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51件 - メーカー・取り扱い企業
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PR初心者でも扱いやすい設計で包装・パッケージ印刷の品質と効率を改善。印版…
テサテープではパッケージ印刷用粘着テープにおいて、市場最大級のラインナップをご提供しており、当社の専門家がお客様の印刷要件に合わせて、ニーズに合致した製品をご提案。 「初心者でも扱いやすい」製品設計のため、工程の簡略化に貢献し、 安心して使用いただけるようにトレーニングも実施しています。 【製品例】 ・印版の取りつけ・取り外しを簡素化する印版固定用テープ tesa(R) Softprintシリ...
メーカー・取り扱い企業: テサテープ株式会社
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PR【リサイクル事例集無料進呈!】 広い適用範囲、効率的な連続生産、樹脂の…
『二軸混練押出機TEX』は広範な原料やプロセスに対応した高いカスタマイズ性能、 バッチ式とは異なる連続生産性を持つ機械です。 またヒーター伝熱とスクリュのせん断による高いエネルギー効率、高トルクによる広い運転領域などの特長を持ち、 樹脂のリサイクルにおいて非常に多くの適用事例がございます。 当資料では、『二軸混練押出機TEX』によるリサイクルプロセス事例をまとめてご紹介しております。 ケミカル...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本製鋼所 樹脂機械事業部
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シンプル構造で低価格を実現!GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹…
当社が取り扱う『PECプロセス装置』をご紹介します。 光源・波長はUVA、UVCから選択でき、エッチング溶液加熱により 高速な深堀エッチングが可能。 タッチパネル入力でエッチングリンスをパラメータ設定できます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三明 本社、東京支店、大阪支店、神奈川営業所、山形営業所、浜松営業所、名古屋営業所、長野営業所、八戸営業所
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化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置
RIE-330iPCは、放電形式に誘導結合方式(Inductively Coupled Plasma)を 採用した化合物半導体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応 Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、 Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチ...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応!デモ機常設!…
『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…
イオンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、研究開発から生産まで幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。 【...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…
薄ウェハ(100μm以下)の自動枚葉搬送を実現したプラズマエッチング装置。マルチモードプラズマとステッププロセスで幅広いプロセスに対応 自然酸化膜除去から厚膜レジストアッシング・クリーニング・ディスカムまで。 ディスクリートIC、パワーデバイス、化合物半導体・MEMSなど多くのデバイスの量産現場で多様な...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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非球面レンズのDLC膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…
実績豊富なプラズマクリーニング装置「POEM」をDLC除膜用にグレードアップ&カスタマイズ。 従来型より処理時のイオンのエネルギーを向上させ緻密なDLC膜の除去に対応。通常のO2クリーニングプロセスだけでなくマルチガスプロセスでSi含有DLCなどカスタマイズされた各種DLC膜の除去に実績。 当然DLC除膜だけでなく成型残差や型表面の酸化層の除去、メッキ前のクリーニングにも対応。 型の仕様...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…
エッチング装置「EXAM」をベースとし最大Φ600mmもしくは500mm□までステージを拡大。 大型ステージでファインピッチのエッチング・各種有機物のアッシング・表面改質・クリーニングなど幅広いプロセスに対応 「従来機種EXAM」同様にウェハ・ガラス・セラミック基板のエッチングを行なうと共に大型実装基板・カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面処理にも実績豊富。 電子デバイス...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…
新開発プラズマ源HCd(ホローカソード放電)型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくCu薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 300mmウェハや積層基板、最...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…
半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期...
メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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物理的・電気的なダメージを与えることなくパッケージの除去が可能!高選択…
MIP(Microwave Induced Plasmaマイクロ波誘導プラズマ)を有し、 O2(酸素)プラズマを用いてパッケージを除去。 また、一つの装置内でエッチング、洗浄、乾燥、一連のプロセスを 自動で行うことが可能です。 【特長】 ■マイクロ波誘導プラズマ ■O2プラズマ ■大気圧下プロセス ■全自動プロセス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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プラズマベースの原子層エッチング装置『Takachi ALE』
表面の単原子層のエッチング!エッチング対象物へのダメージを抑える事が出…
当社が取り扱うプラズマベースの原子層エッチング装置 『Takachi ALE』をご紹介します。 Takachiシステムは、ALEキットを搭載することにより、 ALEプロセスが可能です。 表面の単原子層毎にエッチングしていく為、エッチング対象物への ダメージを抑える事が出来ます。 【特長】 ■ALEキットを搭載、ALEプロセスが可能 ■表面の単原子層...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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XeF2エッチング装置
●完全ドライプロセスであるため、スティクションによる自立デバイスの破壊を抑制することが可能。 ●ウエットプロセスにおける前処理、後処理が不要。 ●ガスを断続的に流し、エッチングすることによりエッチングのスピードお...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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生産設備・研究開発向け!薄膜電子部品工程における一連のプロセスを提供!
大村技研の『フォトリソグラフィープロセス装置』は、薄膜電子部品工程 における一連のプロセスを高精度高信頼性で提供するシステムです。 洗浄・コーター・現像・剥離・エッチングなどの生産設備および 研究開発向けの設備を提供します。 ...
メーカー・取り扱い企業: 大村技研株式会社
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ICPエッチング装置 RIE-800iPC/RIE-400iPC
真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…
。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・ 低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現しています。 【特長】 <RIE-800iPC> ■最大Φ8”ウエハ対応 ■放電形式に誘導結合プラズマを採用 ■真空カセット室を備えプロセス再現性や安定性に優れる ...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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平滑なエッチング面と高い加工精度を実現!サンプルテスト対応いたします!
。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で、 ナノインプリントモールドの作成に適しています。 平滑なエッチング側面、加工面の垂直性、開口部の角度制御などナノイン プリントモールドに必要な多くのプロセス性能を備えています。 【特長】 ■スキャロップの無い平滑なエッチング側面 ■高いSi深掘り時の垂直性(90°±2°) ■エッチングテーパー角の制御性 ■高開口度エッチングに対応 ■デモ機を常設 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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総保有コストを減少させる事が可能!最高クラスの均一性とスループットを実…
『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、 プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。 当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの 既存のシステム...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテス…
に対応。 SiN、Si系薄膜だけでなく高融点金属や難エッチング材にも対応 石英の垂直性エッチング、厚膜レジストの微細加工等ニッチデバイスの加工に最適。 プラズマモード切替によるマルチステッププロセスでアッシングやクリーニングまで幅広い用途に積極対応...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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大量生産のための多数個取り、大型モジュールの生産など幅い広いニーズに応…
ターンを加工できます。 お客さまのさまざまな加工ニーズをご相談ください。 【特長】 <Cu/ITO 積層膜のパターニング> ■ベースフィルム上に積層したITO膜とCu膜を、 1プロセスの中でパターニング ■有効露光エリア500mm×1,000mmで、大面積の加工も可能 ■両面パターニングにも対応 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: NISSHA株式会社
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明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術
この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に
溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…
ジションによる酸化イットリウム膜が使われていましたが、エッチング装置は、シリコンウエーハにエッチングしますが、同時に装置内もエッチングされるため、発生するパーティクルが製造歩留上の問題となり、先端プロセスでは使えなくなってきています。 イオンアシスト蒸着法による酸化イットリウム膜は、溶射やエアロゾルデポジションによる酸化イットリウム膜と比べて遥かに緻密でパーティクルレベルは大きな優位性を持ってい...
メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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RIEモードとDPモードの切り替えが可能!特殊表面処理によるメタルコン…
【仕様(抜粋)】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■プラズマソース:CCP型 ■真空排気 ・低真空プロセス:MBP+DP ・高真空プロセス:TMP+DP ■圧力制御:APC制御 ■プロセスガス:F系、Cl2、Ar、O2、他 ■制御操作 ・制御:PLC ・操作:タッチパネルまたはPC ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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経済性に優れた高精度ラバーシール
ータ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いたします。...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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バッチ式プラズマアッシング処理装置(バッチ式プラズマアッシャー)
ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置
ンにて4インチと6インチ、5インチと6インチウエハ兼用も可能です。 シリコンウエハ上に形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起により、低ダメージアッシング(灰化除去)や表面改質等、多様なプロセス用途に利用可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー
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エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…
【仕様】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■プラズマソース:CCP型 ■真空排気 ・低真空プロセス:MBP+DP ・高真空プロセス:TMP+DP ■圧力制御:APC制御 ■プロセスガス:F系、Cl2、Ar、O2、他 ※PDF資料も合わせてご覧ください。 ※お気軽にお問い合わせ下さ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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ご希望通りのプロセスコントロールをお約束でき、安全・確実・合理的で濃リ…
●ナイトライドエッチシステムは、ご希望通りのプロセスコントロールをお約束します。 ●この芸術的なコントロールはナイトライドエッチ用で安全・確実・合理的で、濃リン酸のボイリングポイントをリフラッキシングによって自己調整する機能を持っています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒロテック 東京営業所
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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1台あればコーティング・洗浄・エッチングなど様々なプロセスに対応ができ…
縮したい…そんなお悩みをお持ちの方いらっしゃいませんか。 協同インターナショナルの樹脂製多目的スピンプロセッサ『POLOS』が解決します。 1台でコーティング、洗浄、エッチングなど、さまざまなプロセスに対応可能です! またデスクトップタイプ、ミニウェットステーションとタイプも選べます。 【特 長】 ■全て樹脂製のスピンプロセッサだから… ・使いやすい=汚れても簡単に洗浄できる ・...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル
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デメリットを解決!特長は、パターン間を繋ぐブリッジ(ツナギ)が無いこと…
エッチングにより作成した面状発熱体(ヒーターパターン)の事例です。 このサンプルの特長は、パターン間を繋ぐブリッジ(ツナギ)が無いことです。 ブリッジが無い為、通常のプロセスでは加工途中にパターン部分が垂れ 下がってしまい加工することができませんが、特別なプロセスを用いることで、 ブリッジ無しでの加工が可能。 今回の事例のようにブリッジ無しで作成することで、...
メーカー・取り扱い企業: 東洋精密工業株式会社
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小型プラズマクリーナー(簡易型枚葉式プラズマクリーナー)
本装置は、平行平板型高周波プラズマを使用した簡易型枚葉式プラズマクリーナーです。 600mm(W)×600mm(D)×750mm(H)(ポンプ除く)の小型プロセス装置です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー
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半導体故障解析 歩留まり解析 リバースエンジニアリング マイクロ…
理アプリケーションにはビームベースの技術が出現しています。Ion Beam Delayering(イオンビームディレイヤイング)では、大面積の試料作製が可能であり、正確かつ制御された物理解析の処理プロセスを実現することができます。...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…
先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシング・親水処理、撥水膜処理、各種用途に対応。 基板実装から素材表面処理まで実績豊富な大型プラズマ装置...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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高いスループットを実現!大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…
より、 高いスループットを実現。 特にMarathon(TM)グリッドは、従来の方式に比べ、長期に渡り 良好な均一性を得ることが出来ます。 【仕様】 ■イオンビームシステム ■プロセス温度:-40℃~+60℃ ■傾斜角:+90度~-80度 ■ロードロック 又は、CtoC ■ウエハサイズ:100mm,150mm,200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物…
。豊富なオプション類(RIE室・ICP室・加熱・冷却室・追加ガス系)による通常のアッシング岳でなく。マルチステップアッシング・各種有機膜エッチング・エッチング/アッシング複合装置として多くの用途・プロセスに対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型
です。静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で 重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。 【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ■接ガス部にインコネルを採用 ■CEマーク対応/RoHS準拠 ■接続継手の選択が可能 ※『7...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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Aera Transformer デジタルマスフローコントローラ
コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC
CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ(MFC)とデジタルマスフローメーター(MFM)は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工!プロセスガスからラジカルを選択的に…
『CCP-T60M/B2M』は、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する 平行平板型エッチング装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる60MHzパワーを上部電極に印加。 また、常に適切なエッチングプロセス条件が維持されるシーケンスプログラムを 内蔵...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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メカニカルクランプ又は静電チャック対応!サブナノメーターエッチング機構
『scia Trim 200』は、高精度・高スループットによる 膜厚エッチング制御のイオンビームトリミング装置です。 最大200mmウエハ基板対応しており、歩留改善。 また、プロセスはイオンビームトリミング(IBT)となっております。 ご用命の際は、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mmウエハ基板対応 ■歩留改善 ■高精度・高スループットによる膜厚...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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循環方式が多彩なウェットプロセス洗浄装置
・多彩な揺動機構を準備しています。手動タイプから全自動タイプまで、仕様やご予算に合わせてご提案します。 【オプション機能】 ○漏洩センサー ○排気圧センサー ○非常停止スイッチ ○一時停止スイッチ(自動メカ付) ○扉センサー(自動メカ付) ○圧力スイッチ ○温度センサー(恒温度仕様) ○自動消火システム ○パトライト ○網入りガラス又は強化ガラス ○爆圧ハッチ ○各種...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
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イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』
最大150又は200mmウエハ基板対応!エッチング角度及びステージ傾斜…
『scia Mill 150/200』は、マイクロウエーブECRソース(218mm径)の イオンビームミリング装置です。 プロセスは、イオンビームエッチング/ミリング(IBE/IBM)、 反応性イオンビームエッチング(RIBE)、ケミカルアシストイオンビーム エッチング(CAIBE)となっております。 ご用命の際は...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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スキャン時には周速制御による均一性向上も可能!従来より多数の御使用を戴…
像、エッチングの処理時スプレー又はパドルの レシピ選択ができ、スキャン時には周速制御による均一性向上も可能。 本機は低コストで、従来より多数の御使用を戴き実績も豊富ですが、 循環再利用のプロセスには2チャンバーでの対応が必要となります。 廃液・排水、排気のきちんとした分離対応が必要な場合には、 新型のUDS式装置で対応いたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ソフエンジニアリング
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耐プラズマ性Oリング フロロパワーDPR (特殊フッ素ゴム)
Oリングの桜シールによる配合材無使用の特殊(フッ素ゴム+フッ素樹脂)材…
優秀な耐プラズマ性を有しながらコスト優位性の高い特殊材質です。配合剤を使用していないことから低パーティクル性に優れ、半導体や液晶関連機器などのドライプロセスに於いて、優秀な耐プラズマ性を発揮します。ノンフィラータイプの耐熱パーフロ材質「フロロパワーFFN(FFKM-耐プラズマ)」の下位互換として有効です。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規...
メーカー・取り扱い企業: 桜シール株式会社 日本本社
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基板バイアス機構!当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…
『scia Cube 300/450/750』は、300×300mm、450×450mm、 750×750mm基板対応のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置です。 プロセスは、マイクロウエーブPECVD、反応性イオンエッチング(RIE)と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■300×300mm、450×450m...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…
4」を2月26日に発行しました。本レポートでは、半導体エッチング装置市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、半導体エッチング装置市場の開発方針と計画、製造プロセスとコスト構造についても考察します。主要生産地域、主要消費地域、主要メーカーの生産と消費とともに、半導体エッチング装置市場の現在と将来の市場動向を分析します。本レポートでは、競合環境、主要な競合他社...
メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社
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いろんな溶液を温めたり・保温するのに最適!テフロン製の熱交換器ならそん…
使用、高温時の環境ストレスクラッキングや耐熱衝撃性に優れています。またフレキシビリティがあるためガラスやグラファイトのように熱や機械的衝撃で割れることがありません。 2、有害な物質の溶出が無く、プロセス液を汚染しません。半導体やプリント基板などの高い純度を要求される用途に最適 3、ほとんどの化学薬品に耐えられます 4、非粘着性でスケールやスラッジが付きにくく、たとえ付いても簡単に落とせます。...
メーカー・取り扱い企業: 関西理工株式会社
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非対称構造で高流量・低圧損・長寿命!超純水製造にも!非対称構造…
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リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置
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様々な現場で活用されているデジタル顕微鏡と工業内視鏡の最新ライ…
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高速5軸ミリングマシン「RXU」+オートメーション「RCS」
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