ソレノイド【エア駆動レスをご検討中のお客様は是非ご相談ください】

PR既存設備の「エア駆動レス化」を解決！エア駆動レスをご検討中のお客様、ぜ…

省エネやカーボンニュートラルを目指す工場では、既存設備の「エア駆動レス化」が重要な課題となっています。 しかし、推力・速度・ストロークなどの条件を満たしつつ、限られたスペースに収めるのは難しいです。 特に標準の電動アクチュエータだけでは対応できないことが多いです。そんな時こそ、弊社にご相談ください。 ■特徴／弊社の強み ・特注品対応が得意：お客様の要望に応じて適切な解決策を提供します。 ・エキス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エスクラフト

半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

＜主な特徴＞ ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 ＜多様な物理モデルや機能＞ ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数（１次、２次のグレーティング） ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■２次グレーテ...

メーカー・取り扱い企業： クロスライトソフトウェアインク日本支社

266nm ナノ秒パルス 固体レーザー

産業用 266nm パルスレーザー　0.5W-3Wモデル

産業用 微細加工用レーザー (Advanced Optowave Corp.社製)は、電子部品や半導体製造用途向けに多くの生産現場で使用されています。多くは24/7で運用されており、高い信頼性能を評価されています。 付属のGUIソフトによるPC制御で各種パラメータ設定、モニタリングが出来ます。 高品質・高信頼性能の4倍波結晶を採用しています。 GUI上から結晶のスポットを変更できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

各種レーザー用マスク＆ミラー

フォトファブリケーションを駆使！ファインパターンが形成可能！

今や、微細加工技術の１つとして、レーザビームを用いた加工処理は一般的となり、また、それを行う為の装置関連も飛躍的な進歩を遂げています。 いままで豊和産業株式会社では、そのような装置の部品としての光学製品を供給してまいりました。特に、反射ミラーにパターニング処理を施したレーザ用マスクは、パッケージ等へのマーキング及び微細穴あけ加工等の用途として多用されています。 フォトファブリケーションを駆使した製...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

【光デバイス（オプト）】曲線・斜線をきれいに作りたい

レーザー、フォトICなど、光デバイス業界の主要メーカーの実績が多数あり…

通信用インフラやLED市場など、光半導体の市場も、今後よりいっそうの 拡大が見込まれています。 光デバイスは、対象品種により、コスト、導波路特性など、求められる 特長が異なりますが、そのどれにも対応できるバリエーションをご用意。 デバイス特性を出す上で何が重要かを私たちは把握しており、熟練した 技術者がお客様の問題にいつでも挑戦します。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせく...

メーカー・取り扱い企業： 日本フイルコン株式会社

半導体製造工程で使用する高精度位置決めステージ使用例

位置決めステージ選定でお悩みの方へ。どの工程でどんな位置決めステージが…

当資料は、半導体製造工程ごとに使用実績を掲載しています。 インゴットの位置決め用高荷重ゴニオメーター「ワイヤーソー」をはじめ、 完成までの前工程/後工程で使われる位置決めステージをご紹介。 他にも、半導体ウエハのみならず様々な試料の厚さや表面形状等を 測定する装置などにも活用できます。 【掲載製品（一部）】 ■ワイヤーソー ■ウエハボンディング装置 ■プリント基板用露光...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社

【技術情報】フォトマスクとは？

レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。

フォトマスクとは、電子回路、表示デバイス、光学部品、精密機器などのパターンをウェハ、ガラス基板、プリント基板、金属板などに露光する際に使用される原板のことです。 フォトマスクに描かれたパターンは多くの電気製品、半導体、テレビ、スマートフォン、ノイズフィルター、スケール、ネットワーク回線関連製品に使用されております。 エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクア

株式会社ラットコーポレーション　事業紹介

フォトマスクやプリント基板の資材・設備の事ならラットコーポレーション

株式会社ラットコーポレーションは国内外の様々な電子関連事業会社様とのネットワークを駆使し、よりレベルの高い製品の提供を実現し、お客様の多種多様なニーズにお応えすることで、ご満足いただける企業を目指しております。 フォトマスクやプリント基板の資材・設備・製造・設計の事ならラットコーポレーションにお任せください。 【事業内容】 ○フォトマスク関連　資材・設備・ソフトウェア等の販売 ○PCB...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部

【加工事例】A5052／フライス加工／黒アルマイト処理

最短半日見積り／【加工事例】A5052／フライス加工／黒アルマイト処理…

当社は、様々な業界のものづくりに携わっておりエレクトロニクス業界もそのうちの１つです。 半導体製造、フィルム印刷製造など各メーカー様とのお取引の中から事例をご紹介いたします。 ◎加工事例（写真） 材料：A5052 加工：フライス加工 表面処理：黒アルマイト ※手のひらサイズから大物まで対応しております。 お客様が必要とする様々な印刷機械、産業機械、繊維機械 等の精密加工部品を単品加工から調達し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社　営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

フォトマスク

高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク

エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。エレクトロニクス、光学部品、スケール、ディスプレイなどの分野において、長年に渡る経験豊富な精密フォトリソグラフィー技術、またエクア独自の図形処理技術により、お客様の多様なニーズにお応えします。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクア