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39件 - メーカー・取り扱い企業
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PR非有機溶剤で安心安全。電子部品の防水や絶縁など、コンフォーマルコーティ…
電子基板用保護コーティング剤『フロロサーフFG-3650シリーズ』は、 電子部品の防水や絶縁保護、実装基板の防湿防水コーティング(コンフォーマルコーティング)に適しています。 ▼フロロサーフFG-3650シリーズの優れた性能 高防湿・防水性 / 耐リチウム電池電解液 / 耐酸性・耐酸化ガス 高絶縁抵抗・低誘電率 / 非引火性・非危険物 ~ 法人様限定で【無料サンプル】を進呈しています!...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フロロテクノロジー
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PRホットメルトの特徴やメリットを分かりやすく解説! さらに様々な業界で…
■【入門書】 ホットメルト接着剤は幅広い分野での導入されています。 ホットメルトを使用する上で必要不可欠な要素や、塗布パターン(塗り方)の概要などを解説! 【掲載内容】※一部抜粋 ■ホットメルトってなに? ■ホットメルトの特徴 ■環境に配慮したホットメルト接着剤 ■ホットメルトアプリケーション ■衛生材料アプリケーション ■一般産業アプリケーション ■【ディスペンサー導...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンツール
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 ・低温(150~300℃)成膜 ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 ・シンプルメンテナンス ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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穴あきセラミック基板・FPC基板を穴の位置に関係なく非接触にて移載可能…
1.スルーホール穴あき基板、フィルム基板 吸着可能 2.基板の大きさ、穴の位置に関係なく吸着可能 3.段積み基板を1枚ずつ吸引 4.吸着器の段取り替えが不要 5.傷、汚れパッド跡を付着しない ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch
プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…
旧製品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント: ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3(炭化珪素)コーティンググラファイト Max1300℃ ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティンググ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンス...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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3種類の堆積装置をラインアップ!用途に合わせてお選びください
■プラズマ源 ・水素ラジカル注入用:RF13.56MHz・1KW・MHC ・メインプラズマ用:RF13.56MHz・1kW・CCPシャワーヘッド ■チャンバー:SUS304、架台 ■基板ステージ:800℃、2インチ基板×1枚、上下ベローズ <大面積ナノカーボン堆積装置(LCND-200)> ■プラズマ源:RF13.56MHz・5kW・マルチホローCCPシャワーヘッド ■チャン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
h、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…
CVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャビネット付き ■液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構搭載 ■独自のプラ...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…
エッチング・クリーニングで実績豊富なプラズマ技術で撥水コーティングに対応。樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応 コパクト・リーズナブル・高信頼性、サンプルテストでプロセス開発に協力。 実績と対応のプラズマ表面処理装置...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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ウエハチップ・マイクロレンズ・高温ウエハ・微小物の非接触搬送装置
ウエハチップ・高温ウエハ・レンズ・微小物を非接触にて搬送するベルヌーイ…
体流の摩擦損失を減少させ、負圧発生の効果を増し、従来型より大幅に懸垂能力を増加させることで、保持安定元力が増し、衝撃に強く、気体消費量をほぼ半減させました。 「微小物の非接触搬送装置」は、空気を基板に向かって噴出することにより、ワークを空中に浮遊した非接触の状態にて懸垂保持し搬送します。 ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送! ベルヌーイチャック
内の気体流の摩擦損失を減少させ、負圧発生の効果を増し、従来型より大幅に懸垂能力を増加させることで、保持安定元が増し、衝撃に強く、気体消費量をほぼ半減させました。 半導体ウエハ、LCD・PDPガラス基板、、ディスク、プリント・セラミック基板、スルーホール基板、フィルム、紙、不織布、極薄ワーク、通気性ワークを空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送する。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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高い赤外線透過率をもつDLC膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…
硬質膜・表面処理用途で実績豊富なPIG式DLC膜形成装置を赤外線光学用途に展開。90%以上の高い透過率を持つDLC膜を基板両面に一括形成 硬質・高い透過率のDLC膜を高い生産性で実現。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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PLAD-221-Y PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等!基板加熱機構付き(最高設定…
わせて 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種:DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き(最高設定温度:500℃) ■PC操作(シーケンサー制御)で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社DINOVAC
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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』
最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供!
<標準基板サイズとタイプ> 〇100~200 mmウエハ最大50枚/バッチ 〇高アスペクト比サンプル(最大1:2500) 〇基板材料:Si、ガラス、化合物半導体各種 <処理温度と容量> 〇~300℃...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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スリットバルブシール
の最適形状設計を組み合わせ、様々な御要求にお応えし、ソリューションをご提供しております。 ●半導体業界向けには、低発塵性、耐プラズマ性、耐薬 品性、低固着特性に優れた製品を、液晶業界向けには、基板大型化に対応した製品を製造・販売しております。 ●同業界向けの製品群の1つとして、製造装置の成膜工程などの処理チャンバー内にウエハを搬送する入り口(ゲート)に使用できる、チャンバー用スリットバ...
メーカー・取り扱い企業: 三菱電線工業株式会社
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◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…
ァイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆ ・グラフェン生成用,真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pu...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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大口径シール
たり培った経験、豊富な材料、独自の最適形状設計を組み合わせ、様々なご要求にお応えできるよう取り組んでおります。 ●特に液晶業界向けには、低パーティクル、耐薬品性 等にすぐれたシール製品、および基板大型化に対応した製品を、ご提供しております。...
メーカー・取り扱い企業: 三菱電線工業株式会社
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枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で!クラスタシステムにより生産…
S2 / S8認定のPICOSUN Sprinterは、枚葉成膜の品質と均一性を 高速処理、高スループット、高信頼性と組み合わせています。 処理時間が短く、熱負荷が抑えられるため、破損しやすい基板材料やデバイスにも理想的です。 PICOSUN Sprinter ALDシステムは、優れた膜質、短いサイクルタイム、 完全自動化により、ALDの大量生産に革命をもたらします。 プリカーサフ...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…
常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
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真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを!
設計製作 【図面支給による製作】 ・部品加工、購入、組立、調整、検査、据付調整 ・量産装置向け組立、調整、検査、据付調整 【半導体プロセス応用製品】 ・実験用蒸着装置・有機EL蒸着基板用実験装置・スパッタ装置(実験設備/生産設備)・CVD装置(実験設備/生産設備)・成膜装置(実験設備/生産設備) 【真空対応製品の設計・製作】 ・各種配管・各種フランジ応用製品・真空室内用応...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コスモ・サイエンス
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「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…
【その他の製作実績】 ■ガラス基板対応量産型マルチチャンバ仕様プラズマCVD装置 ■ICP型MOCVD装置 ■基礎研究開発用φ12インチ対応ALD装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…
X1200℃ ■水冷:外周蛇管 上フランジジャケット ■外寸:φ360 x 500H ■内面処理:電解研磨 ■ガスケット:金メッキ銅ガスケット ■チャンバー材質:SUS316 ■ガス吐出基板長間可変:0mm ~ 50mm ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック
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豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置
設置面積:48x48cm 基板サイズ: 最大4インチ プレカーサー材料:5系統 方式:ホットウォール型熱式 チャンバー温度:最高350℃ プロセスレシピの例:Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, ZrO2, ...
メーカー・取り扱い企業: ALDジャパン株式会社
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真空装置周辺機器,バルブの修理なら お任せ下さい! メーカーメンテ…
標準交換部品例 ・各種Oリング ・ソレノイドバルブ ・ベアリング・ワッシャー ・ステッピングモーター ・モーター(ACT)ケーブル等 ・海外製部品の各種国産化置換え (モーター、基板等) 【 コ ス ト 削 減 】 部品修理の内製化 コストダウン例 ・部品内製化を進める事により、生産中止バルブ等にも対応。 ・ベローズ内製による交換。 ・アクチュエーターシャフト...
メーカー・取り扱い企業: 大宮工業株式会社 近畿支店
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半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい
<対応実績> CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など 詳しくは、お問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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Nd:YAGレーザパルス蒸着システム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…
軽にご相談ください。 【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■リアクター圧力、分離されたガス供給ラインとICPソースと基板電極間の 間隔調整によるプロセスの最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンス...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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PLAD-250R PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-261PG PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-271PE PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-161 PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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エキシマレーザパルス蒸着システム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-150Y PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-250E PLDシステム
ーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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\JPCAショー2024出展/プリント基板、明日発送します!
6/12~14開催!JPCAショー2024に出展いたします!先…
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【ODM・EMS受託】無線機器、電子機器、装置の設計・製造・修理
有線機器の無線化、改版設計、試作など、お気軽にご相談ください。…
新日本電子株式会社 本社 -
サービス『ブラウン管モニターから液晶ディスプレイへの置き換え』
工作機械や装置のブラウン管モニターの表示トラブルに困っている企…
株式会社アイテス