• 『PTFEライナーフレキシブルホース』 製品画像

    『PTFEライナーフレキシブルホース』

    PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…

    Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...

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    メーカー・取り扱い企業: Watson-Marlow(ワトソンマーロー)株式会社 東京本社、大阪支社

  • 【省エネ補助金対象機種】モリブデンワイヤ放電加工機HBシリーズ 製品画像

    【省エネ補助金対象機種】モリブデンワイヤ放電加工機HBシリーズ

    PR【省エネ補助金対象機種】高速加工・省エネ・難削材加工に対応したワイヤカ…

    【モリブデンワイヤ放電加工機】HBシリーズ <<モリブデンワイヤ放電加工機のメリット>> 1.省電力 2.モリブデン鋼ワイヤ線の繰り返し使用による低コスト化 3.高速加工による作業時間短縮 省エネ補助金で省エネ・低コストを実現できるワイヤーカットへ設備更新しませんか? ​強度・靭性が高く、耐久性に優れたモリブデン鋼ワイヤ線を使用し、高速加工・難削材加工を可能にしました。 今まで​​放電加工は...

    メーカー・取り扱い企業: 大野精工株式会社 機工販売事業部

  • フレキシブル シンタリングシステム『SIN200+』 製品画像

    フレキシブル シンタリングシステム『SIN200+』

    次世代パワー半導体モジュールのシンタリング(焼結)接合試作&量産装置

    シンタリングシステム『SIN200+』は、従来ののSn系はんだ材に代わる新しい接合技術で、パワー半導体モジュールのシンタリング(焼結)によるダイアタッチ接合のR&D試作評価から量産までの用途に対応できます。特に、SiCパワー...

    メーカー・取り扱い企業: ピンク・ジャパン株式会社

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像

    CZウェーハ 成膜加工

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • ICPプラズマエッチング装置『SERIO』 製品画像

    ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

    平滑なエッチング面と高い加工精度を実現!サンプルテスト対応いたします!

    『SERIO』は、Si深掘り、石英の垂直加工、有機膜のエッチングなど 幅広い用途に対応する高密度プラズマエッチング装置です。 実績豊富なICPプラズマ電極を搭載し、平滑なエッチング面と高い 加工精度を実現。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で、 ナノインプリントモールドの作成に適しています。 平滑なエッチング側面、加工面の垂直性、開口部の角度制御などナノイン プリントモールドに必要な多く...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • プラズマCVD成膜 製品画像

    プラズマCVD成膜

    ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成!低温加工も可能です。

    プラズマCVD法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱CVDに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマCVD法によるコ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』 製品画像

    研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

    独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

    『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • 研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』 製品画像

    研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

    独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

    『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて 製品画像

    MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて

    WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など!EB露光、DRIE、 …

    当社は、半導体加工で培った豊富な知識と経験を基に、EB露光、DRIE、陽極接合をはじめとした 各種MEMS(Micro Electro Mechanical Systems〈微小電気機械システム〉)加工受託サービスをご提供しております。 開発品加工、要素技術加工、Si深堀エッチング、各種成膜など幅広く対応いたします。 また、弊社ではミニマルファブについても取り組んでおります。 TSV形成におけ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社M.T.C

  • 各種ワークの受託開発・加工サービス 製品画像

    各種ワークの受託開発・加工サービス

    お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた、受託開発・加工をご提案…

    ナガセ研磨機材では、各種ワークの表面からエッジまで、 お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた受託開発・加工を承ります。 【特長】 ■小ロット試作~量産対応、消耗品・研磨装置・プロセス・技術提供等、  お客様のニーズに合わせて対応 ■専門のプロセス技術開発担当により、開発からの対応可能 ■評価設備も充実、加工前後の品質確認や評価も対応 ■チタンやSiC等難削材の鏡面加工も対...

    メーカー・取り扱い企業: ナガセ研磨機材株式会社 本社

  • RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置  製品画像

    RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置

    パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

    パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』 製品画像

    卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

    教育機関や小規模施設などに!タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

    『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな 卓上タイプエッチング・成膜装置です。 設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の 導入をご検討されている方にお勧め。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■装置最大サイズ 80cmx80cmx80cm(高さ) ■タッチパネルで簡単操作 ※英語版カタログをダウンロードいただけま...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • 加工品納期にお困りですか?標準納期14日間を実現します! 製品画像

    加工品納期にお困りですか?標準納期14日間を実現します!

