• 『粉体搬送ポンプ』  製品画像

    『粉体搬送ポンプ』

    PR手作業による労力・飛散の問題を解消!マイカ、アクリル樹脂などの粉末に対…

    当社では、乾燥粉体を迅速かつクリーンに搬送処理できる 『粉体搬送ポンプ』を取り扱っています。 「PPシリーズ」は乾燥重量721kg毎立方メートルまでの粉体に対応し、 カーボンブラック、シリコン、アクリル樹脂などの搬送に使用可能。 手作業に要する労力や粉塵飛散といった問題の解決に役立ちます。 また、「SPシリーズ」は流体接続部がクランプ留めの構造のため 分解しやすく、洗浄メンテナ...

    メーカー・取り扱い企業: インガソール・ランド・アイティーエス株式会社

  • 高性能・高圧 多用途ポンプ 【プラステコ】 L.TEXシリーズ 製品画像

    高性能・高圧 多用途ポンプ 【プラステコ】 L.TEXシリーズ

    PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…

    用途によって選べるタイプ!! ●ポンプ単体(装置組込式) ●制御部一体型 標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ-ポンプです。 当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。 最大流量は 10mL/min ~ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、 研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社プラステコ 本社

  • 多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」 製品画像

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

    リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

    蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 製品画像

    ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    ◉寸法:804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量:40kg〜70kg(装置構成による) ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 塗工装置『CEDコーター』 製品画像

    塗工装置『CEDコーター』

    全塗工工程が完全密閉状態で進む!最新鋭の技術を駆使したCEDコーター

    『CEDコーター(クローズドエッジダイコーター)』は、タンク・ヘッド・ポンプ部がすべて密閉されているのが特徴の塗工装置です。 全塗工工程を完全密閉状態で行えるため、溶剤にチリやゴミなどの異物が混入しないほか、溶剤が空気に触れて蒸発することもないことから、希釈調整の必要も...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノスマート

  • R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ 製品画像

    R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

    各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

    対応基板サイズ: Max.φ4インチ×1枚 ・膜厚分布: ±5%以内(Al成膜時、基板回転併用) ・基板加熱機構: ●ランプヒータ 常用400°C ※オプション ・排気系:  1) ターボポンプ  2) ロータリーポンプ  ● ドライポンプ ※オプション ・最大ガス導入量:  1) Max.50sccm(Ar)  2) Max.10sccm(O2)  3) Max.10scc...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.

  • 【動画で紹介】半導体ウェハ用ワイヤーソースラリー調合設備 製品画像

    【動画で紹介】半導体ウェハ用ワイヤーソースラリー調合設備

    人的ミス防止で生産効率UP!ワイヤソー用スラリーを自動搬送・計量・調合…

    本製品は、半導体ウェハをインゴットの状態から、ワイヤソーにより切断する際に、必要となるスラリーの製造を目的とした設備です。 2台の撹拌設備、1台の貯蔵設備、3台のコンベア、オイル搬送用のポンプで構成され、粉体搬送による発塵を防止するための集塵機も搭載しています。粉体搬送は自動で行い、モータ、ポンプ、ロードセルなどは非防爆仕様で、省力化に配慮をしています。 登録されたレシピに従い搬送、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ワイ・エム・エス 本社営業部

  • メタルプラズマコーター「AT-ET」【導電性薄膜を作製!】 製品画像

    メタルプラズマコーター「AT-ET」【導電性薄膜を作製!】

    省スペース&低コストで導電性薄膜を作製!電子顕微鏡観察時に金属被膜のコ…

    メタルプラズマコーター「AT-ET」は、電子顕微鏡観察時における試料の帯電を防止するためのAu(金)、Ag(銀)、Pt(白金)等の導電性薄膜を作製する装置です。ロータリーポンプを本体に内蔵したことで、省スペースでの設置が可能となりました。真空度の表示は読み易いデジタル表示で、ボタン1つで排気~コーティング~終了(標準処理時間約5分)までを自動で行える簡単操作のコンパクト...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エーティーエー

