ビッカース硬さ試験機　FALCON500G2

PRFALCON 500G2はマイクロ、マクロビッカース、ヌープ、ブリネル…

FALCON 500G2は、様々な要求に応える幅広い試験力構成の選択肢を持ち、ハードウェアを完全に統合することで、お客様の業界特有の試験タスクに確実に適合させることが可能です。 最高レベルのメカニカルデザインから生まれたベースユニットのロードセル、クローズドループシステムは、マニュアルまたはデジタルマイクロメータ、あるいはより快適な試験環境を実現するモーター駆動のCNCステージと組み合わせて完成さ...

メーカー・取り扱い企業： イノバテスト・ジャパン株式会社 本社

気体漏れ検知カメラ『Si2-Pro』『Si2-LD』

PRノイズキャンセル機能で騒音環境下にも対応。検出が困難な水素など、様々な…

気体漏れ検知カメラ『Si2-Pro』『Si2-LD』は、圧縮空気・ガスの漏れを 正確に検出できるハンディ型の産業用音響カメラです。 検出が非常に難しい水素にも対応しており、稼働中に様々な気体の漏れを可視化することができます。 漏れの早期発見によって、エア・ガスのロスが抑えられトータルコストの削減に貢献します。 【特長】 ■リアルタイムで損失コストをシミュレーションし、対応判断をサポート ■ノイ...

メーカー・取り扱い企業： フリアーシステムズジャパン株式会社

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジス…

ました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！ 【特長】 ■段取り替え...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

します。 ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、InP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！ 設計から製造・販売まで自...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

段取り替えなし！複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター

現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製…

2種類以上のウエハサイズを兼用した装置製作が「段取り替えなし」で可能です。 実績例 ■2・3・4インチ兼用装置 ■4・5インチ兼用装置 ■4・6インチ兼用装置 ■6・8インチ兼用装置 ■8・12インチ兼用装置 ウエハ重量、ウエハ材質によっても変わりますので、 まずはお気軽にご相談ください。 2種類のウエハサイズの専用装置を1台ずつ設置することを考えれば、設置面積は実質半分に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター！自動ポリイミド塗布装置

～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

枚葉式フォトレジスト現像装置です。 パドル現像、スプレー現像（1流体、2流体）など様々な現像プロセスに対応できます。 薄型ウェハや角基板など多数実績がございます！ また、厚膜レジスト現像～微細なパターンの現像まで幅広く対応できます。 当製品は、枚葉式で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ロール・スプレーコーターの置き換え！回転カップ式レジスト塗布装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

反りウェハも搬送！ベルト搬送式自動レジスト塗布装置（コーター）

ベルト搬送タイプのトラックシステムスピンコーターです。高スループットで…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリング...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚さ100um！極薄ウェーハ搬送自動レジスト塗布装置　コーター

GaAs、LT、ガラスなどの脆くて薄いウェーハでの搬送・塗布での実績（…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

両面プロセスに最適！両面自動フォトレジスト塗布装置　コーター

ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます！

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

プロセスが得られます。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH、コリン水溶液、Na2CO3等多彩な薬液に実績があります。 また、薄いウエハでの実績も多数あります（ウエハ厚さ150umなど）のでご相談ください。 【特長】 ■PEBによる逆テーパー角の安定 ■自動ウエハ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

現出来た装置です。 対応レジストは、ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、など、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 露光工程は、オートアライメント機能搭載可能 ポジ・ネガ反転工程にも最適です。 【特長】 ■フォトリソ工程を自動一括処理 ■低価格を実現...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク（MAX400℃）、低温ベーク（MAX200℃）、クーリング機能を搭載。 低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。 レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能！ その他、ポジレジスト・ネガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー

光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、…

【主な仕様】 ■マスクサイズ：□3"～□7" ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ6", 角基板 □2"～4" ■カセットステージ：2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き：1組 ■露光光源：i線LED光源(500W相当) ■オートアライメント機...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

段取り替えなし！インチ兼用自動リフトオフ装置

【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理！】複数サイズ兼用装置はダウ…

違う、将来的に大きいサイズのウエハを処理したいというご要望が大変多いです。 そこで、段取り替えをしないで複数サイズ処理が可能なリフトオフ装置をご提供します。 【複数サイズ兼用の例】 「2・3」、「2・4」、「3・4」、「4・6」、「6・8」インチ 【薄型ウェハにも対応！】 高圧ジェットはウェハ（基板）が薄いと割れるのではないか？という声をよくお聞きします。 弊社では厚...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

フォトレジスト量削減！回転カップ式塗布装置（スピンコーター）

ポリイミドや高価な高粘度レジストの削減に有効！回転カップ式スピンコータ…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー）

実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせ…

当社のスクラバー装置は、当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高洗浄力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1流体スプレー等の方式も選択可能ですし、組み合わせることも可能です。 ウエハ洗浄だけでなく、フォトマスクの洗浄でも実績があります。 また、DIP処理で問題となるパーティクル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ウェハソーター

