株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー

光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント機能搭載です。

当製品は、UV-LED光源搭載の自動一括等倍露光装置（マスクアライナー）です。 弊社の特徴として、フォトマスクとウエハを完全非接触でステージとマスクの自動平行調整が行えます。 超精密UV…

段取り替えなし！インチ兼用自動リフトオフ装置

【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理！】複数サイズ兼用装置はダウンタイムが少なく、生産性が高いリフトオフ装置を実現！

ウエハサイズ違いによる段取り替えがなく、生産性UP！ 製品の種類によってインチサイズが違う、将来的に大きいサイズのウエハを処理したいというご要望が大変多いです。 そこで、段取り替えをしない…

枚葉式でDIP！？膨潤・高圧ジェット併用リフトオフ装置

【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥離力・低消費薬液での膨潤・高圧ジェットリフトオフを実現！

【枚葉式の装置でDIP並みの膨潤】＋【超高圧ジェット】の組み合わせで、取れづらくなったレジストを完全除去！ ●【膨潤＋高圧ジェット】の繰り返し処理でがんこなレジストを除去可能！ ・高温ベークで…

高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現！

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 …

短時間剥離！手動リフトオフ装置（マニュアル機）Lift-off

短時間剥離！当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現しました！

研究開発用途で活躍するマニュアルリフトオフ装置をご紹介します！ アセトンや専用剥離液で一晩浸漬した後に超音波やスプレーでリフトオフをするような長時間工程を短くできます。 当社独自の特殊ノズ…

半自動リフトオフ装置（セミオートリフトオフ機）Lift-off

自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフトオフ装置です。

ウェハ（基板）をセットするだけで自動で搬送・リフトオフ・リンスを行う装置です。 リフトオフはASAP特殊ノズルによる高圧ジェットによりバリも除去し、メタル剥離を行います。 カセット（キャリ…

ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー）

実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせて、枚葉による高速処理・高洗浄力・低消費薬液が可能。

当社のスクラバー装置は、当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高洗浄力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1…

ウェハソーター

正確に、素早くソーティング。キャリアに挿入されたウエハを自動で取り出し、ソーティングします。

当製品は、ローダーキャリアからウエハを取り出し、 シリコンウエハに印字された文字を読み取り、 オリフラ位置の位置合わせを行ったうえで アンローダーキャリアへ戻す、自動ソーティング装置です。 …

半自動両面同時露光装置（セミオートダブルマスクアライナー）

ベルト搬送方式によるウエハ表面、裏面を同時に露光可能な装置です。 fast露光モード、アライメント露光モードを設定可能。

当製品は、半自動両面同時露光装置です。 ウエハキャリアからの取り出し、搬入をベルト方式に行います。 マスクとウエハはコンタクトし、同時に露光を行います。 アライメントなしのfast露光…

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォトリソ工程装置の総合メーカーだから実現可能な特殊装置です。

当製品は、スピンコーティング、一括等倍露光、現像処理を自動で行う装置です。HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載可能。 設計から製造・販売まで自社で行い、コーター、アライナ、デベロッパのフォ…

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WA…

2サイズインチ兼用自動等倍露光装置（オートマスクアライナー）

サイズ切替が容易なウエハ2サイズ兼用オートマスクアライナー。簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント。

当製品は、オート一括等倍露光マスクアライメント装置です。 φ3、4インチ　φ4、６インチなどの2サイズのウエハが兼用可能です。 切替作業は、非常に簡単。3つの部品を交換するだけでOK。 搬…

角基板対応自動レジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WA…

手動等倍露光装置（マニュアルマスクアライナー）

簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送系が無い低価格手動マスクアライナー。

当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。 ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。 面倒なフォトマスクとウエハの平行…

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置も作製可能です！

【特長】 ■低価格を実現 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応 ■2～12インチまで対応 ■複数サイズウエハを処理可能（例、3・4・5インチ兼用、8・12インチ兼用) ■ウエハ…

半自動等倍露光装置（セミオートマスクアライナー）

簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送ユニット搭載の半自動マスクアライナー。

当製品は、半自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を1枚毎にセットし、 基板セット後，搬送～露光を自動で行う装置です。 フォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行います…

