Sievers バイオバーデン迅速分析装置 Soleil

PRバイオバーデン試験を45分にしませんか？

バイオバーデン試験は、医薬品の安全性、品質、コンプライアンスを確保するための重要な品質管理プロセスの1つです。公定法では微生物培養が必要なため、結果判定までに1週間程度を要します。Sieversが開発したバイオバーデン迅速分析装置Soleilは、45分以内で100mL中10個未満の生菌数を超高純度に検出できます。公定法とも相関性が高く、医薬品の安全性と製造プロセスの効率性を高め、リスクを最小限に抑...

メーカー・取り扱い企業： セントラル科学株式会社

VPI成形工程～B型セットから脱型～

PR材料ロス、工数、廃棄物などを大幅に削減！新しい成形法のご紹介

「真空プレス成形」は、材料ロス、工数、廃棄物などを大幅に削減し、 成形サイクルの短縮、寸法安定性の向上、より高品質な外観（又は、より滑らかな積層表面）の形成などを もたらすことが可能なHLU/SPU/L-RTM成形法などに代わる新しい成形法です。 作業者の熟練度に関わらず同じ品質の生産が安定して出来る事だけでなく 昨今、労働安全衛生法第28条第3項改正により、管理措置対象物質となっているスチレン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社GRPジャパン

半導体チップ温度Tj測定法の種類と特長

試験を実施するにあたりどの方法で測定するのかを選択することが重要な要素…

半導体チップ温度Tj測定法の種類と特長について説明します。 パワーサイクル試験は、デバイスへの通電電流による発熱により Tj(半導体チップ温度)が一定の温度変化を繰り返した際の 熱ストレスに対し、その耐久性を確認す...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

精密研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

試料研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

小型試料研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

小型鏡面研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上鏡面研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上精密研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

鏡面研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

小型精密研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上試料研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、ご遠慮なくご連絡ご相談下さい！ 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜を...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

異形条切削ライン・異形条洗浄研磨ライン・異形条レベラー

異形条切削ラインや異形条洗浄バフ研磨ライン、異形条レベラーも製造いたし…

前工程として、凸凹をはじめとした 様々な形にしたものです。主に電子産業における端子部品やLEDの分野に 多く使用されています。 異形条の種類は夥しくまたその形状も変化しやすいことから、切削法が 一般に使われています。 しかし、圧延法による製造でも前工程では切削法を採用する場合もあり、 今日ではその製造法は重要な役割を担うようになりました。 当社では、異形条切削ラインの製...

メーカー・取り扱い企業： 生田産機工業株式会社

緊急除害装置(S-CDシリーズ)

毒性ガス漏洩の緊急時に無害化します。（高圧ガス保安法一般則第55条第1…

緊急除害装置「S-CDシリーズ」は、高圧ガス保安法に対応した緊急用乾式除害設備です。 （高圧ガス保安法一般則第55条第１項） ● 特殊高圧ガス（７種）の他、アンモニア、塩素など、各種ガスの仕様に合わせた安全設計 ●排気ブロワーのインバーター制...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

軟質PVCフィルム『アキレスバイオマスセイデンクリスタル』

バイオマス材料を使用し、環境負荷低減に貢献。優れた帯電防止・防炎効果を…

従来品と変わらない 優れた帯電防止性能および防炎性能を備えています。 【特長】 ■原材料の一部に植物由来のバイオマス材料を使用 ■帯電防止性能を有し、表面抵抗率10^9Ωを発揮 ■消防法施行令第4条の3に適合した防炎性能 ■REACH規則・RoHSII指令の海外法規制に対応 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： アキレス株式会社 化成品事業部フイルム販売部

【磨く技術】超精密ラッピング加工/超精密ポリシング加工

セラミックから金属・ガラス・単結晶など、幅広い素材に対応！当社の加工技…

行い、加工物を微少切削しながら研磨することに よって、加工物をより平坦に仕上げていく遊離砥粒加工です。 「超精密ポリシング加工」は、ラッピング加工された梨子地面を平坦な 鏡面に仕上げる研磨法で、硬質な材料についてはダイヤモンドパウダーを 使用したハードポリシング加工と酸化物及び磁性材料などはメカノケミカル ポリシング加工などがあります。 【超精密ラッピング加工 特長】 ■加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社新興製作所

プラズマダイシング装置『MDS-100/MDS-300』

複数サイズのウェハに対応！誘導結合プラズマを使用したBosch法による…

理が可能なプラズマダイシング装置です。 高い均一性を保ちながら、ソーやレーザのようなウェハへのダメージを 発生させずに処理を行うことが可能。 高速ガス切り替えシステムを用いたBosch法によって、優れた側壁形状および 自由な形状での加工を実現し、既存の手法と比較して優れたダイ強度を 提供いたします。 【特長】 ■ダイの品質/歩留まり/ダイ形状の自由度向上に優れた処理能力...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

2020版 薄膜作製応用ハンドブック

｢21世紀版薄膜作製応用ハンドブック｣から17年、基礎を押さえつつ、新…

面特性 　5章 薄膜材料の磁気特性 　6章 薄膜材料の光学特性 　7章 薄膜材料の力学特性 　8章 薄膜材料の化学特性 第2編 薄膜の作製と加工 　1章 基板と表面処理 　2章 PVD法 　3章 CVD法 　4章 液相薄膜堆積法 　5章 有機・高分子・生体関連薄膜作製法 　6章 パターン化技術 　7章 薄膜の加工／改質技術 第3編 薄膜・表面・界面の分析・評価 　1章...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エヌ・ティー・エス

フッ素系溶媒対応チラー　ペルチェ式チラー・冷凍機式チラー

昨今入手困難で貴重なフッ素系溶媒の使用量を抑えることができるチラーです

定温度 : -10～80℃ / -15℃~70℃ 冷却能力 @20℃：1320W / (H)1600W (M) 1800W 1 (L) 2000W ポンプ：14Lpm@0.21MPa 外寸法(WxDxH)mm：483 x 610 x 221 ＜Thermo Cube＞ 設定温度 :５～50℃ (-5℃～65℃オプション） 冷却能力 @20℃ ：200W～600W@20℃(6モ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、 その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成す...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

断熱材『ヒートカバリングス』【貼るだけで大きな省エネ効果！】

設備の上から貼るだけで約１０％の省エネ効果を実現。工場を止めることなく…

気層を最大限に活用した画期的な天然素材系断熱材です。 【製品情報】 ○HC-F7（平面用） →使用温度範囲：150℃以下 →熱伝導率（参考値）：0.04344W/mk（20℃・平板熱流計法） ○HC-P11（配管用長尺タイプ） →使用温度範囲：150℃以下 →熱伝導率（参考値）：0.04146W/mk（20℃・平板熱流計法） ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧...

メーカー・取り扱い企業： 富士工業株式会社

精密溶接加工【気密溶接】

40年のノウハウと徹底した工程内品質管理が可能にした気密溶接技術【マイ…

【マイクロプラズマ溶接法】 弊社で使用しているマイクロプラズマ溶接法はスイス・セッシロン社（現OERLIKON社）が欧州原子核研究機構（CERN）施設の装置開発の必要に迫られできた溶接法。とても気密性の高い技術で、弊社の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッセイ機工

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能 6) 数mmまでの厚膜ウェハに対応可能...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

独自高密度スパッタ法　アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

【特徴】 　・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術 　・低温で低エネルギー照射が可能 　・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】 　・超硬工具用保護膜（c-BN） 　・食品用バリア膜（アルミ）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

成膜装置『ロールコーター』

ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を実現！成膜…

ロールコーター』は、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に 表面処理をする装置です。 ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を可能にし、 成膜は、プラズマCDV法、スパッタリング法、真空蒸着法等のプロセス を組み合わせたマルチプロセスが可能です。 また、素材ロールの脱ガス対策にTMP＋CRT排気システムの採用しました。 【特長】 ■ドラムレス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社C&Vテクニクス

