コリオリ式マスフローコントローラ/メータ　Quantimシリーズ

PRコリオリ式微小流量の測定と制御の業界標準！幅広い流量レンジで液体・ガス…

『Quantimシリーズ』は、微小流量のガス/流体測定や制御において、高い 精度とゼロ安定性を実現するコリオリ式マスフローコントローラ/メータです。 特許取得済みのコリオリ式センサは、流体のタイプやプロセス変動に関係なく、 低流量の測定が可能。 その結果、条件が変化する場合でも、精度、安定性、繰り返し性、再現性の 高いマスフロー測定と制御を実現し、卓越したパフォーマンスを提供しま...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社

【防災・BCP対策】非常用LPガス発電機

PR防災・停電対策・BCP対策向け非常用電源には災害に強いLPガス発電機を…

豊富なラインナップからお客様に適した発電機をご提案。 【LPガス発電機のメリット・優位性】 ■ガソリン発電機のように使用後放置してもキャブレターが詰まらない ■スズがでず、大気汚染物質の排出量が少なく、CO2も削減できる ■燃料の保管が容易のため、必要な量に応じて備蓄可能。72時間も対応可能。 【LPガスのメリット・優位性】 ■分散型エネルギーで復旧が早い。 ■国土強靭化計画で「エネルギー供給...

メーカー・取り扱い企業： 富士瓦斯株式会社（フジガス）

排ガス処理装置（スクラバー）

排ガス・風量に応じた室内型スクラバーを装着することにより、排ガス処理設…

・エッチング、洗浄装置などの装置に合せて設置が可能です。 ・酸・アルカリなどのガスを適切に処理します。 ・スクラバーで適切に処理することで後工程のダクト、装置への影響がありません。また、室外へ排気された場合でも周辺環境や人体への心配もありません。 ※詳しくはPDF（カタロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

排ガス処理セット　ES-F1

エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

塩化第2鉄エッチング液用活性炭が異臭や酸を吸着する、排ガス処理セット...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

セトラ社　ウルトラクリーン圧力センサ　モデル２２５シリーズ

特殊ガス用途に開発された静電容量方式の圧力センサ

セトラ社のモデル２２５は特殊ガス用途に開発された静電容量方式の圧力センサです。配管時のトルクストレス、低温ガスのフローによる温度変化、外部からの高周波ノイズなどの影響が受けにくい構造になっています。...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

：表面改質クリーニング • PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去 • テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング • h-BNサイドウオールエッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, SF6ガス系統要） • SiO2エッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, CHF3ガス系統要） 【仕様】 ◉ 対応基板：〜Φ6inch ◉ 7"タ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

標準５００ｍｍ□のステージを装備したバッチタイプ平行平板型プラズマエッチング装置。 高周波プラズマを標準とし電極の切替によりRIE・プラズマエッチングのどちらのモードにも対応。 Ｆ系ガスによるエッチング・アッシングを標準的なプロセスとしＳｉ系・ＳｉＯ2系・ＳｉN系のエッチング及びアッシングに対応。またＡｒガスを主とした基板のクリーニングやＯ2ガスによる表面改質など多様な用途に実績。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

半導体関連装置 「ウェット式エッチング装置」

ドラフト構造でクリーンルーム仕様！エッチング処理やレジスト除去する装置

「ウェット式エッチング装置」は、半導体関連で使用される各ウェハーをバスケットに入れ、X-Y-Zロボットにて、エッチング処理やレジスト除去の作業を行います。 発生ガス、及び空気は、薬品系、有機溶剤系に出来るだけ分けた状況での排気が可能。 使用不可となった薬液（フッ酸、 塩化鉄）と、有機溶剤（アセトン）は付設の専用タンクへ一括排出します。 クリーンルームでも使...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社

セトラ社　ウルトラクリーン圧力センサ　モデル２２４シリーズ

特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサ

セトラ社のモデル２２４は特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサです。 　モデル２２４はパージ効果の高い流線型のセンサチャンバを持ち、ガスの流れによる瞬時の温度変化の条件下でも優れた安定性を実現するように設計...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

ガスボックス

ガスボックス

系統図、使用ガスの流量を御指示いただければ、確かな物を安価で迅速に供給できます。 【製造事例】 ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社湘南テクノ