自動等倍露光装置（オートマスクアライナー）Maskaligner

簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。オートアライメント機能搭載のオートマスクアライナ―。オーダーメイドも可能！

当製品は、オート一括等倍露光マスクアライメント装置です。 フォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行います。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマ…

反りウェハも搬送！ベルト搬送式自動レジスト塗布装置（コーター）

ベルト搬送タイプのトラックシステムスピンコーターです。高スループットでありながら、どんな反りウェハでも搬送可能です！

【特長】 ■ベルト搬送で高スループット（処理能力が高い） ■反りウェハの搬送も可能！ ■低価格を実現 ■自動ウェハサイズ認識システム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ■省…

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っているからです

枚葉式でウエハ上に現像液を液盛りして現像を行います。 ディップ方式と違い、1枚1枚現像を行うので、プロセスの再現性が非常に高いです。 薬液使用量を最適化することにより、現像液使用量の削減に…

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像装置。厚膜などの現像時間を短くするのに有効です。

N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式の現像装置です。 N2の圧力を変更することで、スプレーの吐出圧力を変更することができます。 液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なく…

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状（円形、扇等）、圧力、流量などを自由に選択できます。

1流体スプレー方式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 …

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに必要な露光後ベーク（PEB）対応自動レジスト現像装置です。

枚葉式で現像、全面露光（反転露光、イメージリバーサル）、ベーク、クーリング機能を搭載。 リフトオフ用レジストで逆テーパーの角度を決める重要なPEB。 当社独自プログラムで逆テーパー角度を安定さ…

コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式のため、DIPと違い品質を安定させることができます。

当製品は、枚葉式のマニュアル現像機です。 薬液BOXと処理カップ部分の本体が一緒になったコンパクト仕様です。 マニュアル機をお客様のニーズに合わせて設計から製造・販売しています。 研究開…

半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様向けのセミオートデベロッパーです。

当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリングユニットを搭載。 自動機を導入するほど生産量が多くないけどもマニュアル機では 工数の問題で導入できない等でお悩みのお客様におススメです！ 御社のニー…

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向上・プロセス安定ニーズにお応えするレジスト現像装置です！

枚葉式フォトレジスト現像装置です。 パドル現像、スプレー現像（1流体、2流体）など様々な現像プロセスに対応できます。 薄型ウェハや角基板など多数実績がございます！ また、厚膜レジスト…

コンパクト！装置幅300mm自動レジスト塗布装置（コーター）

装置「幅」が300mm！ウェハサイズではなくて装置の幅が300mmの装置作製実績があります（2インチウェハ使用）

装置幅が300mmのミニマルな装置を作製できます！ 幅は300mmですが、その分高さと奥行きはそれなりの長さになります。 300mm幅での装置作製実績があるので、後はメンテナンス性やトラブル時…

大型角基板用（～430mm）回転カップ式自動レジスト塗布コーター

430mm角までの大型基板を隅まで均一良く塗ることができます！正方形、長方形、不定形など用途に合わせて塗布できます。

角基板は正方形、長方形などあらゆる形状のものを均一に塗布できます。 また、弊社の回転カップ式スピンコーターでは、ある程度の段差も気にすることなく均一に塗ることができます（高粘度で実績多数！） …

両面プロセスに最適！両面自動フォトレジスト塗布装置　コーター

ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます！

一度ウェハをセットするだけで、ウェハの両面プロセスが自動で行える装置です。 塗布は片面ずつ行いますが、反転ユニットを使い、自動運転が終わる時には両面にレジストが塗られています。 ウェハの処…

リフトオフ（イメージリバーサル）対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っているからです

当製品は、枚葉式で現像、前面露光（反転露光）、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格…

段取り替えなし！複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター

現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製できます（例、2・4インチ、6・8インチなど）

2種類以上のウエハサイズを兼用した装置製作が「段取り替えなし」で可能です。 実績例 ■2・3・4インチ兼用装置 ■4・5インチ兼用装置 ■4・6インチ兼用装置 ■6・8インチ兼用装置 …

厚さ100um！極薄ウェーハ搬送自動レジスト塗布装置　コーター

GaAs、LT、ガラスなどの脆くて薄いウェーハでの搬送・塗布での実績（ノウハウ）が多数あります！

薄いウェーハで気になるのは搬送での割れ、塗布後の面内均一性です。 ウェーハ搬送装置（ウェーハソーター）の作製実績など、薄くて割れやすい（脆い）ウェーハの搬送に自信があります。 GaAs、L…

