最大1000℃まで耐熱！約15年間使える耐熱工業用ラベル

PR耐熱、耐薬品、耐久性とともに優れた耐衝撃性があり、自在にサイズと形状が…

セララベルＳＬは、ステンレス基板にセラミックスでバーコードパターンなどを焼成した高い耐熱性を持ったラベルです。 【特長】 ◆高い耐熱性（セララベル-300の場合、 最大1400℃まで） ◆セラミックのラベルにもかかわらず、約90度まで折り曲げても割れにくい。 ◆約15年相当の長期耐久性にも対応（生産現場に適しております） ◆耐薬品性も良好。（ただし、高温高濃度アルカリを除く） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シグマックス

PRP/HSR対応 冗長化装置RedBOX『RB304』

PR制御システム等における周辺装置のゼロ復旧時間を実現。 クリティカルな…

PRP/HSR(IEC62439-3）に対応していないデバイスも本製品と接続すれば、周辺装置をその冗長ネットワークに参加することが可能となります。 ＜PRP製品＞ 並列接続でLAN構成を二重化。 一方の回線が故障してもメッセージロスが生じません。 ＜HSR製品＞ LAN回線をリング構成とし、右回り・左回りに同じメッセージを伝達。 一方が故障してもメッセージロスが生じず、遅延も起...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リョウセイ

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

*旧製品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント： ・C/Cコンポジット Max1700℃ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中

半導体材料メーカー様　必見！固体材料供給における高温化の課題への提案の…

250℃の供給プロセスでオールメタルバルブを使用しているが、耐久回数に不満がある。 200℃の供給プロセスでシート交換できないバルブを使用しているため、バルブを交換しなければならず、ランニングコストがかさ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バル...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

可能 ○膜厚均一性(NSG)：2ヘッド仕様、3ヘッド仕様ともに 　　　　　　　　　　面内:≦±3.5%、面間:≦±2.5% ○不純物濃度均一性：面内、面間ともに±3.0%以下 ○温度：350℃ ～430℃(オゾンプロセスでは150℃～350℃ ) ○対応ウェーハサイズ：8インチ 　(8インチ・6インチウェーハサイズの兼用化はオプション対応) ○スループット：～100枚/hour(＠...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) 　　　　 SiH4/O3系 (SiH4/PH3/B2H6/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350～430℃（SiH4/O3系 150～300℃) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

濾過精度 0.003μm 常用圧力 1MPa未満 最大許容正差圧 0.7MPa(20℃) 最大許容逆差圧 0.3MPa(20℃) 最高許容温度 120℃(不活性ガス) 外部漏量 2×10-11Pa・m3/sec以下 構成部材 ハウジング：SUS316L(電解研磨処理)　　内面...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

【仕様(一部)】 ■サイズ：890mm(W)×2300mm(D)×2250mm(H) ■膜厚均一性：≦±2％(面内、面間) ■温度：300℃～450℃(オゾンプロセスでは150℃～350℃) ■対応ウェーハサイズ：8インチまで可能 ■スループット(参考値)：14枚/hour(500nm成膜時) ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥・プラズマ処理等の実験に最適な装置です。 従来の電熱炉等の外部加熱による加熱より、短時間で実験が可能です。（加熱例：金属粉体 20μ 2g を10秒で20℃→700℃） ラジオのチューニングのように発振周波数（5.7〜6.0GHz　連続可変式）の可変が可能。 オプションとしてパルス巾変調・FM変調・AM変調・発振周波数の掃引・PLL式周波数発生器、...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

○静電容量： 500〜4000pF ○静電容量誤差： ±20%以内（高精度モデル有） ○許容温度範囲： -30℃〜+50℃ ○エネルギー散逸： 最大0.5% (@1kHz) ○絶縁試験： 下記DCテスト電圧にて10秒間 ○絶縁抵抗： 20,000MΩ(最小値：@100VDC) ○温度係数： N...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

ダブルフェルールタイプ継手「BI-LOK」【高品質！低価格！】

様々な流体を低温から高温まで確実にシールする継手です！

軽にご相談ください） ●1個のご注文から承ります ●接液部はすべて同じ材質(SUS316)で構成 ●広い温度範囲で低温から高温まで使用可能 【仕様】 ●使用温度領域：-196～+600℃（SUS316） 　　　　　　　　-196～+200℃（C3604、C3771） 　※圧力により、使用可能温度領域も変動します。 ●RoHs対応品（SUS316） ※詳しくはカタログをご...

