【サンプル提供可能！】シリコンフォームシート「ハマガスフォーム」

PR広範囲での使用を可能にした、環境に配慮したシリコンフォームシート！

『ハマガスフォーム』は、液状シリコーンゴムの発泡体で 断熱、遮音、耐熱、難燃性において、優れた特性をもつシートです。 －40℃～180℃迄、短時間なら200℃まで物性に変化がないので安心 して使用できます。撥水性にも優れているため、グラスウール、 ウレタンフォームに比べ長期断熱性がよいです。 また、フロン、炭酸ガス等地球環境問題になるものは一切使用して おらず、万一燃焼してもハ...

メーカー・取り扱い企業： 浜松ガスケット株式会社

寿命が２倍に！ガススプリング保護カバー『HDPシリーズ』

PRガススプリングに直接組付け可能！厳しい取付環境であっても、ガススプリン…

『HDPシリーズ』は、厳しい取付環境であっても、ガススプリングの寿命を 延ばせる様設計された保護カバーです。 ケーブルタイをシリンダーのC溝若しくはフランジアダプターに対して 締め付けることにより、ガススプリングに直接組付けることが可能。 コンパクトで独創的な設計により、装着することで、 装着しない場合に比べてガススプリングの寿命が2倍になると考えられます。 【特長】 ■開放的な空気口を持た...

メーカー・取り扱い企業： KALLER

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バル...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

LEMO■半導体製造装置用コネクタ

「過酷な環境下の使用」にも耐えるLEMOコネクタ。その信頼と実績により…

フィールドスルーカプラ 　真空(気密) 　He漏れ率：1x10＾-7 mbar.ℓ/s (1x10＾-8 Pa. ㎥ /s). 以下まで対応可能 ・耐高温/耐熱性 　(非防水モデル：~250℃、防水モデル：～200℃動作可能) ...

メーカー・取り扱い企業： 丸紅エレネクスト株式会社

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（NW25）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

ム ■デガス：4W ボンバード方式 ■ガス種設定：FIL　ON/OFF、デガス ON/OFF、エミッション切替 ■アナログ出力：0?9VDC（ログリニア）：1V/1桁 ■使用温湿度：0?40℃、?95％（結露なしで） ■ベーキング温度：200℃（回路部を取り外すこと） ■電源：DC20?28V　14W ■通信機能（規格）：RS-485 ■セットポイント：1点 ※詳しくはPD...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

も対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

濾過精度 0.003μm 常用圧力 1MPa未満 最大許容正差圧 0.7MPa(20℃) 最大許容逆差圧 0.3MPa(20℃) 最高許容温度 120℃(不活性ガス) 外部漏量 2×10-11Pa・m3/sec以下 構成部材 ハウジング：SUS316L(電解研磨処理)　　内面...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

【仕様】 ○到達圧力 6.7×-5Pa以下 ○排気速度 大気圧より4.0×10-4Pa迄20分以内 ○蒸発源 電子銃270°偏向、電源16kW ○基板加熱 MAX150℃　常用100℃ ○膜厚分布 ±1%以内 (バッチ内、バッチ間)　T/S＝900mm ○排気系 クライオポンプ、ドライポンプ、メカニカルブースターポンプ ○真空槽 W800mm × D800mm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

シエンタオミクロン　蒸着源

様々なタイプの蒸着源をご用意しております

【ラインナップ】 ○小面積用蒸着源　EFM2 →蒸着面積：φ5～φ20mm →温度領域：160～3300℃ ○小面積用蒸着源　EFM3 →蒸着面積：φ5～φ20mm →温度領域：160～3300℃ ○イオンアシスト小面積用蒸着源　EFM3i →蒸着面積：φ5～φ20mm →温度領域：160～...

メーカー・取り扱い企業： シエンタ オミクロン株式会社

LUXEL社製　抵抗加熱蒸着源(エバポレータ)　OLED

有機EL等の有機薄膜デバイスの開発に最適、抵抗加熱型蒸着源

です。 ★ラインナップ★ ●小型サイズ（1cc） のOLED１ ●中型サイズ（10cc）のOLED２ ★特長★ - 揮発性有機物の低温蒸着に適した独自のデザイン - 50℃〜600℃での熱コントロールが可能 - 高パフォーマンス：2Å/秒以上の一定速度で成膜が可能 ...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

アールエムテック　サービス案内

マザーテクノロジーで未来を拓く　アールムテック　サービスご紹介

【取扱い製品紹介】 ●温度信頼性試験装置 ハイタオ製サーマルショック装置は温度信頼性試験環境として －55℃→＋125℃まで10秒で昇温 ＋125℃→－55℃まで16秒で降温 急速温度変化環境を提供します。 ●サップコールド 弊社相模原サービスセンターにて全数出荷前検査を行い日本、台湾、中国、東南...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliL...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

