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PRエッチング工程、CVD工程への使用に。高い熱伝導率の「窒化アルミ」、耐…
当社は、半導体製造の分野における、 熱特性や異物発生防止のニーズに応える特殊セラミック部品を提供しています。 窒化アルミは、最高220W/m・Kの熱伝導率で、最大φ500のプレートを提供可能です。 イットリアは、高い耐プラズマ性を備え、焼結材部品と溶射材をラインアップ。 溶射時には高い密着性により、パーティクル低減のニーズに対応可能です。 【特長】 ■窒化アルミは、半導体装置向...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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パルス機能を利用!ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成す…
『KOBUS F.A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition:原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃~500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min~500nm/minとなっております...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型>
世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。
Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型>は、エッチング・表面処理・薄膜作製時に発生する気相中の原子状ラジカルを計測し、プロセスへのフィードバックを可能にしたモニタリング装置。世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。プラズマ中の基底準位に存在する原子を吸収分光法により測定、測定対象及び目的により最適構造の選定が可能です。計測用ソフトウエアは名古屋大学堀研究室...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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常に新しい技術を追求し、より高いレベルの製品づくりに努めています!
【保有設備・機器(抜粋)】 ■横型真空熱処理炉 ■3室型連続式真空熱処理炉 ■油冷式真空熱処理炉 ■真空置換式焼戻炉 ■サブゼロ装置 ■熱CVD装置 ■各種検査機器 ・マイクロビッカース硬さ試験機 ・ショア硬さ試験機 ロックウェル硬度計 ・顕微鏡 ・卓上顕微鏡+エネルギー分散型X線分析装置 ・マイクロスコープ ・偏芯器 ・測...
メーカー・取り扱い企業: 中日本炉工業株式会社
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小型・高性能を実現した飛行時間型質量分析計。ガス組成をリアルタイムで、…
◆飛行時間型残留ガス分析器 IonTamerシリーズ 小型・高性能を実現した飛行時間型質量分析計。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニター可能。半導体、ソーラーパネル製造、OLEDディスプレイ、光学、真空コーティング工程(CVD、PVD、ALD)の研究開発にご使用いただけます。 IonTamerの装置は、ネットワーク経由で完全に制御・操作。直感的なソフトウェアで、測定データ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー
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