アルミニウムの電解研磨

アルミニウムの電解研磨

アルミ製真空装置部品に、アルマイト等の表面処理を行うと、皮膜がポ−ラスなため放出ガス量が上昇してしまいます。アルミの電解研磨処理は比較的緻密な皮膜が形成されるため、放出ガスの上昇を抑えることができます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エムテック

焼付固着を防止できるボルト『SDCクリーンボルト』【潤滑剤不要】

潤滑剤・めっきを使わず焼付・カジリを防止！クリーン環境に最適な六角ボル…

】 ◎不純物を極力嫌う半導体製造装置やクリーンルーム内 ◎食品・飲料関係 ◎医薬品・化粧品関係の製造装置や配管部 【特長】 ◆潤滑剤やめっきなどを使用せずに焼付き固着を防止 ◆アウトガスも発生しない 【詳しくはカタログダウンロードまたはお気軽にお問い合わせください】...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・マルチレンジ対応MFCを取り揃えて...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

【デモ実施中！】小型実験用イオンビームエッチング装置

【デモ実施中！】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

ルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以下での処理が可能です。 微細加工に最適です。 【特徴】 ●有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ●エンドポイントディテクター搭載可能 ●イオンビームエッチング装置、イオン源、イオンビーム技術の 　お問合せやご質問、デモンストレーションについては 　お気...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意しています。 マルチガス・マルチレンジモデルは、スペアMFCの在庫の大幅削減に寄与する事でコストダウンを図っています。また、流量のモニタリングと制御を...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

小型イオンビームエッチング装置

イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特長】 ○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング ○テーパー加工が容易 ○基板表面温度 ８０℃以下での処理が可能 ○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ○エンドポイントディテクター搭載可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

ECRアトムソース

低圧動作のECR型アトムソース

ECR励起プラズマ中からアトムフラックスを生成します。低圧動作特性に優れたECR方式のアトムソースです。フィラメントレス構造のこのアトムソースは窒素、水素、酸素などのガス種からのアトムフラックスの生成が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： アドキャップバキュームテクノロジー株式会社

ICP エッチング装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！

N層の特別処理が可能； pGaNの高エッチング選択比を実現、AlGaN層に低損失制御； 超低出力工程に対応 ・Pishow D： DRIE技術をベースに、Si、SiCの深掘りに対応； ガスの切り替え速度＜1s； BOSOH工程に対応可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…

（１）難エッチング材料を微細加工可能 （２）金属多層膜をワンステッププロセスで加工可能 （３）自公転ステージにより、複数ウエハを均一に同時処理可能 （４）基板冷却ステージ(水冷 or 水冷/ガス冷)により基板温度上昇を抑制し、レジスト焼け防止 （５）ステージ角度可変のため、テーパー加工が容易（異方性エッチング）...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

【SEMICON JAPAN2021に出展いたしました】 多くのお客様にブースにお寄りいただきありがとうございました。 【半導体製造装置の流体制御に】 半導体製造工程においてはプロセスガスの高精度な流量制御が不可欠です。厳しい条件下で高いパフォーマンスを発揮する各種圧力センサ、カスタマイズできるモジュール機能などをご提供しております。 【注目製品】 新製品：温度変化に強いAD...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

超小型マイクロ波プラズマ源　SMPS-201

超小型マイクロ波プラズマ源　SMPS-201

ガスラインや排気ラインの途中に取り付けて 使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源 【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新方式のマイクロ波供給方式により高密度プラズマを実現 ○完全シールド構造により、マイクロ波漏洩に対して極めて安全 ○完全空冷式で冷却水は不要 ○各種活性ガスの使用が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など 　各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源（オプション）の 　使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な導波管接続が不要 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

●完全ドライプロセスであるため、スティクションによる自立デバイスの破壊を抑制することが可能。 ●ウエットプロセスにおける前処理、後処理が不要。 ●ガスを断続的に流し、エッチングすることによりエッチングのスピードおよびガスの使用量の制御が容易。 ●プラズマを使用しないため、電界による素子へのダメージ（電子またはイオン衝撃）がない。 ●研究開発用...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

半導体材料　高純度エッチングガス

半導体・ＦＰＤ・光通信の各分野の発展に貢献、業界トップシェア

１９８１年に高純度液化塩素の製造を開始して以来、高純度ガスのパイオニアとして半導体、ＦＰＤ、光通信の各分野の発展に貢献してまいりました。お客様との対話を通して培われた製品精製技術、分析技術、容器洗浄整備技術、クリーンな作業環境の維持等々、品質管理においては...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