成膜関連製品　TELEMARK 真空蒸着用コンポーネント

蒸着用電子銃など真空蒸着のことならお任せください。

ります。 また、蒸着装置の水分を効果的に取り除くことは、真空蒸着にとって必須の課題です。 TELEMARKのクライオトラップ TVPシリーズは、真空チャンバー内に設置したクライオコイルに-150℃の冷媒を循環させることにより、水蒸気を吸着排気し、水蒸気分圧を効果的に下げ、また排気時間を劇的に低減します。 【ラインナップ】 ○電子銃 ○電子銃電源及びアクセサリー ○水晶膜厚モニター...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社

真空装置用冷凍機SUPCOLD

シンプルな構造で低価格を実現。消費電力、設置スペース、GWPの低減にも…

・冷却温度：－100℃～－140℃ ・最大負荷：2,000W～3,500W ・排気速度：100,000～220,000L/sec ・同様の装置に比べて、消費電力の削減、スタンバイ時間が 　短縮されております。 ...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

光学用真空蒸着装置用潤滑材・ミラクルピロー

光学用真空蒸着装置の回転系に滑らかな回転をもたらし、歩留まりの向上と回…

ミラクルピローはNFメタル（デイツ材）を円柱状に成形した製品です。真空中、低温（100℃）から高温（約800℃）まで潤滑性を保ちます。デイツ材については、このサイト内で「真空用自己潤滑性複合材料」を検索してください。デイツ材は潤滑成分に二硫化タングステンを使用しています。二硫化モリブデ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社アベニューマテリアル

LED光学多層DBR膜形成用真空蒸着装置　Sapio-DBR

LED 用光学多層 DBR 膜の成膜に最適！

【標準装備】 ○超高速排気系 ○EB-GUN　×2式 ○RFイオンソース ○ファイバー式光学式膜厚計 ○6連水晶式膜厚計 ○ハロゲンヒーター（120℃±5℃内） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナンスが容易です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高900℃の高温プロセスが可能 ■基板回転による優れた膜厚分布および...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』

スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを…

『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

仕様多様化真空フランジ-「ICFフランジシリーズ」

高真空及び超高真空に対応可能の真空部品

【特長】 ○製品多様化 ○規格品を提供可能以外の特製品を提供できます。 ○製品の材質は基本的にSUS304ですが、他の材質も製造可能です。 ○許容温度：-200℃～450℃(OFHC Copper) ●規格品を提供可能以外に客先のニーズを応じて特注品を製造も可能なので、その他機能・ボルトの穴数や製品の厚みが規格品と違いの場合、ご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

斜入射型蒸着装置

基板入射に対応する円弧型レール上に任意位置で固定可能！蒸着ポジションを…

です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整することができます。 【Kセル】 ■ルツボ容量：2cc ■加熱温度：Max1,200℃ ■加熱制御電源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

Coolteq ZERO 真空装置用冷凍機 Supcold社

HFC冷媒ガス無使用

・冷却温度：－100℃～－140℃ ・最大負荷：2,000W ~ 4,800W ・排気速度：100,000～330,000L/sec ・従来品と同等の性能。 ・冷媒ガス：グリーン冷媒。※HFCは不使用。 ・使用...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

コールドカソードゲージ コントローラ　CG-20

堅牢な冷陰極型電離真空計

能 （仕様） ・出力信号 ：a)フォトリレー出力　容量DC24V、0.5A 　　 　 　 　 　b)アナログ出力　0?5V F.S.　主力インピーダンス1ＫΩ ・使用温湿度 ：5?40℃、?90％（結露なしで） ・電源　 ：AC100V±10％、10VA以下（50/60Hz） ※詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

LUXEL社製　抵抗加熱蒸着源(エバポレータ)　RADAK

有機物蒸着にも対応。　コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源

転式ロックカバーでルツボの出し入れが容易 - 低熱損失、低消費電力 - 均一なコーティング分布 - 多種類の蒸着材料に対応 ★オプション★ 　●熱電対　type K(上限1200℃)/C(上限1500℃) 　●ルツボ　アルミナ、石英　他 　●ライナー　タングステン、モリブデン、タンタル 　●コントローラ　３種 ...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

フリーマウント式金属蒸着源『KFMD-1』

メンテナンスフリー！ボートタイプで取扱容易なフリーマウント式金属蒸着源

空内長さ：150ｍｍ～(選択可) ■導入向き：上向き～水平(任意) ■蒸着向き：0°～90° ■ボート材質：Ta・Mo・W ■ボート容量：0.5cc ■最大ボート温度：Ta(Max1400℃)・Mo(Max1200℃) ■蒸着材料：LiF・MoO₃・In ■消費電力：60Ａ/600Ｗ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

耐熱仕様：非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」

高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

ハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。 　その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製作しております。 ◎特徴 １．耐熱1000℃可能 ２．使用温度環境に応じた材料を使用します。 　　PTFE. ・PEEK・アルミニュウム・SUS316他・石英 　　酸性・アルカリ性・腐食ガスに考慮 ◎対象ワーク １．高温ウエ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

ッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

電子銃用反射電子トラップ、輻射光防止対策） により低温蒸着が可能です。 【特長】 ■蒸着粒子の基板への入射角の垂直性（90°±3°at6インチウェハ） ■基板水冷機構による低温蒸着（70℃以下＝実績値） ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード＆ソフト対応（枚葉式＝CtoC化 　ロードロック化　複合プロセス...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ウェハプロセス用真空蒸着装置

膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…

置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構　 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム　 ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用公転ドーム ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大型樹脂基板用蒸着装置

成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力

ており、 大型チャンバ（φ2000）、電子銃蒸発源、大型排気系の組合せにより 大量バッチ処理による高品質装飾膜や電磁波シールド膜の生産に好適です。 【特長】 ■各種金属膜の低温形成（70℃以下） ■短時間バッチ処理 ■RFボンバードによる樹脂基板への膜の高い密着性 ■各種薄膜・厚膜・多層膜の形成（Cu／Ni　Cu1μmNi0.25μm　積層） ■不連続膜の安定した成膜　 ■...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

『事例』　高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか？ KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームページ経由でお問い合わせください。 ホームページ：https://www.kitzsct.com/con...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ

イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します

置への取り付け自由が大きい 2. 独特なイオン源デザイン（特許）で非常に小さなサイズながら 3.大きなイオン電流が広範囲に得られます 4.高効率の水冷構造により動作温度が非常に低く（70～80℃）基板への熱ダメージが少なく、また熱により消耗する部品が皆無でメンテナンスフリーです 5.極微量のガスでイオンビームが得られますので、低い圧力での動作が可能 6.特殊コーティングのイオン源は高濃...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社

1軸/2軸トランスファーロッド

UHVチャンバー間でサンプルを輸送することを目的とした1軸サンプルトラ…

■駆動軸径（内側軸/外側軸） 　・φ8g6 (先端部：M4ネジ) 　・φ12h6 ■直進力：70N ■回転トルク：5Nm ■取付フランジサイズ：ICF70 ■べークアウト温度：200℃ ■圧力範囲：1-11mbar-1,000mbar ■構造材料：フルUHV適合 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

卓上型蒸着装置『Mebius』

卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

【性能】 ■受注後納期：概ね2.5ヶ月 ■抵抗ボート：タングステンで2700℃程度までの昇温可能 ■入力最大電流：ボートで120A時にAC100V11A程度(実績) ■蒸発可能な物質：Ni(2017年11月現在) ■ボートサイズ：幅6～10mm／厚み0.2～0.15mm...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

化合物半導体ウエハ用非接触搬送装置「ＳＡＧ（ＩｎＰ）型」

化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）を気体供給操作を行い、ウ…

◎特徴 １．４５０℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 ２．化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2～４ｉｎ ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/4ウエ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

3連式電子ビーム蒸着装置

メンテナンス性・作業性が簡便！リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を採用…

ンテナンス性・作業性が簡便。 基板寸法は最大φ3インチで、リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を 採用しております。 【特長】 ■基板寸法：最大φ3インチ ■基板加熱温度：常用600℃ ■リフトオフ成膜機構：特殊遮熱機構採用 ■電子ビームガン：ハース3連手動スライド移動式 ■EBガンメンテ機構：EBガンスライド移動機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

MBE装置適応蒸発セル　EF 40C1型

手動及び自動シャッターは、純度の高いタンタルで製作！

EF40C1はMBE装置に適応した蒸発セルとして開発されました。 モリブデンフリーの材質によって製作されているため、250～1500℃の範囲で蒸発する低融点及び中融点材料に対して使用できます。 詳しくは、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

超高真空対応小型電子ビーム蒸着源 「KME-70」

シンプルな設計となっており、研究開発用途におすすめな製品です。

○取付フランジ　ICF-70 ○試料印加電圧　1.5kV～2kV（標準） ○蒸着可能な材料例　Fe, Co, Ni, Nb, Pt ○材料移動調整距離　25mm ○ベーキング温度　200℃ ○シャッター駆動　回転（手動） ○T-S間距離　150mm（標準） ○参考蒸着レート　0.5Å/s 　　　　　　　　　溶融材料用ルツボ（オプション） ○試料　フィラメント印加電源（オプシ...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バル...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

フリーマウント式金属蒸着源『KFOD-1』

取り扱いが簡単！小型で簡易設計のフリーマウント式金属蒸着源

) ■導入向き：上向き～水平(任意) ■蒸着向き：0°～90° ■るつぼ材質：アルミナ ■るつぼ容量：0.3cc ■フィラメント材質：タンタル ■熱電対：K型 ■推奨使用温度：～350℃(熱電対周辺) ■温度安定性：±2.5℃ ■消費電力：2.6Ａ/7.5Ｗ(350℃:るつぼ温度) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTLシリーズ）

弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用…

取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa・m3/sec 許容加熱温度：≦200℃ 直進力：6kgf 回転トルク：9kgf/cm 回転角目盛：10° 駆動軸径：φ10mm 接続フランジサイズ：ICF-70FH 駆動方式：マグネット ◎詳しくはPDF資料をご覧いた...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa・m3/sec 許容加熱温度：≦200℃ 直進力：6kgf 回転トルク：9kgf/cm 回転角目盛：16° 駆動軸径：φ16mm 接続フランジサイズ：ICF-114FH 駆動方式：マグネット ◎詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

3源抵抗加熱蒸着装置

EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…

角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社