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15件 - メーカー・取り扱い企業
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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PE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics 』
専用の真空蒸着装置を用い、気体として蒸着! コンポーネントの割れ目に…
株式会社メディア研究所ではEuroplasma社のPE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics SE』を取り扱っております。 Europlasma社のPE CVDコーティング装置は日本で主流とされている液体コーティングとは異なり、気体としての蒸着を行い、液体では入りきれないコンポーネントの細かな隙間・割れ目まで均一なコーティングを実現いたします。 またプラズマを付加する...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メディア研究所
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PlasmaMAX Hollow Cathode プラズマCVD
最高品質を保ちつつ、基板幅と成膜速度を最大化することで、大量生産プロセ…
この技術により、バリア成膜品、光学多層膜製品、機能性繊維、ディスプレーの製造や、一連の関連するカスタムアプリケーションを最適化することができます。 PlasmaMAX ホローカソード は、形状をカスタマイズすることができるため、水平型インライン式の真空成膜装置、垂直型インライン式真空成膜装置、ロールツーロールのウェブコーティングプロセスにも容易に組み込むことが可能です。簡単にカスタマイズできるデ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性!
『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの 絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な 量産対応型プラズマCVD装置です。 インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ 接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。 【特長】 ■低温成膜 ■メンテナンス性 ■ウエハ取扱...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社セルバック
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優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現!スパッタカソードを標準装備していま…
『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。
真空機器関連商品 EBEP処理装置<FAP-EB/2D>は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高密度の活性種を生成することが可能。CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成し、様々な材料の精密成膜、エッチング...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績(20…
質の優位点】 ■目的とする表面エネルギー(接触角)をコントロールできる ■活性種ガス(OHラジカル等)の侵入部分の細部まで処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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従来比50%の性能UP!低N2消費(約45%削減)の大気圧プラズマ装置
乾燥工程不要 ■接触角(表面エネルギー)をコントロールできる ■活性ガス(各種ラジカル)処理なので、不織布や繊維束内部まで処理が可能。 ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■パーティクルフリー ■排ガス処理も不要 ■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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表面処理に関する技術資料を5冊まとめてプレゼント!
日本電子工業は1973年に独自のプラズマ熱処理装置「イオン窒化」を国内で最初に開発・実用化いたしました。 またセラミックコーティング、プラズマ熱処理そして高周波誘導加熱を基にし、熱処理のプロフェッショナル集団として産業界のニーズにお応えしています。 プラズマ熱処理装置「イオン窒化装置」をはじめ、独自技術を応用した熱処理設備の販売では、アジアをはじめ海外においても高い評価を得ています。 =...
メーカー・取り扱い企業: 日本電子工業株式会社 本社
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緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。
● 反応副生成ガスにも対応 カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他 副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 集合表示灯及びタッチパネル(オプション)、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能 乾式除害では処理できない可燃性ガス(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部
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大気圧下で表面処理が可能なプラズマ処理装置。樹脂/金属/ガラスなど様々…
弊社の大気圧プラズマ処理装置、Openair-Plasma(R)は、改質力に優れており、様々な表面の改質に導入されています。また、圧縮空気と電気でプラズマを発生することができオゾンレスのため、既存インラインへの導入が容易にできます。 Openair-Plasma(R)装置は表面の洗浄と活性化を同時に施すことができ、溶剤レス&乾式処理のため、生産プロセスの改善やコストダウンへもつながります。ま...
メーカー・取り扱い企業: 日本プラズマトリート株式会社
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【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上!炭素繊維を高…
め乾燥工程(ドライプロセス)が不要 ■目的とする接触角をコントロールできる ■活性ガス(OHラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がな...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あら…
電子顕微鏡観察用前処理のための新型オスミウムコーター。 これまで人の手によるオペレーションの難しかった部分を完全自動化。より安全に、より簡単にオペレーションできる、オスミウムコーティングの新次元。 タッチパネルを搭載し、簡単で明快な操作を実現しました。誰でも簡単に、電子顕微鏡用導電膜を成膜可能。 また、多彩なオプションもご用意。安全面や機能を拡張します。 徹底的にこだわり抜いた装置ですが、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真空デバイス
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大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」
ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置
ズマ装置の優位点】 ■ドライ処理のため乾燥工程が不要 ■目的とする接触角をコントロールできる ■活性ガス(各種ラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■添加ガス変更で、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への電気的、物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法
点】 ■ドライ処理のため乾燥工程が不要 ■目的とする接触角をコントロールできる ■活性ガス(OHラジカル等)の侵入部分全て処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■コンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンスト...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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