フォトレジスト量削減！回転カップ式塗布装置（スピンコーター）

ポリイミドや高価な高粘度レジストの削減に有効！回転カップ式スピンコーターです。

回転カップ式スピンコーターは高粘度材料（ポリイミドや高粘度レジスト）の使用量を大幅に削減できます！ 弊社取得特許により、最小塗布量の薬液を低回転で均一に塗り広げることで、使用量を削減することに成…

高粘度フォトレジスト対応！密閉式自動レジスト塗布装置（コーター）

高粘度フォトレジスト塗布に自信があります！10000cPのポリイミドでも面内均一は±５％以内が標準で±３％以内の実績です。

高粘度フォトレジストやポリイミド塗布の実績が多数あります！ 当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 ベローズポンプやシリンジの対応も可能です！ マ…

ロール・スプレーコーターの置き換え！回転カップ式レジスト塗布装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っているからです

当社の装置はロールコーターやスプレーコーターなどで塗布するような基板でもスピンコーティングで処理をすることができます！ 細長い長方形の基板や正方形に近い角基板、段差のある基板や厚膜などでもスピン…

10000cP！高粘度対応自動レジスト塗布装置（スピンコーター）

10000cPのポリイミドやレジストにも対応可能！ASAP（エイ・エス・エイ・ピイ）は高粘度レジスト・薬液に特化したメーカーです

高粘度レジストの塗布に強みを持っています！ 例えば、400cP以上のレジストでも面内均一±5％以内に納めます（φ300mmウェハ） ASAP(エイ・エス・エイ・ピイ)特許の回転カップ方式に…

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベーク搭載自動レジスト塗布装置

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク（MAX400℃）、低温ベーク（MAX200℃）、クーリング機能を搭載。 低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。 …

R&Dや少量生産に最適！手動レジスト塗布装置(スピンコーター)

研究・開発、小ロット対応のマニュアル装置！卓上タイプとは違う自動機と同等のレジスト塗布機構を搭載！

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、装置の低価格を実現しました♪ 自動機を買うには手が届かないというお客…

半自動レジスト塗布装置(セミオートスピンコーター)Coater

低～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの半自動機（セミオート）も作製可能です！

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、自動機を買うには手が届かないというお客様や小ロットのため自動機まではいらな…

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低粘度～高粘度(MAX10000cP)レジスト対応！

ロボット搬送による全自動レジスト塗布装置です。 高均一性、省薬液、複数薬液使用可能な仕様です。 低粘度～高粘度レジストまで要求仕様に合わせてカスタムいたします。 ポジ・ネガレジスト、ポリイミ…

製品のご案内カタログ

シリコンから化合物半導体、マニュアル機から量産機まで！取扱製品をご案内！

当カタログでは、株式会社エイ・エス・エイ・ピイが取り扱う 製品をご案内しております。 センター4軸ロボットを採用した「自動レジスト塗布装置」をはじめ、 「マスクアライナー」や「自動リフトオフ…

裏面アライメントなし！片面オートマスクアライナー　AMA6000

裏面アライメントがないので低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に最適な装置を実現しました。

『AMA6000』は、自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 ASAPのマスクアライナーはマスクと完全非接触でウェハとのギャップ管理を行います。 非接触もできますが、ソフト、ハー…

自動リフトオフ装置（メタル・レジスト剥離）Lift-off

高圧ジェットで驚きの剝離能力！当社独自の特殊ノズルで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現しました！

物理力と化学力のW（ダブル）効果リフトオフ！ W効果リフトオフとは？ ・当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェット（MAX20MPa）により、物理力による剥離 ・溶剤にNMPやDMSOなどの…

厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター！自動ポリイミド塗布装置

～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピンコーターです。回転カップ式チャックにて省材料も実現！

【特徴】 ・高価な薬液の吐出量を高精度ポンプにて制御 ・均一良く塗るためのカップ構造（密閉式、回転カップ式） ・少量で塗り広げるプロセスのノウハウ ・少量生産に対応したシリンダ対応ディスペンサ…