高温加熱用ヒーター製品「予熱くん」カスタマイズ対応します

PR加熱・高温保持についてお困りの方必見！「カスタマイズ対応」加熱装置をご…

こんなご要望はありませんか？ 「金型の焼きバメ作業に使いたい」「～650℃で高温加熱したい」 「溶接用途で、徐冷もできる高温ヒーターを探している」 「加熱ヘッドの形状、素材をカスタマイズして欲しい」 「制御仕様をカスタマイズして欲しい」「パトライトを付けたい」 「専用台車も作りたい」など。 当製品は、昇温速度が速く、火を使わないので安全・安心です。 小型機であれば、数分で６５...

メーカー・取り扱い企業： 南海モルディ株式会社（旧：南海鋼材株式会社）

冷熱ブライン循環装置『ブラインチラー』【精密な温度制御！】

PR循環ポンプ１台で冷却加熱ブラインを供給！ブライン供給配管の切替作業不要…

ブラインチラーは、「試験装置・温度制御用」「半導体・完成テスト用」を ご用意した冷熱ブライン循環装置です。循環ポンプ１台で-100℃～+100℃ のブラインを供給します。ブライン供給配管の切替作業は不要です。 【仕様】 ■冷凍方式：混合冷媒・マルチカスケード方式 ■加熱方式：電気ヒーター・ホットガス加熱方式 ■循環ポンプ・ブラインタンク内蔵 　◎循環量：10～20L/min　◎揚程：10～15m...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マック

特殊構造採用の電気ヒーター　気体加熱器『クリーンホット』

断熱材不要で高効率、クリーン加熱が可能なヒーター！気体加熱器「クリーン…

気体加熱器『クリーンホット』は、特殊ヒーターおよび特殊構造の採用に より加熱効率がよく、加熱対象ガスをすばやく昇温し、正確な温度制御が 可能な電気ヒーターです。 内部特殊構造により、断熱材を使用し...

メーカー・取り扱い企業： 新熱工業株式会社 本社

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現…

大学・官公庁研究機関で真空薄膜実験用に多数の採用実績がある信頼性高い超高温真空用ホットプレートです。独自の方法で高真空用に放電対策絶縁処理された端子部、超高温均一加熱が得られる様工夫された抵抗発熱式加熱ブロックを内蔵、ヒータープレート表面を短時間で高温まで加熱昇温することができます。 ◆ヒーター仕様◆ ◎ 使用発熱体 ・NiCr（SH-IN型）, W/...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ガス加熱用高効率ヒータ『WEXシリーズ』

小型・軽量で高効率！熱電対、サーモスタットを標準装備し、IN/OUTの…

ワッティーが提供する『WEXシリーズ』は、継手や配管など接ガス部は オールステンレス(SUS316L)製のガス加熱用高効率ヒータです。 サイズ別に適した仕様を実現し、最小流量10L/min～最大流量100L/min、 最高使用温度300℃まで可能な製品をラインアップ。 温度制御、過昇温防止への配慮...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

３次元誘導加熱・温度解析ソフトウエア／μ-TM

複雑な加熱コイル形状に威力、高周波加熱、温度、発熱、磁場分布が見える！

誘導加熱は様々な機械装置で利用されています。 クッキングのＩＨヒーティングお始め、機械加工、プレス、鋳造に至ります。 課題は誘導加熱コイルが複雑な配置をしておりモデル定義が困難なこと、 温度依存性を考...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミューテック

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント： ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3（炭化珪素）コーティンググラファイト Max1300℃ ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティンググラフ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

熱はく離シート 「リバアルファ」

加熱することで用意にはく離が可能になる粘着シート。しっかり固定しても熱…

Nittoの熱はく離シート「リバアルファ」は、常温では粘着力があり、加熱するだけで簡単にはがすことができるユニークな粘着シートです。 電子部品の各種製造工程で自動化・省人化に大きく貢献しています。 ■熱はく離とは 各種部品やデバイスの加工時には強固に接着し、加...

メーカー・取り扱い企業： 日東エルマテリアル株式会社

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い均熱性があり、加熱プレート上のどこでもムラなく加熱できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

液体加熱用ホットプレート「PA6015型 バスタイプ」

プレート部が槽になっている、液体加熱向けのホットプレートです。

液体加熱用ホットプレート「PA6015型 バスタイプ」の最高温度は600℃と、従来の液体加熱器では到達しづらかった温度まで液温を加熱することが出来ます。 プレート部分がそのまま、液体を入れることの出来る槽...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルに...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

空気加熱ヒーター　PF100

はんだ付け予熱、樹脂硬化、洗浄後の乾燥、その他非接触の加熱工程に！25…

空気加熱ヒーターユニット。温度コントローラーとの組合せにより、簡単に非接触での加熱が可能です。 加熱工程、乾燥、硬化、はんだ付けなど　幅広いアプリケーションに摘要可能です。 設定温度範囲、流用、取付アン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー

加熱・冷却機能付きポーラスチャック

吸着しながら、加熱・冷却実験が可能！！

吸着しながら加熱実験（プローブ実験、加熱耐久実験等）を行えるユニットとなります。その他、ウェーハマウンターなどにも応用が期待されています。加熱温度としては、最大で２５０℃の加熱ができ、冷却機能を持たせているため、大...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社吉岡精工

気体加熱用特殊ヒーター「クリーンホットヒーター」

特殊な内部構造により断熱材不要！高効率、高速昇温！クリーン加熱 (特…

気体加熱ヒータークリーンホットは、外部への放熱を最小限に押さえ、 ヒーターハウジング外面の低温化を実現したことにより公害の原因となる断熱材が不要となりました。 同時に、熱効率が良くなった結果、気体加熱時...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インテリンク

マイクロヒーター

マイクロヒーターは配管などに容易に巻きつけ可能で、真空中でも使用可能で…

マイクロヒーター（細管ヒータ）は、液体や気体などの被加熱物に直接触れる構造で加熱することが可能です。 主に配管巻き付け、溝に埋め込み、熱板、真空中の加熱などに使われています。 形状は、取付装置や部品に合わせて自由に設計可能です。 新日電熱工業...

メーカー・取り扱い企業： 新日電熱工業株式会社

小型高周波誘導加熱装置

加熱・溶解をスピーディーに！！クリーンな作業環境を実現！！

コンパクトながらもハイパワー：パワーコントロール（２５％〜１００％出力）により自在に設定可能です。 超小型軽量設計：従来の１０／１サイズの卓上型加熱装置で、外形寸法は３９０（Ｈ）×３００（Ｗ）×３００（Ｄ）とコンパクト、デスクトップコンピュータとほぼ同じ大きさです。重量は約１６Ｋｇと軽量なので移動も簡単です。（ＭＵ-１７００Ａ・Ｂ） 連続...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社美和製作所 営業部

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。 抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

遠赤外線加熱装置

遠赤外線加熱装置

Futaba のアニール炉は、高分子材料加熱で多くの実績を持つ弊社独自の遠赤外線ヒーターと、永年の研究開発から生まれた独自の照射機構によって最も効率の良いアニール処理ができます。 高速度、高信頼性の"Futabaのアニール炉"は、数多くのユ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二葉科学

大型真空オーブン

　高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱　乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

8００ｍｍ□×8００ｍｍＨ／バッチの大量処理が可能な多用途対応の真空オーブン。 高真空処理・真空置換後の不活性大気圧処理、低真空ガスフロー処理、複数の処理モードを１台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー雰囲気で脱泡・脱脂・真空乾燥。 真空置換後の不活性雰囲気で部品・成形品　高速加熱アニール 実績豊富な標準タイプから各種カスタマイズで個別対応 目的に...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ：Φ2〜6inch 真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

マルトー 試料乾燥機　両手が使えるフットスイッチ、温度調節機能付

室温～60度まで送風温度が調整可能な試料乾燥機！電源ON/OFFはフッ…

N、OFFはフット式なので、両手はいつでも自由に使える ■ノズル先端の調整 　 上下方向左右方向自在式で、試料の大きさに合わせてセットできる ■安全性 　 『送風』にセットしなければヒーターの加温・加熱はできない安全仕様...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ガラス基板加熱・冷却装置

ガラス基板加熱・冷却装置

■ガラス基板の加熱・冷却における製造プロセスを確立するために最適化された装置です ■ホットプレート部・クールプレート部には、長年にわたり培ってきた、八光電機製作所の均熱技術を用いています ■クリーンル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社八光電機

ランプ加熱装置（SHM-01型）

φ300mm貼り合わせウェーハを加熱用IRランプにて加熱する装置です

・手動/自動の切り替えおよび任意の温度調整が可能です。 ・加熱温度は最大500℃まで上昇します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジャステム

マントルヒータ　Mantle heater

配管部品の均一加熱を実現！CVDエッチング・アッシング装置に適していま…

ワッティーが提供する『マントルヒータ』は、配管・容器加熱用に ご使用いただけます。 発熱体を使用しない断熱材、保温材の設計製作も承っており、 クロス材質も複数ご用意しているので、ご希望の仕様で製作が可能。 （400℃以上のご希望の際はご相談く...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」

ターゲットは3種類同時に装着可能！多層膜を作製することが可能です。

製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 【特長】 ○オプションとして膜厚センサー、試料加熱ユニットなども取付けられる構造 ○抵抗加熱式真空蒸着装置としても使用が可能 →排気装置上部を抵抗加熱ユニットに交換し、専用電源を接続 詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

特許技術のラミナーフロー方式 　YES PBシリーズのチャンバーは上部にガス発生プレナム、下部の吸引プレナムがついており、 　加熱されたガス(通常N2)はウェハに対して平行に流れます。 　平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを 　除去するのに効果的です。 チャンバー内にパー...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

近赤外線塗装乾燥炉「ハロゲンランプオーダーシステム」

近赤外線ハロゲンランプを使用し高効率な乾燥機を設計！内側から乾燥や効果…

た電源ＯＮで瞬時に要求温度に達しますので無駄なく短時間で処理を終えることが可能となります。 よって省エネルギーによるコスト削減や環境エコにも繋がります。 目的、用途、被乾燥物に合わせた乾燥・加熱性能を提供し、様々な材質、目的に合わせ設計いたします。 ■特徴 ・レスポンスの速さ ・ランプ式放射加熱で雰囲気温度に影響されない質の高い赤外線を放射 ・均一な照射で焼きムラ・乾燥ムラを低...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーコー 埼玉事業所 ＩＰＳ営業課

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

新開発　半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯　130W 電源が商用電源AC100V・デスクトップサイズ等、使い易さを考えて新開発したマグネトロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 GNUシリーズとして、周波数2.45GHz帯・5.8GH帯・10GHz帯、出力：〜500W、をラインアップいたしました。 各種電池材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥・プラ...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

連続式スラリー供給装置　P85

特許取得の調合方法で当社従来比15％以上のコストダウンを実現！燃料電池…

比で52分⇒22分に大幅短縮しました。 【特長】 ■当社独自の調合方式でスラリーと純水を調合＜特許取得済＞ →ポンプが不要となり、当社従来比１５％以上のコストダウンを実現 ■当社独自の加熱方式によりスラリーを加熱＜特許取得済＞ →高効率、ハイレスポンスの加熱を実現 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

研究開発用真空蒸着装置

目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。

『研究開発用真空蒸着装置』は、 大学・公的研究機関や基礎実験用に適した小型蒸着装置シリーズです。 コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型と全手動で抵抗加熱源を 基本構成とした簡易実験型の2機種をラインアップしています。 両機種（前扉型・簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

LUXEL社製　抵抗加熱蒸着源(エバポレータ)　RADAK

有機物蒸着にも対応。　コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源

高品質薄膜フィルターメーカーLUXEL社は、真空蒸着にお使い頂ける、抵抗加熱型蒸着源(エバポレーター)を提供しております。 使いやすさ、パフォーマンスを考慮した独自のデザインで構成されており、既存の蒸着装置への導入が可能。コンパクトで取扱いが簡単なため、実験用に最適です。...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

遠赤外線アニール炉

遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮

遠赤外線ヒーターの放射熱を有効利用してアニール時間を大幅に短縮します。 樹脂成形品のアニール処理を画期的に変えるシステムです。 ●処理時間の大幅短縮 　遠赤外線の放射加熱及び熱風拡散を併用する事により処理時間を大幅に短縮できます。 　従来温風バッチ炉　１〜２時間→ノリタケアニール炉　３〜５分 ●コンベア式による連続処理 　処理時間が短くなる事により、コンパ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

ウェハプロセス用真空蒸着装置

膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…

の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構　 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム　 ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

・レシピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御（真空引/ベント、成膜時間、出力/時間、MFC流量圧力自動制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など）を全自動運転（手動も可能）〜Windows PCでデータロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx3源（標準1...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…

ンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、 コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。 ◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能 ◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応 ◆複数ソースによる同時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水冷に対応 ◆膜厚計を搭載可能 ◆設置面積60cm x 60cmのコンパクト設計 ◆優れた拡張...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）

急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

実績豊富な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…

『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

TMPタイプ　真空蒸着装置

簡単操作のTMP排気システム採用！拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸…

「SVC-700TMSG/7PS80」は、TMP＋RP型の抵抗加熱式真空蒸着装置です。コンパクトさと使い勝手の良さにこだわった装置です。 排気装置「SVC-700TMSG」と蒸着電源「SVC-7PS80」から構成されています。 シンプルかつイージーオペレーションで...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