  • LED材料用液体・粉体自動分注シリーズ SAP-1 A14/M6 製品画像

    LED材料用液体・粉体自動分注シリーズ SAP-1 A14/M6

    LED分注工程の生産革新!生産現場で要求される精度を実現します

    【特長】 ○LED生産現場で要求される精度を実現 ○生産効率、材料の無駄を減らし、人為的ミスによる不良を防止 ○全自動・半自動、粉体・液体供給ポンプ数等使用している材料の種類や  タクトに応じ構成可能 →ご要求に応じ適切なシステムをご提案可能 ○シリンジ・カップ共に対応可能 ○シリコン・蛍光体・分散剤の分注工程を自動化 →手作業(マ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マルコム

  • 卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』 製品画像

    卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

    初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能!研究ステージに合せてグレー…

    『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • マクミラン 超高純度用 薬液流量センサ Model U709 製品画像

    マクミラン 超高純度用 薬液流量センサ Model U709

    モデルU709は腐食性の液体を7mL/minの低流量から1000mL/…

    、腐食性の液体を7mL/minの低流量から〜1000mL/minの流量まで5種類の測定レンジによりにカバーする流量センサです。 間欠運転または、連続運転の液体を精度良く測定できる流量センサです。ポンプ吐出時間500msec、吐出量1mLからの液体を検出できます。 接液部の材質はテフロン、カルレッツ、サファイアで構成されています。センサ部は、ペルトン型のマイクロタービンホイール(特許)を採用す...

    メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部

  • 立体物対応実験用プラズマCVD装置 製品画像

    立体物対応実験用プラズマCVD装置

    対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等!基板加熱機構付き(最高設定…

    【仕様(抜粋)】 ■チャンバー材質:ステンレス製 ■到達真空度:1Pa以下 ■真空ポンプ:ロータリーポンプ+メカニカルブースターポンプ ■排気圧力コントロール:手動(オプションで自動可) ■成膜対象物:最大Φ100mm×500mm ■高周波出力:最大1kW ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社DINOVAC

  • 卓上平面研削機 テクノラップ、テクノラップステップオート 研究用 製品画像

    卓上平面研削機 テクノラップ、テクノラップステップオート 研究用

    教育機関、研究室・実験室向けに小型化した立軸平面研削機。カップ型ホイー…

    マウント台使用時   ※試料材質、加工条件により加工面積は変動 ・ テープル作業面積   W78 × L130mm ・ テープル左右移動量   自動120mm、手動130mm ・ クーラント   ポンプ循環式タンク別置(20L・40W) ・ 寸 法   W800 × L450 × H850mm ・ 本体質量   80kg ※ お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マルトー 本社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    (最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 半導体製造装置の周辺機器の修理、改善サービス 製品画像

    半導体製造装置の周辺機器の修理、改善サービス

    高周波電源、搬送ロボットや、RFマッチングボックスなどを修理、改善、オ…

    【その他の掲載内容】 ■輸送ロボットの修理 ■スリットバルブの修理 ■O3ジェネレーター修理 ■サーキュレータポンプの修理 ■マスフローコントローラの修理 ■ターボ分子ポンプの修理 ■サーキュレターポンプの修理 ■マスフローコントローラーの修理 ■ポンプの修理&オーバーホール ※詳しくはPD...

    メーカー・取り扱い企業: アローズエンジニアリング株式会社

  • 有機デバイス蒸着装置 真空エリプソメーター蒸着装置 製品画像

    有機デバイス蒸着装置 真空エリプソメーター蒸着装置

    真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定可能です!

    ト(NW40)3ポート ○真空排気ポート(NW40)1ポート ○最大基板サイズ:Φ110mm ○基板加熱もしくは基板冷却機構 ○蒸発源:2源(同時2源) ○水晶膜厚計、基板シャッター付き ○高真空ポンプ:ターボポンプ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイエルエステクノロジー

  • TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

    コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉

    高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。 実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

    横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム&大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。 拡張機能により6インチウェハまで対応。 水素雰囲気...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 球面研磨機 「EJ-380ISR-TETRA」 製品画像

    球面研磨機 「EJ-380ISR-TETRA」

    油圧ポンプの擦り合わせ作業の機械化を実現

    斜板形アキシャルピストンポンプの心臓部であるシリンダーブロックと バルブプレートの合わせ面を研磨するために行われていた“擦り合わせ作業”を “機械化”した研磨装置EJ-380ISR “テトラ”を開発しました。 【特徴...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社

  • RTP装置『AS-Master 200』 製品画像

    RTP装置『AS-Master 200』

    ターボポンプ搭載可能!低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

    却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 幅広ロールコーター『FRC-500VT』 製品画像

    幅広ロールコーター『FRC-500VT』

    幅600mmまで対応!フィルムにスパッタにより成膜するウェブコーター

    D800 前面開閉扉 ○機材送り機構 →回転速度可変用サーボモーター →巻き取り用パウダークラッチ及びレバシブルモーター →真空シール回転導入部(磁気シール式) ○排気系 →ターボ分子ポンプ:2400L/sec(N2) →ロータリーポンプ:1200L/min ○ガス導入系:マスフローコントローラー O₂、Ar、N₂ ○操作:操作、設定はタッチパネルで行う ○装置寸法(専有面積...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富士アールアンドディー

  • 全自動両側面竪型専用研磨機「EF-87」 製品画像

    全自動両側面竪型専用研磨機「EF-87」

    高能率・高品質を実現!剛性と精度を高次元で融合した研磨機

    50Hz-150rpm/60Hz-180rpm  インバーター仕様:50Hz-30~150rpm/60Hz-60~180rpm ○鋸角度変換モーター:200V,40W,1:25×1台 ○油圧ポンプ:200V,1.5KW,4P×1台 ○クーラントポンプ:200V,60W×1台 ○機械寸法(幅×奥行き×高さ):約W1700×D1700×H1900mm ○機械重量:約2000kg ●...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社えのきだ

  • ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』 製品画像

    ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

    複数材料の多層膜が成膜可能!高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

    【主な仕様】 ■到達圧力 ・処理室:3x10-5Pa以下 ・ロードロック室:3x10-4Pa以下 ■真空排気系 ・成膜室:ターボ分子ポンプ 1000l/sec ・ロードロック室:ターボ分子ポンプ ■成膜室 ・スパッタ源:ECR 2式、マグネトロン 2式(オプション) ・基板ホルダ:平板状ステップ回転、基板サイズ max.3イ...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 真空装置用冷凍機SUPCOLD 製品画像

    真空装置用冷凍機SUPCOLD

    シンプルな構造で低価格を実現。消費電力、設置スペース、GWPの低減にも…

    はありますが、この分野では経験豊富なスタッフが事業に携わっています。基本設計は米国で、使用している主要部品の多くは米国、ヨーロッパ製を使用し、中国製ではありますが冷凍能力とその品質は、米日の水蒸気ポンプメーカー製と同等以上の性能を有しています。装置価格のみならず、メンテナンス(修理)費用も安価で迅速なサービス体制を有しています。 また、新冷媒を採用し温暖化係数を低減しています。 すでに、中国...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」 製品画像

    ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

    膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。

    ○DC電源 800V、3.75A (MAX1.5kW) ○トレイサイズ L350mm×H210mm ○基板搬送方式 ラック&ピニオン搬送 ○ストッカー 10トレイ収納 ○排気系 ターボ分子ポンプ 2式/油回転ポンプ 2式 【性能】 ○膜厚分布 トレイ内 ±1.2% トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率 44%(最大) ○タクト 3分/サイクル  ※1枚目を除く ○到達...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 原子層堆積装置『AFALD-8』 製品画像

    原子層堆積装置『AFALD-8』

    優れた段差被覆性と精密な膜厚制御!高品質な成膜が可能

    :CCP、13.4MHz 最大1000w ■前駆体(金属プリカーサ)搭載数:最大4基 ■反応ガス搭載数:最大3系統(マスフローコントローラ) ■最高基板加熱温度:400℃(設定値) ■真空ポンプ:ドライポンプ(ケミカル対応型) ■ホットウォール:標準搭載 ■配管加熱:標準搭載 ※個別制御可 ■圧力コントロール:自動調圧バルブ ※各室個別制御可 ■プロセスガストラップ:標準搭載 ...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 電解研磨装置『8818-V3』 製品画像

    電解研磨装置『8818-V3』

    面倒で時間のかかる金属表面の研磨処理を一気に改善!表面前処理装置!

    100 時間で任意に設定可 ・印加電圧、電流 : DC 0~65V/0~10A 間で任意に設定可 ・印加電圧、電流表示 : アナログメーター表示 ・警報ブザー : 研磨終了時の警報 ・循環ポンプ : ブラシレスモーター式ギヤポンプ ・循環ポンプスピード : つまみで任意に調整可能 その他 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: プロトマニュファクチュアリング株式会社

  • アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」 製品画像

    アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」

    ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

    6.7×10^-3Paまで15分 ○排気操作方法/自動 ○基板加熱/MAX350℃ ○成膜方法/自動 ○成膜速度/2500Å/min(Tin 100A) ○蒸発電源/10kw ○油回転ポンプ/D-950DK ○高真空ポンプ/TS-440 ○所要水量/18ℓ/min ○所要圧空/0.5MPa以上 ○所要電力/27KVA ○床面積本機/約1300W×1000D×2040H ○...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 枚葉式ウエハ処理装置『自動レジスト塗布現像装置』 製品画像

    枚葉式ウエハ処理装置『自動レジスト塗布現像装置』

    高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置

    『自動レジスト塗布現像装置』は、枚葉式の自動レジスト塗布現像装置です。 装置内にレジスト塗布チヤンバーと現像チヤンバーを設けています。 レジスト塗布は粘度に応じた高性能のポンプを使用し、高精度の塗布を行います。 また、現像液は電子冷熱器により常に一定温度に保たれ循環し、高精度の現像処理が出来ます。 ウエハの搬送は装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置し、ロ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 【デモ実施中!】小型実験用イオンビームエッチング装置 製品画像

    【デモ実施中!】小型実験用イオンビームエッチング装置

    【デモ実施中!】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

    ングルステージ  水冷機構  3軸動作 自転・入射角度・円弧移動  不定形基板からMax 6inchiまで選択可能 ●排気系  主排気 TMPまたはCryo-pump  粗引き ドライポンプまたはロータリーポンプ その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • 多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』 製品画像

    多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

    放電操作が容易!RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

    ッチング仕様 ■カソード:φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット:Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系:ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ ■真空計:フルレンジゲージ ■ガス流量調整:アルゴン用MFC 50sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • 卓上型蒸着装置『Mebius』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Mebius』

    卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    00V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した  圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装置動作自動...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 真空チャンバーの受託製造 製品画像

    真空チャンバーの受託製造

    10 -10torrの真空度も対応実績あり。お客様のご要望に沿った真空…

    た経験があり、各仕様の真空部品の在庫を持ち、真空チャンバーの製造に活かします。 2. 加工能力及び設備を完備し社内で材料を切削、加工、溶接、洗浄、組立、リークーテストの作業が可能 3.真空ポンプの修理のチームがあり、予備ポンプを利用して大型真空チャンバーの排気とリークテストを 行います。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日揚科技股份有限公司

  • 小型イオンビームエッチング装置 製品画像

    小型イオンビームエッチング装置

    イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

    ングルステージ →水冷機構 →3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 →不定形基板~Max 6inchまで選択可能 ○排気系 →主排気:TMP または Cryo-pump →粗挽き:ドライポンプ または ロータリーポンプ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • 卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』 製品画像

    卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

    独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

    【仕様(抜粋)】 ■装置寸法:240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量:20kg ■真空ポンプ:ドライポンプ(15L) ■加工範囲:28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応可能ガス:CF4、N2、D.A、Ar、O2等 ※詳しくはPDFをダウンロードい...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三友製作所 テクノセンタ