メーカー・取り扱い企業： イハラサイエンス株式会社

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

　・水素ラジカル注入用：RF13.56MHz・1KW・MHC 　・メインプラズマ用：RF13.56MHz・1kW・CCPシャワーヘッド ■チャンバー：SUS304、架台 ■基板ステージ：800℃、2インチ基板×1枚、上下ベローズ ＜大面積ナノカーボン堆積装置(LCND-200)＞ ■プラズマ源：RF13.56MHz・5kW・マルチホローCCPシャワーヘッド ■チャンバー：SUS304...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4x DLI気化器を搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■スチールステンレス製チャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

比抵抗率計

取付時間の短縮によるコスト低減につながります。

○測定レンジは０〜２０ＭΩ・ｃｍです。 ○精度(％ＦＳ)は±２％ＦＳです。 ○セル定数はＫ＝０.０１ｃｍ−１です。 ○励起(電源)電圧はＤＣ ２４Ｖ±１０％です。 ○動作温度範囲は−４０℃〜８５℃(セル部)　０〜４０℃(アンプ部)です。 ○防水性能はＩＰ６６です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

高濾過精度オールメタルガスフィルター

コンパクトサイズでより高流量のガスを処理

【特徴】 ○濾過精度は０.００３μｍです。 ○推奨流量は１５〜２５０Ｌ/ｍｉｎ 各種です。 ○設計圧力は１７ＭＰａ（２,４６５ＰＳＩＧ）ａｔ２０℃です。 ○最大許容差圧は１５ＭＰａ（２,１７５ＰＳＩＧ）ａｔ２０℃です。 ○最高許容温度は４６０℃です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

低圧力損失ＰＴＦＥガスフィルター

濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造

【特徴】 ○濾過精度は０.０１μｍです。 ○推奨流量は４０〜３００Ｌ/ｍｉｎ各種です。 ○最高使用圧力は０.９８ＭＰａ（１４２ＰＳＩＧ）ａｔ２０℃です。 ○最高使用差圧は０.５ＭＰａ（７２.５ＰＳＩＧ）ａｔ２０℃です。 ○最高使用温度は１２０℃です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

高耐圧用ＰＴＦＥガスフィルター

濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した…

【特徴】 ○濾過精度は０.００３μｍです。 ○推奨流量は４０Ｌ/ｍｉｎ、１５０Ｌ/ｍｉｎ各種です。 ○ハウジング設計圧力は２０.６８ＭＰａ(３,０００ＰＳＩＧ、２１０ｋｇｆ/ｃｍ２)ａｔ２０℃です。 ○最高使用圧力は０.９８ＭＰａ（１４２ＰＳＩＧ）ａｔ２０℃です。 ○最高使用温度は１２０℃です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温…

略 < ・お困りではありませんか？ 除害装置前段での副生成物対策 ・⾼コンダクタンスの配管部材は何故良いの？ ・CVD排気ラインの改善により、ダウンタイム削減ができる！ ・流路を高温（180℃）、かつ均一に加熱する方法とは？ 掲載されている製品・技術： #半導体製造用部材　#空圧 ボールバルブ　#手動 ボールバルブ　#アイソレーションバルブ　#Ｌ型真空バルブ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

ポイントタイプ液漏れ検知器『リークラーン OD-7』

液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止！油、有機溶剤検知器にＲｏＨＳお…

→漏洩警報出力リレー →故障警報出力リレー ○使用定格 →抵抗負荷：AC175V 8A、DC30V 8A →誘導負荷：AC175V 3.5A、DC30V 3.5A ○保存温度：-10～60℃ ○動作温度：0～50℃ ○動作湿度：85％RH以下(結露なきこと) ○外形寸法：w52×h199×d166mm ○電源：AC85V～264V　47～440Hz・DC110V～370V ○...