回路形成材料　アデカエイフェススーパーシステム

自動管理装置「アデカエイフェススーパー装置」による液管理

回路形成材料「アデカエイフェススーパーシステム」は、専用エッチング液「アデカケルミカＴＦＥ－３０００シリーズ」により、サブトラクティブ法による微細配線を実現します。ピッチ２５μｍ以下ＣＯＦにおいて、高エッチファクターの回路形成を可能にします。自動管理装置「アデカエイフェススーパー装置」による液管理により、安定したファインエッチングを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

【磨く技術】超精密ポリシング加工

ラッピング加工された梨子地面を平坦な鏡面に仕上げる研磨法です。

ポリシング加工とは、ラッピング加工された梨子地面を平坦な鏡面に仕上げる研磨法です。ラッピング加工に比較して、圧力をかけて加工することは変わりありませんが、加工液加工媒体はまったく違います。ポリシング加工には硬質な材料についてはダイヤモンドパウダーを使用したハードポリシング加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社新興製作所

【資料】コーティングの処理方法によるメリット比較表

処理方法の選定に！乾式法と湿式法のメリット・デメリットを掲載しています

当資料は、成膜・塗工速度、コスト、基材の性質、形状などコーティングの 処理方法によるメリット比較表です。 ニデックでは、乾式・湿式のコーティングからご要望に合った処理方法を ご提案。 真空蒸着処理「Lequa-Dry」は、低コストでガラス・樹脂などの素材に ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニデック コート事業部

【安衛法ナノ粒子対策に適応　ラミコーチL645-H】興研代理店

■安衛法ナノ粒子対策適応■HEPAフィルタ搭載■ダクト室外排気(ファン…

■労働安全衛生法のナノ粒子対策に適応しています。 興研株式会社製　「ラミコーチ　LAMIKOACH L 645-H(ダクト排気タイプ)」 ◆同一ベクトル集合流でコンタミをしっかりと捕捉 ◆クリーン化された吹き...

メーカー・取り扱い企業： 泉州機工株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

金属のヘアライン加工とは？鏡面仕上げとの違いと表面処理のメリット

鏡面仕上げは光沢があって見た目が良いはずなのに、これらの製品に鏡面仕上…

採用されていない！？金属の表面加工の目的とは？ 2. ヘアライン仕上げって何？実はメリットがたくさん！研磨による表面処理でヘアライン加工を行なう理由とは？ 3. ヘアライン加工にはどんな研磨方法が良いの？金属や樹脂の表面処理に最適なヘアライン仕上げのやり方とは？ 4. ヘアライン加工のような金属の研磨による表面処理なら三共理化学株式会社にお任せください！ 5. 研磨で金属や樹脂の表面処...

メーカー・取り扱い企業： 三共理化学株式会社

SiC半導体評価装置「SemiScope」

フォトルミネッセンス(PL)イメージング法を用いたSiC半導体評価装置

らイメージング測定を行うタイリング機能を用いることで、約33億画素の解像度で6インチウェハ全面のPL画像を得ることができます。 SiCウェハの結晶欠陥を可視化。非接触・非破壊検査がPLイメージング法で短時間測定可能です。 【特徴】 ○SiC半導体評価装置 ○SiCウェハの結晶欠陥を可視化 ○非接触、非破壊検査 ○PLイメージング法のため短時間測定が可能 詳しくはお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトンデザイン

卓上平面研削機 テクノラップ、テクノラップステップオート　研究用

教育機関、研究室・実験室向けに小型化した立軸平面研削機！カップ型ホイー…

加工面積は変動 ・ テープル作業面積 　　W78 × L130mm ・ テープル左右移動量 　　自動120mm、手動130mm ・ クーラント 　　ポンプ循環式タンク別置（20L・40W） ・ 寸　法 　　W800 × L450 × H850mm ・ 本体質量 　　80kg ※　お気軽にお問い合わせください！...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることがで...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

エッチング加工

精密写真と写真腐食法の応用から生まれた技法！極小極薄・複雑形状の製品に…

は、マスキングによる防食処理を施した上で、 腐食液によって不要部分を除去するものです。 プレス打ち抜き加工では不可能だった超精密な要求にも対応できる、 極小極薄・複雑形状の製品に好適な加工法。 また「フォトエッチング加工」は、エッチング加工技術に 精密な写真技術・ 精密画像技術を組み合わせた精密加工技術です。 精密写真と腐食加工の応用により、エレクトロニクス製品などにおけ...

