スパッタカソード2源 ■3源切替...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

  • 高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像

    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    マイオンソースとターゲット印加  高速スパッタリングと低コンタミの両立  ターゲット利用効率の向上によるランニングコスト削減  グリッドレス構造によるメンテナンス低減  リモートプラズマ構成による、基盤を低温に保ってのスパッタリング ■枚葉処理  ステップカバレージの向上  クラスターツールによる複合成膜 ■優れた直進性  直進性の高いイオンビームにより、均一な膜厚での成膜が可能。 ステップカバレ...

    • 1.PNG
    • 2.PNG
    • 3.PNG

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール 製品画像

    リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

    指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

    ースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。 ・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。 ・ターゲット利用効率においても優れた結果が得られています。 *詳細はお問い合わせください。...

    • HR-PVD2.jpg
    • HR-PVD3.jpg
    • HR-PVD4.jpg

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 超高真空マルチチャンバー連結システム 製品画像

    超高真空マルチチャンバー連結システム

    φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…

    当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。 他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。 【ラインアップ】 ■...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

  • 製作実績【2】/半導体製造装置 関連部品 製品画像

    製作実績【2】/半導体製造装置 関連部品

    最短半日見積り/金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を…

    m台の寸法公差を指示され、 実際の加工には特殊なメタルソーを用いて技師が工夫し加工しました。 その他、実績多数! 真空チャック用先端部、ウェハー保管用ケース、精密整列パレット 製品搬送用パレット、基盤測定装置用プローブホルダー ワーク搬送用トレー、洗浄用メッシュ網カゴ 等 カタログ には、更に詳しく情報を掲載しています。 アルミ・ステンレス部品を単品加工で対応します。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社 営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

1〜7 件 / 全 7 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg