フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

【新製品】脱脂用洗浄剤 『ネクシアS-63』フッ素系洗浄剤

PRHFCを含まないフッ素系洗浄剤！様々な法規制に非該当！PC・ABS樹脂…

『ネクシアS-63』は脱脂洗浄に適したフッ素系洗浄剤です。鉱物油系加工油付着の鋼板・金型・ロール等の手拭き洗浄、金属加工部品の浸漬洗浄等が可能。他フッ素系洗浄剤と比べて、コストパフォーマンスに優れております。HFCを含まないフッ素系洗浄剤のため、環境に配慮した洗浄剤です。 『ネクシアS-63』の主な特長 1)HFC,臭素を含まないため、法規制の該当が少ないことによる扱いやすさ 2)オゾン破壊係数...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カネコ化学

半導体チップ温度Tj測定法の種類と特長

試験を実施するにあたりどの方法で測定するのかを選択することが重要な要素…

半導体チップ温度Tj測定法の種類と特長について説明します。 パワーサイクル試験は、デバイスへの通電電流による発熱により Tj(半導体チップ温度)が一定の温度変化を繰り返した際の 熱ストレスに対し、その耐久性を確認す...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

精密研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

試料研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

小型試料研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

小型鏡面研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上鏡面研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上精密研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

鏡面研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

小型精密研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

卓上試料研磨機『ダイヤラップ』

小型試料の鏡面研磨、TEM用薄片の準備試料製作用研磨ができ、限られたス…

　動　機 　： 単相100V　40W ・ ラップ盤回転数　　： 30 ～ 90rpm（低周速タイプ：15 ～ 60rpm） ・ ラップ盤の大きさ　： φ150mm ・ 研 磨 試 料 寸 法 　： φ1 ～ 50mm ・ 機　体　寸　法　　： φ258 × H455mm ・ 機　体　質　量　　： 18kg ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気を遣わずにご相談ください。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜を...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

異形条切削ライン・異形条洗浄研磨ライン・異形条レベラー

異形条切削ラインや異形条洗浄バフ研磨ライン、異形条レベラーも製造いたし…

前工程として、凸凹をはじめとした 様々な形にしたものです。主に電子産業における端子部品やLEDの分野に 多く使用されています。 異形条の種類は夥しくまたその形状も変化しやすいことから、切削法が 一般に使われています。 しかし、圧延法による製造でも前工程では切削法を採用する場合もあり、 今日ではその製造法は重要な役割を担うようになりました。 当社では、異形条切削ラインの製...

メーカー・取り扱い企業： 生田産機工業株式会社

緊急除害装置(S-CDシリーズ)

毒性ガス漏洩の緊急時に無害化します。（高圧ガス保安法一般則第55条第1…

緊急除害装置「S-CDシリーズ」は、高圧ガス保安法に対応した緊急用乾式除害設備です。 （高圧ガス保安法一般則第55条第１項） ● 特殊高圧ガス（７種）の他、アンモニア、塩素など、各種ガスの仕様に合わせた安全設計 ●排気ブロワーのインバーター制...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

軟質PVCフィルム『アキレスバイオマスセイデンクリスタル』

バイオマス材料を使用し、環境負荷低減に貢献。優れた帯電防止・防炎効果を…

従来品と変わらない 優れた帯電防止性能および防炎性能を備えています。 【特長】 ■原材料の一部に植物由来のバイオマス材料を使用 ■帯電防止性能を有し、表面抵抗率10^9Ωを発揮 ■消防法施行令第4条の3に適合した防炎性能 ■REACH規則・RoHSII指令の海外法規制に対応 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： アキレス株式会社 化成品事業部フイルム販売部

【磨く技術】超精密ラッピング加工/超精密ポリシング加工

セラミックから金属・ガラス・単結晶など、幅広い素材に対応！当社の加工技…

行い、加工物を微少切削しながら研磨することに よって、加工物をより平坦に仕上げていく遊離砥粒加工です。 「超精密ポリシング加工」は、ラッピング加工された梨子地面を平坦な 鏡面に仕上げる研磨法で、硬質な材料についてはダイヤモンドパウダーを 使用したハードポリシング加工と酸化物及び磁性材料などはメカノケミカル ポリシング加工などがあります。 【超精密ラッピング加工 特長】 ■加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社新興製作所

プラズマダイシング装置『MDS-100/MDS-300』

複数サイズのウェハに対応！誘導結合プラズマを使用したBosch法による…

理が可能なプラズマダイシング装置です。 高い均一性を保ちながら、ソーやレーザのようなウェハへのダメージを 発生させずに処理を行うことが可能。 高速ガス切り替えシステムを用いたBosch法によって、優れた側壁形状および 自由な形状での加工を実現し、既存の手法と比較して優れたダイ強度を 提供いたします。 【特長】 ■ダイの品質/歩留まり/ダイ形状の自由度向上に優れた処理能力...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

2020版 薄膜作製応用ハンドブック

｢21世紀版薄膜作製応用ハンドブック｣から17年、基礎を押さえつつ、新…

面特性 　5章 薄膜材料の磁気特性 　6章 薄膜材料の光学特性 　7章 薄膜材料の力学特性 　8章 薄膜材料の化学特性 第2編 薄膜の作製と加工 　1章 基板と表面処理 　2章 PVD法 　3章 CVD法 　4章 液相薄膜堆積法 　5章 有機・高分子・生体関連薄膜作製法 　6章 パターン化技術 　7章 薄膜の加工／改質技術 第3編 薄膜・表面・界面の分析・評価 　1章...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エヌ・ティー・エス

フッ素系溶媒対応チラー　ペルチェ式チラー・冷凍機式チラー

昨今入手困難で貴重なフッ素系溶媒の使用量を抑えることができるチラーです

定温度 : -10～80℃ / -15℃~70℃ 冷却能力 @20℃：1320W / (H)1600W (M) 1800W 1 (L) 2000W ポンプ：14Lpm@0.21MPa 外寸法(WxDxH)mm：483 x 610 x 221 ＜Thermo Cube＞ 設定温度 :５～50℃ (-5℃～65℃オプション） 冷却能力 @20℃ ：200W～600W@20℃(6モ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、 その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成す...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

断熱材『ヒートカバリングス』【貼るだけで大きな省エネ効果！】

設備の上から貼るだけで約１０％の省エネ効果を実現。工場を止めることなく…

気層を最大限に活用した画期的な天然素材系断熱材です。 【製品情報】 ○HC-F7（平面用） →使用温度範囲：150℃以下 →熱伝導率（参考値）：0.04344W/mk（20℃・平板熱流計法） ○HC-P11（配管用長尺タイプ） →使用温度範囲：150℃以下 →熱伝導率（参考値）：0.04146W/mk（20℃・平板熱流計法） ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧...

メーカー・取り扱い企業： 富士工業株式会社

精密溶接加工【気密溶接】

40年のノウハウと徹底した工程内品質管理が可能にした気密溶接技術【マイ…

【マイクロプラズマ溶接法】 弊社で使用しているマイクロプラズマ溶接法はスイス・セッシロン社（現OERLIKON社）が欧州原子核研究機構（CERN）施設の装置開発の必要に迫られできた溶接法。とても気密性の高い技術で、弊社の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッセイ機工

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能 6) 数mmまでの厚膜ウェハに対応可能...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

独自高密度スパッタ法　アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

【特徴】 　・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術 　・低温で低エネルギー照射が可能 　・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】 　・超硬工具用保護膜（c-BN） 　・食品用バリア膜（アルミ）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

成膜装置『ロールコーター』

ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を実現！成膜…

ロールコーター』は、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に 表面処理をする装置です。 ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を可能にし、 成膜は、プラズマCDV法、スパッタリング法、真空蒸着法等のプロセス を組み合わせたマルチプロセスが可能です。 また、素材ロールの脱ガス対策にTMP＋CRT排気システムの採用しました。 【特長】 ■ドラムレス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社C&Vテクニクス

回路形成材料　アデカエイフェススーパーシステム

自動管理装置「アデカエイフェススーパー装置」による液管理

回路形成材料「アデカエイフェススーパーシステム」は、専用エッチング液「アデカケルミカＴＦＥ－３０００シリーズ」により、サブトラクティブ法による微細配線を実現します。ピッチ２５μｍ以下ＣＯＦにおいて、高エッチファクターの回路形成を可能にします。自動管理装置「アデカエイフェススーパー装置」による液管理により、安定したファインエッチングを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