メーカー・取り扱い企業： ラポールプラントエンジニアリング株式会社

【超耐熱】エンジニアリングプラスチック　SCM8000のご紹介

超耐熱・低吸水率・優れた摺動特性を誇るエンジニアリングプラスチックです…

け加工の際には、刃物によるバリレス可能、微細穴あけ加工にも適したプラスチック材料です。 当社では精密加工の実績も多く御座いますので、是非ご相談ください。 【特徴】 ■荷重たわみ温度：480℃ ■低吸水率(23℃,24h)：0.06wt％ ■曲げ強さ：190MPa ■高真空・高耐熱部品への置き換え(セラミックス⇒SCM8000等) 詳しくは資料をご覧ください。お気軽にご相談頂...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【超耐熱】各種スーパーエンプラ(国内/海外材料)

耐熱300℃以上！各種スーパーエンプラのご提案が可能です 半導体業界…

『スーパーエンプラ』は主に半導体業界に多く使用される高耐熱樹脂です。 耐熱300℃以上を誇り、汎用～エンプラでも厳しい環境下でも使用可能です。 当社は各材料メーカーの取扱い/ご提案が可能です。 ◆特徴・特長 ・物性データはリンク画像をご参照ください。 ・当社は【材料販...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

SiCウェハボート

高温での使用が可能で1350℃まで対応可能！主要装置メーカーの認定を取…

高純度で高温での使用も可能なウェハボートです。 主要装置メーカーの認定を取得しており、パーティクル発生を抑制します。 【特長】 ■ 高純度 ■ 高温での使用が可能（～1350℃） ■ パーティクル発生を抑制 ■ 主要装置メーカーの認定を取得 ※詳しくはカタログをダウンロードして頂くか、お気軽にご連絡ください...

メーカー・取り扱い企業： クアーズテック株式会社

ジャケットフォーム

耐熱１５０℃　断熱材

耐熱１５０℃　メラミンスポンジを使用した高性能・軽量・安価・現場加工が容易な断熱材です。 熱交換器、水蒸気配管、ボイラー関連、半導体前工程排気配管等にご使用頂けます。 これまで、ガラスフェルトなどの断熱材に...

メーカー・取り扱い企業： ラックデザイン株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃） ■PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

超高純度ガス小型精製器

腐蝕によるパーティクルの発生や化学反応を起こしません。

条件により最大１ＰＰＢ以下まで除去します。内蔵の粗取り用フィルターメディアには全てＳＵＳ３１６Ｌを標準として使用しております。面間８４ｍｍ、１２０ｇの小型・軽量タイプもございます。ガス種により３５０℃から４００℃のベーキングによって再活性処理をすれば、完全寿命まで繰り返しご使用いただけます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

表示器 デジタルストレインゲージメーター

小型・軽量でありながら３-３/４桁(３９９９)の表示ができ、上下限２接…

○精度は０.１％Ｆ.Ｓ±１ ｄｉｇｉｔ表示３００１以上は規格外です。 ○表示はＬＥＤ数字素子　文字高８ｍｍ(赤)です。 ○表示範囲は０〜３９９９です。 ○ゼロ点ドリフトは０.０２％Ｆ.Ｓ/℃以内です。 ○使用温湿度範囲は０〜５０℃/３５〜８５％ＲＨ(非結露)です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

低圧力損失メタルガスフィルター

歩留まりを大幅に向上

【特徴】 ○濾過精度は０．００３μｍです。 ○推奨流量は１０〜１００Ｌ／ｍｉｎです。 ○最高使用圧力は０.９８ＭＰａ（１４２ＰＳＩＧ）ａｔ２０℃です。 ○最高使用温度は４６０℃です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

粗取り用オールメタルガスフィルター

幅広い濾過精度に対応

【特徴】 ○濾過精度は０.１、０.５、１.０、５.０、１０μｍ 各種となります。 ○推奨流量は４０Ｌ/ｍｉｎ、６０Ｌ/ｍｉｎです。 ○設計圧力は１７ＭＰａ（２,４６５ＰＳＩＧ）ａｔ２０℃です。 ○最高使用温度は４００℃です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

ガスフィルター用ジャケットヒーター

２００℃の高温でガスフィルターをベーキングする画期的なベーキングヒータ…

【特徴】 ○最高使用温度は２００℃です。 ○電源はＡＣ１００Ｖです。 ○消費電力は６０Ｗ〜１００Ｗです。（０.６Ａ〜１Ａ） ○加熱タイマー最大使用時間は１００Ｈｒｓです。(デジタル設定) ○温度調節はＰＩＤ制御です。(デジタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

微少流量超小型セラミックガスフィルター

SPCシリーズは超小型（φ21×84mm）、軽量（90g）に設計されて…

【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○推奨流量は10L/minです。 ○設計圧力は17MPa（2,465PSIG）at20℃です。 ○最高連続使用温度は120℃です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

　対象基材：ガラス板、金属板などの平板 【仕様(一部)】 ・対象膜：DLC、SiN、SiOなど ・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能) ・温調：ステージ温調＜500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

樹脂フィルム（PET、PEN）、金属箔 【仕様(一部)】 ・対象膜：DLC、SiN、SiOなど ・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能) ・温調：ステージ温調＜500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

ピラニ真空計　PG-20

小型なボディで装置組込みの省スペース化！

：a)制御出力　リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax 　　 　 　 　 　b)アナログ出力　0?5V　F.S.　（1V/1桁）　出力インピーダンス1ＫΩ ・使用温湿度 ：5?40℃、?90％（結露なしで） ・電源PG-20 ：AC85?132V、12VA以下（AC100V、50/60Hz） ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

鋳物加工もお任せ下さい　材料手配から承ります

砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳…

　測定精度：0.35＋Ｌ/1000（μｍ） 　　　　　　　　(プロ―ピング誤差 0.45μｍ以下) 　　　最小表示量：0.00001ｍｍ 　　　最小測定圧：0.03Ｎ 　　　　　恒温室：2２℃±0.5℃ 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　他　三次元測定機2台 ソフト一覧 CAD：Creo Elements Direct Modeling CAM：GO2cam 加工シ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

定温度型ピラニゲージコントローラ　PG-30

熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。

：a)制御出力　リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax 　　 　 　 　 　b)アナログ出力　0?5V　F.S.　（1V/1桁）　出力インピーダンス1ＫΩ ・使用温湿度 ：5?40℃、?90％（結露なしで） ・電源：DC24V±10%　8W以下...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

MOCVD排気濾過用フィルター　（AIXTRON装置用）中国産

MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

一、換気性がよく、差圧が安定、ＭＯＣＶＤ装置にも優しい。 ３、 機械構造強度が強く、耐高温性、耐腐食性が優れる、ＭＯＣＶＤ装置の厳しい排気環境に適応。 パラメーター： １、 使用温度：300 ℃ ~ 900 ℃； ２、 仕様：270*150*60mm ３、 お勧め交換周期：25-30ＤＡＹＳ ...

メーカー・取り扱い企業： 愛鋭精密科技（大連）有限公司（AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

●装置サイズ(mm): 1460mm(W) x 3830mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) 　　　　 TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350～450℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

です。 ●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

三菱電線工業の耐熱ふっ素ゴムシール「サンエラストＫ」

長期耐久性に優れたふっ素ゴム！！従来のふっ素ゴムに比べ高温（200〜2…

てきました。 ●従来よりも高温でのプロセスも増えてきており、シール材料も 　高温耐久性に優れるものが要求されてきております。 ●「サンエラストＫ」は、従来材料よりも高温（200〜220℃）での 　長期耐久性に優れるふっ素ゴムです。...

メーカー・取り扱い企業： 三菱電線工業株式会社