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208件 - メーカー・取り扱い企業
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97件 - カタログ
1046件
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PR実装コストの低減を実現！電極が凸型形状のチップ抵抗ネットワーク
当製品は、電極が凸型形状のチップ抵抗ネットワークです。 部品搭載回数の減少による実装コストの低減を実現。 最高使用電圧は25V、定格電力は1/16Wです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【仕様(抜粋)】 ■素子数：4 ■回路記号：D（独立回路） ■包装数量：10,000 アイエイエム電子ではチップ抵抗ネットワークを始め各種厚膜チップ抵抗器を製造販売しております。 ※詳...
メーカー・取り扱い企業： アイエイエム電子株式会社
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PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…
『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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ウェハ・ガラス基板+鏡面基板上の膜厚測定も可能な膜厚測定装置
『LF-1000』は、分光器と光干渉式膜厚解析ソフトを搭載し、各種パラメータの 設定をする事により膜厚測定を可能とした非接触式自動膜厚測定装置です。 本解析ソフトは薄膜の表面及び基盤との界面からの干渉波形を解析することにより、 非...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラポールシステム
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～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…
【特徴】 ・高価な薬液の吐出量を高精度ポンプにて制御 ・均一良く塗るためのカップ構造（密閉式、回転カップ式） ・少量で塗り広げるプロセスのノウハウ ・少量生産に対応したシリンダ対応ディスペンサーも搭載可能（オプション） ・高粘度材料で難しいEBR（エッジリンス）機能 高粘度ポリイミドをスピン塗布する装置です。高粘度対応ポンプ及び、薬液温調システムを搭載し、高粘度ポリイミドをムラ無く...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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膜厚モニター用水晶振動子
蒸着装置やスパッタリング装置などの真空成膜プロセスにおいて、膜厚モニターとして広く使われているQCM方式の膜厚計用の水晶振動子です。周波数は５ＭHzと６MHz、電極膜材料は金（Au）と銀（Ag）を揃えております。 弊社販売品については再生もお受けいたします。 ...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社アベニューマテリアル
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【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム
イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…
つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。 【特長】 ■エッチング装置...
メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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Cu/Mo膜をエッチングすることが可能な薬液をご紹介します！
当資料は、「Cu/Moエッチング液」のSDMをご紹介している、 バージョン69です。 「PESENG基板 実験条件 概要」では、膜構成がCu/Moで、膜厚は560/25、 T角は45(±10)、CDロスは1.0～1.2(±0.1)であることを掲載。 また、評価試験として、Cu0から15kppmの断面図や、CD上/CD下/T角の 結果を表でご...
メーカー・取り扱い企業： パナソニック環境エンジニアリング株式会社 本社
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走査電子顕微鏡用試料作製に最適！ 試料作製の煩わしさを解消します。
「SC-701AT」は、全自動コーターです。 排気操作完全自動式で、膜厚制御連動式です。 走査電子顕微鏡用試料作製に最適で、デバイスの電極膜付けにも使用できます。 【特長】 ○電子顕微鏡用試料を全自動で手軽に作製 ○プリセット方式により、膜厚のコントロール（簡易型）が...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）
● 独自のセルフバイアス法の採用により高速（3000〜5000Å/min）かつ低ストレスの成膜が可能。（特許出願中） ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ...
メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社
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LED光学多層DBR膜形成用真空蒸着装置 Sapio-DBR
LED 用光学多層 DBR 膜の成膜に最適！
φ4inch ウェハー約110枚/batch →タクト：3h/batch 以内 →必要設置エリア：W4.6m×D6.3m×H3.2m ※SGC-S1550i 使用時 ※水晶式膜厚計の脱着の際には 工場側天井パネルの取外し等が必要な場合がある ○優れた再現性 連続batch保証も対応 ○膜質の調整が可能 Chippingによる膜の損傷を抑制するための ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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スプレーコーター 立体レジスト塗布装置 DC110/DC210
MEMSデバイス及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ー！
面、台形や直角頂点部といった従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できます。スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール、トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能です。塗布膜厚は、スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応します。AZエレクトロニックマテリアル社AZ－P4000シリーズ、化薬マイクロケム社SU8、KMPRシリーズなどの超厚膜レジストをはじめ、ベンゾシクロブテ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
回転・上下昇降・加熱（500℃）オプション ・プロセスガス制御：MFC x 1（Ar標準、最大3系統増設：N2, O2） ・APC自動制御（キャパシタンスマノメータ オプション） ・水晶振動子膜厚モニタ ・シャッター ・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…
YH Research株式会社（本社：東京都中央区）は調査レポート「グローバル厚膜レジストのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を12月4日に発行しました。本レポートでは、厚膜レジスト市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、厚膜レジスト市場の開発方針と計画、製造プロセスとコスト構造についても考察します。主要生産地域、主要消費地域、主要メーカー...
メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社
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蒸着用電子銃など真空蒸着のことならお任せください。
VISTA株式会社は、TELEMARK製の電子銃や水晶膜厚モニターなど多彩なラインアップで取り揃えております。 TELEMARK社の電子銃は、超高真空対応型、高真空汎用型、シングルポケット、回転型、直線型、ルツボ容積4ccから1500ccまで、最大ビーム...
メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社
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「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…
クティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。 特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる 膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御 ※...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
膜するFace-down成膜方式の採用により、低パーティクルで安全かつ高品質な成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きなウェハでも確実に吸着でき、優れた膜厚均一性を得ることが可能です。 ウェハ周辺の副反応生成物の付着を低減させた構成にすることで、メンテナンス性（低負荷かつ長周期）を向上させています。 コンパクトな筐体サイズで、隣接設置も可能なので、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…
P（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！ 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ 【特長】 ■スピンプロセスによる膜厚分布の高均一性 ■2～12インチまで対応可能 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応可能 ■自動ウェハサイズ検知機能 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に
溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…
エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置の稼働時間が大きなカギを握っています。エッチング装置部品の保護膜は、溶射やエアロゾルデポジションによる酸化イットリウム膜が使われていましたが、エッチン...
メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…
新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載 Ｃ…
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ビューラー・ライボルトオプティクスの光学用スパッター装置
sted Reactive Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安定した製膜を実現。 ・MF（中周波）電源を用い金属酸化膜、窒化膜を製膜。 ・膜厚制御はダイレクトモニターリング方式による高精度な制御が可能。 ・200層以上および20ミクロン厚の多層膜厚のフィルターが作成可能。 ・Co-Sputtering技術により中間屈折率のチューニング...
メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社
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印刷膜厚を均一にする為の重要な研磨について、写真を用いて解説します
「スキージ研磨」についてご紹介します。 スキージを長く使用していると、版との摩擦によってエッジ部が摩耗し、 スキージの表面が凸凹になると膜厚のバラツキが大きくなる事がございます。 印刷膜厚のバラツキは製品の品質に大きな影響を与えます。 例えば電子デバイスでは電気抵抗、電流容量等の特性に影響します。 印刷膜厚を均一にする為に...
メーカー・取り扱い企業： ニューロング精密工業株式会社
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ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応
日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。 従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことにより ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。 〇特長 ・ライナー大容量化。 ・ハイレート化 ・大型装置対応。 ・厚膜対応。赤外用途への対応も可能 ・レート安定化 ・低ダメージ・低欠陥...
メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社
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立体レジスト塗布装置「スプレーコーター DC110/DC210」
スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応。膜厚は１μｍ～６００μｍまで…
点部といった 従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できる ○スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能 ○塗布膜厚は、スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応 ○膜厚は1μm〜600μmまで可能 ○AZエレクトロニックマテリアル社AZ-P4000シリーズ 化薬マイクロケム社SU8、KMPRシリ...
メーカー・取り扱い企業： 三明電子産業株式会社
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硬質クロムめっきの約２倍の硬度(HV1800)を実現した、世界初のアモ…
世界初のアモルファスクロム「クロアモール」は2〜4%の炭素を含むクロム系合金めっきで、膜厚3～4μと薄いながらも高硬度と優れた耐摩耗性を兼ね備えています。 【特徴】 ●アモルファス構造を有し、通常の結晶構造のめっきとは異なる特性を有する。 ●熱処理により、硬度が硬質クロムめっき...
メーカー・取り扱い企業： オテック株式会社
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PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…
【特長】 ○はんだ凝着防止 ○膜厚・耐久性アップ ○密着力アップ ○脱膜再コーティング可能 ○環境負荷低減（RoHS 適合） ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所
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リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…
多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
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ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…
膜条件に対応したオプションにより多品種少量生産、柔軟な 生産計画へ対応可能です。 【特長】 ■最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ■T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ■独自プラズマ制御(MPスパッタ)技術にてスパッタ薄膜特性を向上 ■ヒーターステージ(1000℃)搭載で高温プロセスが可能 ■開発工程～量産工程まで様々な用途へ活用が可能 ...
メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
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短納期・小ロットでも対応可能です。 経験豊富な技術者による対応。 …
ハ：Φ2インチ～Φ300mm 機能性フイルム：MAX400×500mm 光学レンズ・精密小型部品など 塗布材料・粘度 ・各種薬液、レジスト、樹脂系など ・粘度：数cp～10000cp ・膜厚：1～100μm 主要用途・実例 ・大学、研究開発機関、産総研・素材、材料開発・精密部品、光学部品 ・医薬品研究用途・自動車精密金型部品・化粧品・電子デバイス、半導体、液晶 各種設備装置 ...
メーカー・取り扱い企業： ブルーオーシャンテクノロジー株式会社
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リチルピュアで解決！高純度性に優れたＰＦＡ樹脂リチルライニング
【特長】 〇メタル溶出防止性能に優れたフッ素樹脂ライニング 〇１ｍｍを超える膜厚で安心 〇負圧条件でも使用OK。ベントホール不要。 〇シームレスな皮膜 〇複雑形状に対応 ＰＦＡ樹脂は半導体産業で多用され、ＰＦＡ樹脂のコーティングやライニングも多く採用されています。そ...
メーカー・取り扱い企業： 日本フッソ工業株式会社
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短時間剥離！手動リフトオフ装置（マニュアル機）Lift-off
短時間剥離！当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処…
研究開発用途で活躍するマニュアルリフトオフ装置をご紹介します！ アセトンや専用剥離液で一晩浸漬した後に超音波やスプレーでリフトオフをするような長時間工程を短くできます。 当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高剥離力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 さらに、弊社独自の温調膨潤と高圧ジェットの組み合わせで処理時間を24時間→3minに減らした事...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…
従来型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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最先端のMEMS・半導体パッケージプロセスをはじめ、各種実装プロセスに…
【スピンレス塗布装置】 ・装置仕様 最大塗工サイズ： Φ450mm 使用可能塗工液粘度： 1～50,000mPa・s 塗工可能膜厚： 1～500μm 塗工速度： 5～50mm/sec 膜厚精度： ±3%以内 【精密スプレー塗布装置】 ・装置仕様 最大塗工サイズ： 10mm□～G5サイズ ノズルタイプ： 回転霧化...
メーカー・取り扱い企業： ブルーオーシャンテクノロジー株式会社
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広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します
マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■広範な膜特性の制御可能 ■豊富な蓄積データ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…
ロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置
ック社製） ○自動ビン打ちテープ貼り機（タイヨー工業社製） ○自動乾燥炉（グローアップ社製） [分析装置] ○硫酸銅めっき液全自動管理装置 ○硫酸銅めっき液添加剤測定装置 ○酸化膜・金属膜厚測定装置 ○熱リン酸中のSi濃度分析装置 ○電解・無電解液の各種メタル分析装置 ○3D加熱表面形状測定装置 ○銅膜厚測定器 [実験・評価用装置] ○R&D用塗布装置 ○R&D用露光装置...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
B電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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長時間・多量の真空蒸着またはスパッタリングのプロセスに有効
日本電子株式会社 水晶振動子式膜厚コントローラ/モニターに接続して、真空蒸着時の膜厚や蒸着レートを計測/制御するための多点センサーです。 真空チャンバー内長さ、センサーヘッドタイプ、水晶振動子（クリスタル）枚数を、選択して組み合わせ...
メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社
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超低速ディツプコーター(ディップコーティング装置) ナノレベルの膜厚…
とで、単分子の粒子配列から、多孔質体への薄膜を形成することができます。ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップコートが可能です。ナノレベルの膜厚形成、オパール膜生成等に適しています。操作はタッチパネル方式を採用し、誰でも何処でも同一条件で簡易に操作が出来ます。 詳しくはお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２ ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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硬度や耐摩耗性を上げることが出来ます。
硬質アルマイト処理は、硬度が高い（Hv450〜500）ため、自動車や機械など工業分野で広く使われています。また、処理後にバフ研磨が可能なので、光沢を求めたい製品などにも採用できます。 ・膜厚を厚く処理出来る 硬質アルマイト処理は皮膜を厚くすることができ、その膜厚は素材にもよりますが30〜100µｍ厚まで可能です。硬度だけでなく膜厚も厚くできることにより、耐久性も向上します。 ...
メーカー・取り扱い企業： 三和メッキ工業株式会社
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『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
の他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 「カーボンナノチューブ合成装置」 ■全自動でCNT合成が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■基板プラズマクリーニングシステム搭載 ■優れた膜...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４ ・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…
載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を実現 ■最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構
『scia Trim 200』は、高精度・高スループットによる 膜厚エッチング制御のイオンビームトリミング装置です。 最大200mmウエハ基板対応しており、歩留改善。 また、プロセスはイオンビームトリミング(IBT)となっております。 ご用命の際は、お...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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水銀プローバ CV/IV測定システム
を形成した状態で測定 可能 ◆オートマチックシステム。最大49箇所の測定サイトを指定しC-V、I-V 特性、TDDB、Vdb、Qbdの酸化膜破壊評価、Dit、ドーピング濃度、酸化 膜厚、Low-k、High-k等の自動マッピング測定が可能 ◆高い測定再現性。正確に設計された水源プローブ面積と、測定毎に新鮮 な水銀を使用する独自のメカニズムにより優れた測定再現性を実現 ...
メーカー・取り扱い企業： 雄山株式会社 東京支店
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最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…
『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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PR
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受託加工サービス
切断をはじめ、ポリッシング、積層などの工程をご紹介！当社の受託…
ショーダテクトロン株式会社 -
連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント
連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対…
株式会社フロロテクノロジー -
コーティング剤検査装置『Sonar』
UVライトを使った2Dコーティング剤検査装置。独自開発AIを使…
株式会社ジュッツジャパン -
小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】
クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備している…
株式会社ハイブリッジ 東京営業所