  • 高周波レーザーCVD装置 製品画像

    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    【仕様】 ■排気系:ロータリーポンプ(ターボポンプ御要望の場合は別途御相談下さい) ■試料ステージサイズ:20 × 40 ■試料ステージ回転機構:ステッピングモーター(回転速度可変可能) ■真空計:ピラニー真空計 ■レーザー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 卓上型蒸着装置『Meius Light』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Meius Light』

    学生向けの実験や教材作りに!卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    を搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合わせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 中古蒸着装置の販売&メンテナンス 製品画像

    中古蒸着装置の販売&メンテナンス

    ご相談下さい。中古蒸着装置と周辺設備の販売・メンテ・改造・移設まで

     近年、急激に需要が高まってきたのが、中古蒸着装置。 弊社では装置本体から、ポンプ・各種周辺設備までをご要望に応じてご提供します。  もちろん、現在ご使用の装置のメンテナンスから改造、移設までをご要望に応じて対応。  新規導入にあたり、ご経験のないお客様でも積極的に技術指導...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クラフト

  • 高真空蒸着装置『KW-030D』 製品画像

    高真空蒸着装置『KW-030D』

    水晶振動式膜厚モニター搭載!コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

    『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • 金属蒸着装置『ESE-09』 製品画像

    金属蒸着装置『ESE-09』

    容易に基板セットや蒸着用試料補充と交換が可能!大規模集積回路用の装置で…

    も想定してBNコンポジットの選択が可能。また、チャンバ開閉は 上下分割駆動式で、ウェハを公転させる機能を装備しています。 なお、排気系はドライな真空状態を得るために、磁気浮上式広帯域 ターボ分子ポンプとドライポンプの組み合わせによる排気システムです。 【特長】 ■基板サイズ 6インチ ■蒸着源は抵抗加熱式 ■膜厚コントロールは水晶振動子式膜厚計を用いた制御 ※詳しくはPDFをダウンロードし...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本シード研究所

  • DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』 製品画像

    DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

    ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャ…

    50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度:1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x DLI気化器を搭載可能...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 卓上式マニュアルスピンナー 製品画像

    卓上式マニュアルスピンナー

    シンプルデザインの卓上式マニュアルスピンナー

    rpm 回転精度…±1rpm スピンドルモータ…ACサーボモーター 回転表示…デジタル 回転数設定…液晶タッチパネル レシピ設定…10プログラム×50パターン オプション…試料台、真空ポンプ ユーティリティー…電源、真空...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トービ

  • 現像・エッチング・剥離装置 製品画像

    現像・エッチング・剥離装置

    設置場所に合わせて各チャンバーやポンプのレイアウトを設計致します

    型のフィルムとし、剥離片の回収装置が ついています。これは剥離液の全量濾過を行うものとします。 【特長】 ■メンテナンス性を重視 ■使いやすい設計 ■設置場所に合わせて各チャンバーやポンプのレイアウトを設計可能 ■すべてオーダーメイドにて設計・製作 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ファイコーポレーション

  • DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』 製品画像

    DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

    最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

    スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度:800℃ ■最大4x DLI気化器を搭載可能 ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • プリント基板製造装置 現像・エッチング・剥離ライン 製品画像

    プリント基板製造装置 現像・エッチング・剥離ライン

    ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる

    装置です。上エッチングは独立圧調でさらに高精度です。板厚50μmのワークが安定して流せます。有効幅は600mm 、搬送速度は1.0~7.0m/min(常用3.5m/min)、現像・エッチング・剥離ポンプはインバーター制御です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • 消耗部品 製品画像

    消耗部品

    各種消耗部品を取り扱っております。

    消耗部品 :  シールド用大判アルミ箔ロール/拡散ポンプ用オイル/ロータリーポン プ用オイル/メカニカル・ブースターポンプ用オイル/Cu(無酸素銅) ハースライナー/EBフィラメント/パッキン各種(角ヒモ/Wシール/ Oリング 各種サイズ)/水晶振動子...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • 常圧CVD装置 製品画像

    常圧CVD装置

    省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールか…

    CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール(高周波,低周波各 1Set )、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターテック販売 東京本社(拠点-関西営業所、熊本営業所)

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表示件数
45件
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