メーカー・取り扱い企業： 平井精密工業株式会社

ピンホールテスター

ピンホールテスター

定性漏れ試験法の液没試験に対応した「リークテスター」です。 アルミやプラスチックフィルムの食品や化粧品包装の定性漏れ試験に簡易型＆廉価型パッケージテスターが便利！ ※外径6φのナイロンチューブや真空ポンプが別途...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンプラテック

薄膜形成

薄膜形成

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。 弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、 フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッ...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

梨地（ナシジ）処理

艶消し処理が必要な場合に最適

梨地処理とは、金属表面などの素材に鉄・砂・ガラスなどの粒子を吹き付けて、表面を粗す方法です。 機械的または化学的に表面を荒らして仕上げる方法（JIS　H　0400　電気メッキ用語）です。光沢梨地、半光沢梨地、無光沢梨地があります。加工法は、ワイヤブラシ法、サンドブラスト法、分散...

メーカー・取り扱い企業： 三和メッキ工業株式会社

「磨く」技術のご紹介！両面研磨・片面研磨が可能※加工事例進呈

ラッピング加工、ポリシング加工（鏡面研磨法）の2つの手法を用いてご希望…

当社では、セラミックスをはじめ、結晶材料、ガラス、金属、樹脂まで 幅広い材料の『精密切断・研磨加工』を手掛けています。 その中でも『磨く技術』では ラッピング加工、ポリシング加工（鏡面研磨法）の2つの手法を用いて ご希望の表面粗さに仕上げさせて頂きます。 【当社の磨く技術の特徴】 ■幅広い難削材の加工に対応可能 ■数千～数万個を同時に加工OK ■パワー半導体市場でニーズが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社新興製作所

マイクロコンタクトプリンター　PA400

シンプルな構成で、多方面での応用が利くマイクロコンタクトプリンター

●本装置は、ハーバード大学のG．Whitesidesによって提唱された「マイクロコンタクトプリンティング(micro contact printing)」法に対応するマイクロコンタクトプリンター装置です。 ●マイクロコンタクトプリンティング法は急速に展開してきた有機エレクトロニクス分野で次世代デバイス製造法として注目を集めています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

高性能のまま低価格を実現！『単結晶育成引上工程用ロードセル』

【ＣＺ法単結晶育成装置用】種付けから回転引上げ、インゴット完成まで重量…

単結晶育成時の初期工程と自動直径制御(ADC)に使用される高性能ロードセルです。 回転しながら成長する単結晶の重量を正確に安定した電気出力に変換します。 チョクラルスキー(CZ)法による引上げ装置の重要なセンサとして使用できるよう、ロードセル検出部には独特の荷重センサを用いました。 ロードセルの使用温度範囲では補償回路の働きにより、ロードセル自体では冷却用の不活性ガスを必要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テンサー センサーシステム事業部

超高感度DLTS　バルク内欠陥・界面準位測定装置

不良及び結晶欠陥の解析に有効！幅広いクライオスタット用のインターフェイ…

バルク内欠陥、界面準位の高感度な 測定に対応。ライブラリーを標準装備しておりますので解析が容易に行えます。 高感度アナログ／デジタル（測定はアナログ、データ処理はデジタル） ロックイン平均法を採用したユニークなシステムで、且つオペレーター フレンドリーなソフトを装備しています。 【特長】 ■高感度な汚染検出が可能（2x10^8atoms/cm3） ■幅広いクライオスタット用...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

電子グレードCVD

横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm！電子グ…

ダイヤモンド合成のCVD法の目覚ましい進歩により、放射線検出に適した 特性を持つダイヤモンドを定常的に製造することが可能になりました。 CVD法の継続的な改善により、将来的にはエキサイティングな進歩を遂げ、 大面積...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