株式会社九州日昌　事業紹介

電熱機器のエキスパートとしてお客様の加熱工程をトータルサポート

多様な分野の製品における製造工程で、貴重な役割を果たす加熱工程。 私たち、株式会社九州日昌はその技術を駆使してお客様をサポートし、新たな付加価値の創造を目指しています。 お客様のニーズにただそのまま応えるだけでなく、その背後にある課題を見つけ出して、よ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社九州日昌 東京営業所

SUSS MicroTec社製インクジェット塗布装置『LP50』

半導体、PCB、プリンテッドエレクトロニクス向け、卓上型インクジェット…

ッシベーション膜の塗布、AgやCuのナノ粒子を含む ペーストのダイレクト塗布等にご使用頂けます。 PiXDRO技術を搭載したこの装置には以下の機能を備えています。 【機能・特長】 ・加熱機能付き高精度ステージと画像方式のアライメントシステム ・液滴条件を短時間で最適化する為の分析機能「Advanced Drop Analysis」 ・プリンティング条件を自動で最適化する機能「A...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

高出力レーザ単結晶育成装置『LFZ-Compact』

お手持ちのスマートホンで、加熱部の監視および焦点、倍率、絞り調整が可能…

『LFZ-Compact』は、出力半導体レーザを用いた浮遊溶融帯(FZ)方式の 単結晶育成装置です。 加熱部の観察用高精細カメラと、21.5インチ大型ディスプレイが装備 されています。(標準) 録画可能で、加熱部の監視および焦点、倍率、絞り調整は、お手持ちの スマートホンでできます。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノサーチ

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

フォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉を開発することになりました。 炉の設計技術が社内に無かったので付き合いのある炉メーカに加熱炉の設計・製作を依頼しました。しかし、水漏れが数か月で水漏れが発生しました。加熱炉の電源をオフにしても炉内は煌々と光っており、現場にいた私は生きた心地がしませんでした。 そこで加熱炉の設計を自分で...

メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ジャケットヒーターシステム

PID制御でさらに温度均一性を保つ配管用ジャケットヒーター

半導体配管の最適化重要アイテム、ジャケットヒーターシステムです。 配管内の副生成物付着防止・供給ガスのヒーティングや 排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管の加熱用ヒーター 【特長】 ・200℃までの高温まで加熱可能 ・多重絶縁構造のアース付きフレキシブル発熱エレメントは高安全性で丈夫 ・コールドスポットがなく、温度均一性に優れます ・半導体...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東京興業貿易商会 本社

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

ンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

連続アニール炉

遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉

当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 （特長） ●早い加熱処理 　例その１：自動車ヘッドランプ　溶着後の歪除去　６０...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

スパッタ・蒸着複合装置

1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着と ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

真空はんだ付け装置（真空リフロー装置）

インターネプコンにも出展！大型製品にも対応した新製品のご紹介 ＜サン…

真空はんだ付け装置は真空中ではんだを溶融させることにより、 はんだ中のボイドを除去します。 予備加熱を水素雰囲気または蟻酸雰囲気で行うことにより、 フラックスレスはんだ付けを実現します。 パワーデバイス製造工程のスタンダード機として国内実績No.1クラスを 誇ります。 上部ランプヒータ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空蒸着とは

ほぼ真空にした空間で薄膜を形成する成膜技術！真空蒸着の原理についてご紹…

『真空蒸着』とは、ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱し、 蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて 薄膜を形成する成膜技術です。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社奈良原産業

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

６連式電子銃と移動式多元抵抗加熱蒸発源を装備したバッチ式高真空蒸着装置 標準ウェハプロセス対応蒸着装置よりチャンバ径をコンパクト化し小径ウェハに対応。 リフトオフプロセスに対応した垂直蒸着用の公転ドームと大量処理用の３面プラネ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

HEAT SIGNAL シリーズ

新世代ヒーターの通電状態や故障が一目で分かるシグナルランプと、液温度を…

見る・知る・監視・遮断〉の安心安全サポート機器とセーフティーモジュールの組み合わせにより、ヒューマンエラーによる危険〈空炊き・液面異常・過熱など〉や異変を検知してECSシステム／MS Boardで液加熱運転を自動停止するなど、液加熱を安全にマネージメントすることができます。 ヒートシグナル（信号）シリーズは、ECSMSマネージメントシステムの「見る管理」セーフティーモジュールです。...

メーカー・取り扱い企業： 谷口ヒーターズ株式会社 千葉事業所

TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉

Max2900℃(カーボン炉）、Max2400℃（メタル炉） ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社