【磨く技術】超精密ポリシング加工

ラッピング加工された梨子地面を平坦な鏡面に仕上げる研磨法です。

ポリシング加工とは、ラッピング加工された梨子地面を平坦な鏡面に仕上げる研磨法です。ラッピング加工に比較して、圧力をかけて加工することは変わりありませんが、加工液加工媒体はまったく違います。ポリシング加工には硬質な材料についてはダイヤモンドパウダーを使用したハードポリシング加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社新興製作所

【資料】コーティングの処理方法によるメリット比較表

処理方法の選定に！乾式法と湿式法のメリット・デメリットを掲載しています

当資料は、成膜・塗工速度、コスト、基材の性質、形状などコーティングの 処理方法によるメリット比較表です。 ニデックでは、乾式・湿式のコーティングからご要望に合った処理方法を ご提案。 真空蒸着処理「Lequa-Dry」は、低コストでガラス・樹脂などの素材に ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニデック コート事業部

【安衛法ナノ粒子対策に適応　ラミコーチL645-H】興研代理店

■安衛法ナノ粒子対策適応■HEPAフィルタ搭載■ダクト室外排気(ファン…

■労働安全衛生法のナノ粒子対策に適応しています。 興研株式会社製　「ラミコーチ　LAMIKOACH L 645-H(ダクト排気タイプ)」 ◆同一ベクトル集合流でコンタミをしっかりと捕捉 ◆クリーン化された吹き...

メーカー・取り扱い企業： 泉州機工株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

金属のヘアライン加工とは？鏡面仕上げとの違いと表面処理のメリット

鏡面仕上げは光沢があって見た目が良いはずなのに、これらの製品に鏡面仕上…

採用されていない！？金属の表面加工の目的とは？ 2. ヘアライン仕上げって何？実はメリットがたくさん！研磨による表面処理でヘアライン加工を行なう理由とは？ 3. ヘアライン加工にはどんな研磨方法が良いの？金属や樹脂の表面処理に最適なヘアライン仕上げのやり方とは？ 4. ヘアライン加工のような金属の研磨による表面処理なら三共理化学株式会社にお任せください！ 5. 研磨で金属や樹脂の表面処...

メーカー・取り扱い企業： 三共理化学株式会社

SiC半導体評価装置「SemiScope」

フォトルミネッセンス(PL)イメージング法を用いたSiC半導体評価装置

らイメージング測定を行うタイリング機能を用いることで、約33億画素の解像度で6インチウェハ全面のPL画像を得ることができます。 SiCウェハの結晶欠陥を可視化。非接触・非破壊検査がPLイメージング法で短時間測定可能です。 【特徴】 ○SiC半導体評価装置 ○SiCウェハの結晶欠陥を可視化 ○非接触、非破壊検査 ○PLイメージング法のため短時間測定が可能 詳しくはお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトンデザイン

卓上平面研削機 テクノラップ、テクノラップステップオート　研究用

教育機関、研究室・実験室向けに小型化した立軸平面研削機。カップ型ホイー…

加工面積は変動 ・ テープル作業面積 　　W78 × L130mm ・ テープル左右移動量 　　自動120mm、手動130mm ・ クーラント 　　ポンプ循環式タンク別置（20L・40W） ・ 寸　法 　　W800 × L450 × H850mm ・ 本体質量 　　80kg ※　お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることがで...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

エッチング加工

精密写真と写真腐食法の応用から生まれた技法！極小極薄・複雑形状の製品に…

は、マスキングによる防食処理を施した上で、 腐食液によって不要部分を除去するものです。 プレス打ち抜き加工では不可能だった超精密な要求にも対応できる、 極小極薄・複雑形状の製品に好適な加工法。 また「フォトエッチング加工」は、エッチング加工技術に 精密な写真技術・ 精密画像技術を組み合わせた精密加工技術です。 精密写真と腐食加工の応用により、エレクトロニクス製品などにおけ...

メーカー・取り扱い企業： 平井精密工業株式会社

ピンホールテスター

ピンホールテスター

定性漏れ試験法の液没試験に対応した「リークテスター」です。 アルミやプラスチックフィルムの食品や化粧品包装の定性漏れ試験に簡易型＆廉価型パッケージテスターが便利！ ※外径6φのナイロンチューブや真空ポンプが別途...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンプラテック

薄膜形成

薄膜形成

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。 弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、 フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッ...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社