電解研磨機『ECPシリーズ』

時代のニーズに応えハイテク時代を切り拓く！高機能・高精度の研磨加工を実…

CPシリーズ』は、高機能・高精度の研磨加工を実現した電解研磨機です。 電解液中で金属表面を高電流密度にて電解することにより、金属表面の 微小突起に電流が集中して突起部を溶解して平坦にする加工法。 ワーク材質は、ステンレスが主な対象です。 他の加工法に比べ、高速仕上げが可能です。 【特長】 ■耐蝕性を向上させる ■加工面の摺動抵抗の低減に好適 ■内表面の面粗度向上に好適...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社中央製作所 東京支店

バロネス管理機　ラッピングマシーン　「RM20B」

刃の研ぎ直しをするまでの中間仕上用として、芝刈機整備の必需品！

機　ラッピングマシーン RM20Bは、刃の研ぎ直しをするまでの中間仕上用として、芝刈機の整備には欠かせない必需品です。手押し芝刈機から大型ギャングモアまで簡単にラッピング研磨ができます。電気用品安全法(PSE)に対応しています。移動に便利な車輪付です。付属のコードは5mです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社共栄社

【FIB】FIBによる配線修正・回路修正(回路変更)加工サービス

正確・迅速・短納期で回路変更を目的とした半導体内部配線修正を行います

ます。 サービス開始から約30年が経ち常に技術向上させ、正確・迅速・短納期で高歩留まりを実現し、お客様から高評価をいただいています。 また、FIBでは断面観察はもちろんのこと、ダイシング法、リフトアウト法によるTEMサンプル作製も承っており高い実績を誇っています。 セイコーフューチャークリエーションのFIB技術をぜひご活用下さい。...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

優れた耐蝕性を発揮し、色鮮やかな表現が可能なアルマイト染色銘板

色鮮やかな表現が可能で安価なアルミ銘板！陽極酸化被膜（アルマイト処理）…

アルミニウムの平板の表面にアルマイト（陽極酸化被膜）処理を施し、写真焼付法で文字や線・図柄を表現する方法です。これにより、アルマイト層の中に染料が密封されるので、シンナーなどの溶剤にも侵されることなく、優れた耐蝕性を発揮します。 工作機械のＰＬ銘板、操作パネル、機械の説...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーホー 本社

【材料コスト削減をお考えの方必見】光学薄膜用蒸着材料

材料には高純度・安定した溶解が要求されます。当社では、蒸着に適した材料…

光学薄膜の作成には真空蒸着法が多く用いられています。 真空蒸着法は材料を加熱・溶解し、発生した蒸気を基板上に 凝集させ薄膜化する方法です。 材料には高い純度と安定した溶解が要求されます。ソルテックでは 長年の研究の結果、蒸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソルテック

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ジー ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能と...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

SiC・GaN基板研磨加工サービス『CARE-TEC(R)』

SiC・GaN基板をCARE法で加工します！

【CARE法の特長】 ■加工能率が高く、コストを低減 ■砥粒を使わず、傷や変質層が残らない→歩留まり100% ■原子レベルの超平坦性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 東邦エンジニアリング株式会社

ブリネル硬さ試験 (DIN EN ISO 6506)

QATMすべてのモデルがブリネル硬さ試験に加えて複数の試験法に対応して…

1900年にパリで開催された万国博覧会で、スウェーデンのブリネル（Johann August Brinell）が新しい硬さ試験法を発表した。 これは、超硬球を一定の力で試料の表面に垂直に押し付けることで、試料の表面にくぼみを作る方法である。これにより、試料の表面にくぼみができる。測定顕微鏡で圧痕の直径dを求め、ブリネル...

メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社

カーボンコーター　SC-701CT

個人差のないカーボン蒸着が可能に！ EPMA・分析SEMの前処理用とし…

の試料作製の手間を省いたカーボン蒸着専用コーターです。誰でも簡単・手軽にカーボン蒸着できます。 個人差のない蒸着を実現し、試料に対する熱ダメージを低減します。 【特長】 〇フラッシュ式蒸着法を採用　→　個人差のないカーボン蒸着を実現 〇蒸着作業時毎にカーボン棒を削る手間を省く 〇ロータリーポンプのみによる排気(低真空)のため、試料表面へのカーボン粒子の回り込みに優れる 〇オプショ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社