正確に、素早くソーティング。キャリアに挿入されたウエハを自動で取り出し…

置合わせを行ったうえで アンローダーキャリアへ戻す、自動ソーティング装置です。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ 【特長】 ■低価格を実現 ■2～8インチまで対応可能 ■フットプリントの低減（省スペース化） ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式の…

してだけでなく少量多品種の製品を扱うお客様にご利用いただいております。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■低価格を実現 ■コンパクト！ ■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーも選択可能 ■多彩な薬液に実績あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！装置幅300mm自動レジスト塗布装置（コーター）

装置「幅」が300mm！ウェハサイズではなくて装置の幅が300mmの装…

【主な仕様】 ■ウェハ搬送置台：1組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ1～2" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）300×1800×1800(Φ4"本体) その他オプション多数！ ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動リフトオフ装置（セミオートリフトオフ機）Lift-off

自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフト…

ットの組み合わせで取れずらいレジストも剥離可能です。 ブラシ洗浄からの置き換え、圧力をかけて剥離をするようなプロセスを高圧ジェットなら簡単に置き換えることができます。 【特長】 ■最大20MPaの高圧ジェットリフトオフ ■リフトオフ時のバリの除去 ■再付着なし ■温調と高圧JETの組み合わせ ■温調した薬液のリサイクルシステム （オプション） まずは無料デモでお気軽...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：1組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

短時間剥離！手動リフトオフ装置（マニュアル機）Lift-off

短時間剥離！当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処…

。 当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高剥離力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 さらに、弊社独自の温調膨潤と高圧ジェットの組み合わせで処理時間を24時間→3minに減らした事例もあります！ メタルや酸化膜剥離の他にレジスト、ポリマー、 マスクの洗浄装置としても使用でき、熱処理後やドライエッチング後の頑固なレジストも剥離可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…

N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式の現像装置です。 N2の圧力を変更することで、スプレーの吐出圧力を変更することができます。 液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくし...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

大型角基板用（～430mm）回転カップ式自動レジスト塗布コーター

430mm角までの大型基板を隅まで均一良く塗ることができます！正方形、…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

【特長】 ■低価格を実現 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応 ■2～12インチまで対応 ■複数サイズウエハを処理可能（例、3・4・5インチ兼用、8・12インチ兼用) ■ウエハサイズ自動認識システム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動レジスト塗布装置(セミオートスピンコーター)Coater

低～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの半自動機（セミオート）も作製…

ました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 【特長】 ■半自動レジスト塗布機（セミオート）で低価格を実現 ■2～12インチまで対応可能 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

角基板対応自動レジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！

ました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板や角基板の搬送実績も多数あります！ 【特長】 ■低...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

リフトオフ（イメージリバーサル）対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動等倍露光装置（オートマスクアライナー）Maskaligner

簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。オートアライメント機能…

【主な仕様】 ■マスクサイズ：□3"～□7" ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ6", 角基板 □2"～4" ■カセットステージ：2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き：1組 ■露光光源：超高圧水銀灯(250W，500W)　UV-LED光源も対...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

10000cP！高粘度対応自動レジスト塗布装置（スピンコーター）

10000cPのポリイミドやレジストにも対応可能！ASAP（エイ・エス…

0cP以上のレジストでも面内均一±5％以内に納めます（φ300mmウェハ） ASAP(エイ・エス・エイ・ピイ)特許の回転カップ方式によって厚膜を均一良く塗布することが可能です（保有特許：第3821468） 当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

R&Dや少量生産に最適！手動レジスト塗布装置(スピンコーター)

研究・開発、小ロット対応のマニュアル装置！卓上タイプとは違う自動機と同…

きます！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります！ 【特長】 ■手動レジスト塗布機（マニュアル）で低価格を実現 ■2～12インチまで対応可能 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

高粘度フォトレジスト対応！密閉式自動レジスト塗布装置（コーター）

高粘度フォトレジスト塗布に自信があります！10000cPのポリイミドで…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

枚葉式でDIP！？膨潤・高圧ジェット併用リフトオフ装置

【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥…

膜のパターニングに好適な超高圧ジェットリフトオフ装置です。 ●薄型ウェハにも対応！ 高圧ジェットはウェハ（基板）が薄いと割れるのではないか？という声をよくお聞きします。 弊社では厚さ120umのGaAsのリフトオフの実績もございます（圧力3MPa） デバイスによって圧力調整なども自由に行えます。 【特長】 ■DIP並みの膨潤！ ■MAX20MPaの超高圧ジェット ■【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動リフトオフ装置（メタル・レジスト剥離）Lift-off

高圧ジェットで驚きの剝離能力！当社独自の特殊ノズルで、枚葉による高速処…

物理力と化学力のW（ダブル）効果リフトオフ！ W効果リフトオフとは？ ・当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェット（MAX20MPa）により、物理力による剥離 ・溶剤にNMPやDMSOなどの有機溶剤を使用し、化学的な力で剥離 また、枚葉による高速処理・高剥離力・高安定性を実現し、さらに薬液の使用量も削減できます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