    【セラミックス/金属/樹脂/カーボン/ガラス/表面処理など】幅広いテー…

    例えばセラミックス加工:標準納期14日間 当社では各種高機能材料受託加工を手掛けており、製作図面頂きましたら 材質・数量・精度問わず検討可能です。 お気軽にお問い合わせください。 【代表材質例】 ・ファインセラミックス アルミナ、ジルコニア、窒化アルミ、窒化ケイ素、炭化ケイ素 ・マシナブルセラミックス マコール、ホトベール、BN、シェイパルHIMソフト ・各種金属...

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    メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課

  • ALD(原子層堆積)装置 製品画像

    ALD(原子層堆積)装置

    2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

    ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch~8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え いたします。 また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の 設備導入負担を軽減します。 安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる 項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • 高硬度材を高精度にスライス!固定砥粒加工ワイヤソーHW810! 製品画像

    高硬度材を高精度にスライス!固定砥粒加工ワイヤソーHW810!

    業界トップとなるMAX3,000m/minの超高線速加工による高効率、…

    大口径化する高硬度材において、遊離砥粒加工に比べ、圧倒的に高い生産性を実現。 またスラリー不要で廃棄物を削減、作業環境の改善も図ることができます。 SiC、SiN、サファイア等の高硬度材・難削材スライスに是非ともご検討ください。 SiCスライス時間 6in: ≦10時間 8in: ≦30時間 ◎今期ご予算での短納期対応も可能です。納期に関しましてはご相談ください。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社安永 本社

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

    膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本生産技術研究所

  • L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』 製品画像

    L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

    半導体、プリント基板、表面処理に!高い密着力を実現する室温スパッタ装置

    L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm(最大730mm×920mm)の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。 各種薄膜形成、シード層形成(過マンガン酸・無電解めっきからの置換)などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマプレシジョン

  • 厚膜成膜 製品画像

    厚膜成膜

    薄い膜だけじゃない!厚く成膜することもできます。

    一般的にナノレベルの成膜を行うことが多い薄膜ですが、弊社では厚膜のご依頼も多くございます。 1ミクロンから数ミクロン、ご案件によっては10ミクロン以上のご相談もいただきます。 もちろん、どのような基材に何の膜をつけるのかによって変わってまいりますが、まずはお気軽にご相談ください★(もちろん薄い膜も得意です) 東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 受託サービス(CVD、スパッタリング、パターニング、エッチング) 製品画像

    受託サービス(CVD、スパッタリング、パターニング、エッチング)

    ウェハー上への微細加工、確かな技術で幅広い受託サービスを提供します。

    少量試作・開発・量産まで、成膜加工(CVD、スパッタリング)・パターニング(フォトリソ)・エッチング加工に関する受託加工サービスを提供いたします。 成膜は、ウエハー上に数百ナノの絶縁膜、金属膜を形成。 パターニング(フォトリソ)は、マスクに描かれた数百ナノのパターンをウエハー上のレジスト膜に転写。 エッチングは、形成された膜、またはシリコン等を化学反応で削り、数百ナノのパターンを形成しま...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社九州セミコンダクターKAW 山香工場

  • イオンプレーティング成膜 製品画像

    イオンプレーティング成膜

    50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能!宇宙開発技術か…

    イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発(あるいは昇華)させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • エッチング受託加工 製品画像

    エッチング受託加工

    ドライとウェットの両プロセスから適した方法を提案!お客様の課題を解決し…

    協同インターナショナルでは『エッチング受託加工』を承っております。 回路形成/テストパターン作製/表面改質/条件出し等に必要な、さまざまな エッチング加工のニーズにお応え。 ドライ(RIE、ICP)とウェットの両プロセスから適した方法を提案し お客様の課題を解決します。 【特長】 ■さまざまなエッチング加工のニーズにお応え ■フォトリソ~エッチング~レジスト除去までの一連...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

  • 研究開発用スパッタリング装置 製品画像

    研究開発用スパッタリング装置

    高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

    特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載(±5%以内(SiO2でφ170mm以内)) ...