波プラズマ源装備アッシング室２室装備。枚葉式ロードロック室１室装備。マルチチャンバタイプ。 コンパクトな設置寸法でハイスループットを実現。豊富なオプション類（ＲＩＥ室・ＩＣＰ室・加熱・冷却室・追加ガス系）による通常のアッシング岳でなく。マルチステップアッシング・各種有機膜エッチング・エッチング／アッシング複合装置として多くの用途・プロセスに対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で 重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。 【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ■接ガス部にインコネルを採用 ■CEマーク対応／RoHS準拠 ■接続継手の選択が可能 ※『730シリーズ』のカタログはPDFダウンロードよりすぐにご確認いただけます。 　そのほかご不明点はお気軽...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

枚葉式プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ－Σ」

ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…

３～８インチウェハ対応の大気搬送型ＣｔｏＣシステム。 平行平板型ＲＩＥ装置を基本とし、電極切替によるマルチモードプラズマによりソフトモードプラズマ処理を実現 ＣＦ系、Ｏ２、Ａｒ、Ｈ２などのガス系とプラズマモードの組み合わせにより差的なプロセスを選択可能。 オプションで両面処理機能・３００ｍｍウェハや矩形基板の処理に対応 プロセス室を追加したハイスループットタイプもラインナップ。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」サンプルテスト受付中

コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテス…

標準仕様 ステージ寸法：２５０ｍｍ□　エッチング方式：ＲＩＥ　ＣＦ系ガス標準 シンプルな機構でＲＩＥ／ＤＰモード切替可能 ステージ温度制御（水冷／加熱）選択可能　 ステージ寸法大型化（最大５００ｍｍ□）対応可能　...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

m(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量：20kg ■真空ポンプ：ドライポンプ（15L） ■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応可能ガス：CF4、N2、D.A、Ar、O2等 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及び イオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

エッチング実験装置『ミニミニエッチャー』

少量の薬液でのエッチングが可能！容易な薬液の交換で実験・開発に好適です

【ラインアップ】 ■縦型・左右スプレー ■横型・上下スプレー ■水平揺動型・上下スプレー ■搬送型 ■ドラフトチャンバー型 ■ドラフトチャンバー型・排ガス処理装置付 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シマテック

グラッシーカーボン　加工品で納品もOK・石原ケミカル株式会社

高純度のカーボン素材でパーティクルがなく、気体を透過しません。しかも軽…

グラッシーカーボンは黒色ガラス状の炭素素材で『樹脂を焼成してからさらに熱処理を加えてカーボン化』した製品です。 耐薬品性や電気伝導性に優れ、黒鉛に比べるとパーティクルが出ず、ガス透過の心配がないので半導体装置用部材に使用されています。 他にも溶融金属が付着しにくい特長もあり、熱処理用部材としてもご使用いただけます。 石原ケミカルではセラミックス加工での実績のもと、高...

メーカー・取り扱い企業： 石原ケミカル株式会社 高機能材料

【潤滑剤・めっきを使用せずに焼付固着を防止】SDCクリーンボルト

独自の技術であるSDCプラズマ表面硬化処理により、潤滑剤・めっきを使用…

内、食品・飲料関係、医薬品・化粧品関係の製造装置や配管部では、ボルト・ナットに潤滑剤やめっき・コーティングなどの焼付き防止対策が使用できないことがあります。一般のステンレス鋼製ボルト・ナットはアウトガス発生の恐れもあり、化学研磨されたものも使用されますが、締付け時に焼付き固着を起こしやすいという問題が発生します。そこで弊社は自社技術の「ＳＤＣプラズマ表面硬化処理」の適用により、潤滑剤やめっきなどを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

FC-R7800シリーズは、高精度の流量制御を行うだけでなく、 メタルシールによる優れた高い気密性を備え、主要なガス制御アプリケーションに適したシステムです。 業界標準またはAera独自の電気系接続部を選択できるため、利便性があり、既存のマスフローコントローラ（MFC）と素早く簡単に交換できます。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

二宮システム製　ITOエッチング装置

二宮システム製　ITOエッチング装置

【特長】 ○高精度エッチングシステムによりファインピッチが可能 ○強い腐食性ガスでも本体はALL塩ビ製の為、高い耐食性を確保 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム