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60件 - メーカー・取り扱い企業
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ヨーロッパ 発の技術!Leuven instruments装置の日本国…
・Shale Cシリーズ:ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) 低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ:PE CVD(プラズマCVD) 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ:IBD(イオンビーム堆積) 低温低圧条件...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~8インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・~56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…
『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…
『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ・省フットプリント ・低CoO(低ランニングコスト) 【用...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…
AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・156mm角/125mm角ウェハ対応 ・1500枚/hの高生産性 ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 ・拡散/インプラ用ハードマス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」など...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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3L容器までコーティング可能!容器軽量化による物流コストの低減などに貢…
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 『立体物用プラズマCVD装置』 ■チャンバー容積:1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大量一括処理可能 ■高い汎用性を備えたシンプルな構造 ■様々な製品材質に成膜可能 『High-Rate Depo....
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…
常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
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3種類の堆積装置をラインアップ!用途に合わせてお選びください
株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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コンパクトで省電力!デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…
ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバ...
メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社
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パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。
膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本生産技術研究所
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対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等!基板加熱機構付き(最高設定…
当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作(シーケンサー制御)で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から生...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社DINOVAC
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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…
『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。 【特長】 ■FLOCONシ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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装置サイズを可能な限りコンパクト化!安定した成膜処理と低パーティクルを…
『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
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SiCトレーを採用!搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…
『A6300S』は、毎時120枚のスループットを擁する小口径ウェハ対応 大量生産用連続式常圧CVD装置です。 自動トレー交換装置、ヘッド昇降機構を備え、メンテナンス時間を短縮し 生産可能時間を延伸するとともに、お客様の大量生産のニーズとオペレータの 安全にも配慮しました。 【特長...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
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小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…
当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…
当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ(自動回転機構付き)があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系(最大5系統)を設置する事も可能です。 【...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック
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広範な膜特性の制御可能!大幅なパーティクル低減および生産性を向上します
『酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ仕...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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高い汎用性を備えたシンプルな構造!独自のプラズマ制御方式を採用していま…
『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャン...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…
当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック
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炉のスライド移動による急冷機構を搭載
グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱/急冷が可能 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ
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省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールか…
本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール(高周波,低周波各 1Set )、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。...※詳しくは外部リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターテック販売 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所)
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厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)
PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜(SiO2)形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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多彩なプラズマソースが搭載可能!CVD、MOCVDやALD装置をカスタ…
当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、 「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。 また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。 【特長】 ■研究開発や小規模バッチ量産向け装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…
中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...どのような形状の品物に対しても 制限なく使用できる、CVDコーティング装置 【特徴】 ○加熱炉一台にコーティングチャンバーを 2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な 自動プロセッサーによって監視され さらに制御及び調節装置を装...
メーカー・取り扱い企業: 中日本炉工業株式会社
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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』
最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度:800℃ ■最大4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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CVDコーティング装置向けモジュールヒーター
超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (P...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応…
当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。 【ドライエッチング機種(一例)】 Pishowシリーズ: ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種(一例)】 Shale Cシリーズ: ■IC...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中
除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見! 高温…
大手バルブメーカーKITZグループの一員である当社は、⽇々進化するエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行って...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…
RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置(CVD, MBE, PVD等)や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等)に対応可能。 4) 従来...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置
高真空装置で定評のあったMECA2000社の技術を引き継いだ高真空度を実現...真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取り扱ってまいりました...
メーカー・取り扱い企業: 西華デジタルイメージ株式会社
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日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ 無料配布中!
おります ◆◆掲載製品◆◆ ○トランジスタインバータ ○酸化物単結晶引上装置 ○自動直径制御装置 ○μ-PD装置 ○超小型単結晶引上装置 ○SiC-CVD装置 ○Gap.InP高圧合成装置 ○高温アニール装置 ○SiC単結晶成長装置 ◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆...
メーカー・取り扱い企業: 日新技研株式会社
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簡単大気圧でSiO2コーティング!プラズマコートUL-Colat
弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 …
今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 厚みは処理条件によりコントロール可能。(速度、液量、距離など) 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。 操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
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排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。
● 反応副生成ガスにも対応 カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他 副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 集合表示灯及びタッチパネル(オプション)、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能 乾式除害では処理できない可燃性ガス(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部
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Nd:YAGレーザパルス蒸着システム
AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-221-Y PLDシステム
AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社