    メーカー・取り扱い企業: 芝浦メカトロニクス株式会社

  • マイクロエッヂプロセスのレーザ微細加工 製品画像

    マイクロエッヂプロセスのレーザ微細加工

    微細形状・特殊材料など既存の加工では困難だと思われる加工を日々研究開発…

    マイクロエッヂプロセスでは『レーザ微細加工』を承っております。 マイクロ接合、マイクロドリリング、アブレーションを中心とし、お客様の 仕様や用途に応じて放電加工、切削加工等を駆使した好適な加工方法により 単品試作から量産のお手伝いまで幅広い対応が可能。 また、独自の技術を用いて、これらの影響を考慮した好適な測定、 観察方法を採用しています。是非お任せください。 【加工形状】...

    メーカー・取り扱い企業: マイクロエッヂプロセス株式会社

  • 研磨作業 製品画像

    研磨作業

    難題を一つ一つクリア!多種多様なロールの研磨要求にミクロン単位のオーダ…

    杉村製作所の行う『研磨作業』についてご紹介します。 当社の各工場に持ち込まれるロールの種類はまさに千差万別。 長さや大きさ、形状、素材にいたるまですべてが異なります。 そのロールの特性、構造などを熟知した経験豊かなスタッフたちが、 様々な研磨ニーズに応えるべく、先端の研磨加工マシンとシステムを駆使し 作業を行います。 【特長】 ■研磨加工の先端マシンを保有 ■各種研磨加...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社杉村製作所

  • スクライブ&ブレーク 製品画像

    スクライブ&ブレーク

    直径2mmの工具に荷重をかけることで基板材料に亀裂を進展させる加工です

    『スクライブ&ブレーク』は、ガラス・セラミックス・半導体などの 材料を効率よく切断する方法です。 材料のもつ、硬くて脆いという特性を活かし、亀裂進展を利用して 加工するため一般的な加工技術とは異なる品質が得られます。 これまでの加工に課題をお持ちの方、品質を変えたい方、 ぜひ一度お問い合わせください。 【特長】 ■完全ドライ加工 ■カーフロスなし ■ハイスピード加工 ...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社ブリマテック

  • ロータリー研削加工 製品画像

    ロータリー研削加工

    大型のワークサイズにも対応可能な片面研削加工

    ダイヤモンドホイールにより、平行度・平坦度が高い平面研削加工を行います。大型のワークサイズにも対応が可能です。セラミックス、ガラスなどあらゆる硬脆材料に対応いたします。...ワークサイズと仕様 材質 各種セラミックス(アルミナ、AlN、SiNなど)、各種ガラス、    結晶物、金属 仕様 最大L400mm×W300mm×H400mm    加工精度±0.02mm~  Ra0.5μm~ ...

    メーカー・取り扱い企業: セラテック九州株式会社

  • 鋼板磁気特性テスター -鋼板試料の二次元磁気特性を測定- 製品画像

    鋼板磁気特性テスター -鋼板試料の二次元磁気特性を測定-

    二次元磁気特性を任意波形、自動追従制御で評価 鋼板磁気特性テスター …

    ■トランスに使用される方向性電磁鋼板などの、 鋼板試料の二次元磁気特性を測定する、テスターSin波状の磁場で単純な 円形に励磁した場合の特性の、測定から磁束密度が任意形状になるように、 磁場を自動追従させた測定が可能 ■ハードウェア(PXI)、ソフトウェア(LabVIEW)共に 汎用製品なので、高度なカスタマイズができる ■独自アルゴリズムにより二次元任意波形への自動追従制御が可能...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ペリテック 神奈川エンジニアリングセンター、東京営業所、ベトナム事業所

  • 成膜受託サービス 製品画像

    成膜受託サービス

    液相・気相コーティングに関わらず多様な工法でお客様のニーズを全方位でカ…

    『連続プロセス』で工法の違うプロセスもワンストップで対応可能。 生産工程を飛躍的に向上させます! 多様なプロセス・膜種・膜厚が可能 ■ドライ  ・スパッタ  ・蒸着  ・CVD  ・ALD  ・DLC ■ウェット  ・ディップ  ・スプレー  ・印刷、転写  ・ダイコーター  ・ディスペンサー 装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

  • クリエイティブコーティングス『気相技術』 製品画像

    クリエイティブコーティングス『気相技術』

    ワーク材質や膜種、膜厚から、弊社がご提案する技術や加工例をご紹介!

    「気相技術」は、樹脂原料・燃料電池など『新素材・新材料』『エネルギー』、医療センサー・機器など『医療・ヘルスケア』、電子部品・新ディスプレイなど『モバイル端末』『ウェアラブル機器』『オートモーティブ』など多様な分野で活用されています。 また、多様なプロセス・膜厚・膜種で1nm~1000nmの成膜を実現。 蒸着方式やCVD方式、ALD方式、スパッタ方式でコーティングしています。 【特長...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

  • フォトマスク 製品画像

    フォトマスク

    高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク

    を作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ:DXF,DWG,GBX,GDS II や画像データBMP,TIFなど ○パターン形状:直線、円、円弧の他SIN波、スパイラル、ランダムなパターン配置などに対応 ○用途:センサー、ディスプレイ、エンコーダー、半導体パッケージなどの精密フォトリソグラフィ ○図形補正:プロセスにマッチした柔軟な図形補正を行...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エクア

  • GaN・SiC・結晶類・セラミックス・ガラス類 製品画像

    GaN・SiC・結晶類・セラミックス・ガラス類

    “SrTiO3”や“CaF2”など!製造現場で使用する各種吊り下げ用具…

    TECOM株式会社では、『GaN・SiC・結晶類・セラミックス・ガラス類』を 豊富に取り扱っております。 「アルミナセラミックス」をはじめ、「ZrO2」や「石英ガラス」、 「光学用ガラス」など多数ラインアップ。 この他、「ワイヤースリング」といった製造現場で使用する各種吊り下げ 用具もご希望仕様で製作いたします。お気軽にお問い合わせ下さい。 【ラインアップ】 ■GaN・S...

    メーカー・取り扱い企業: TECOM株式会社

  • IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series 製品画像

    IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series

    真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能!

    【特徴】  ・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術  ・低温で低エネルギー照射が可能  ・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】  ・超硬工具用保護膜(c-BN)  ・食品用バリア膜(アルミ)  ・太陽電池用下地膜(アルミ)  ・光学用フィルタ膜(ZrO₂、AI₂O₃等) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...装置販売...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

  • シリコンブロック内部異物検査装置 製品画像

    シリコンブロック内部異物検査装置

    シリコンブロック内部異物検査装置

    ワイヤーソー等でシリコンブロックをスライスする際に、事前にIRB-30にて内部異物箇所を検査し、対応して頂くことによって、ワイヤーソーのダメージ、断線を抑えることが可能です。 ...IRB-30は、赤外線を使用し、シリコンブロックの内部異物(主にSiC, SiNなど)を 検査する装置です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 酸発生剤関係 製品カタログ 製品画像

    酸発生剤関係 製品カタログ

    有機合成技術で付加価値材料を提供致します!

    当カタログは、酸発生剤関係のSIN-01、SIN-02、 SIN-11製品を掲載しているカタログです。 光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や 光酸発生剤、感光性材料などを提供しております。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三宝化学研究所

  • Alダメージレス絶縁膜エッチング液 製品画像

    Alダメージレス絶縁膜エッチング液

    Al、Al合金膜を腐食することなく絶縁膜を良好にエッチングします。 …

    本製品の特長は以下のとおりです。 ・ Al、Al合金を腐食しません。 ・ 良好な順テーパーを形成します。 ・ ウェットエッチングによるViaやPad形成に使用可能です。 ・Pure Etch 160( AlダメージレスSiエッチング液)の前処理液としても使用可能です。 キーワード:ウェットエッチング、SiO2、SiN、TEOS、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜... ...

    メーカー・取り扱い企業: 林純薬工業株式会社 電子材料部

  • 立体形状への成膜加工 製品画像

    立体形状への成膜加工

    平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます!ご希望の成膜箇所をお聞…

    東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 例えば、ガラス板やフ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 樹脂フィルムへの成膜加工 製品画像

    樹脂フィルムへの成膜加工

    低温での成膜加工が可能!ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル、PET…

    東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置ま...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) 製品画像

    1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...【特長】 ○1枚からの成膜が可能です。 ○低温CVDは、100℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への...

    メーカー・取り扱い企業: 大村技研株式会社

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