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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能
当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ
数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性!当社の電力供給装置を…
『TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ』は、高出力インパルス マグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング (スパッタリング前...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。
メンテナンス・リサーチ株式会社は、米国Materia Is Research Corporation製造スパッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電源...
メーカー・取り扱い企業: メンテナンス・リサーチ株式会社
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大正7年創業の歴史ある化学工業製品商社でありながら、光学薄膜・パターン…
です。 また、フォトリソグラフィ・エッチング技術を応用したパターン加工等の最先端技術の加工や、研究・開発も行っております。 【事業内容】 (表面処理事業) ・光学薄膜、真空蒸着、スパッタリング ・パターン加工(電気化学分析チップ、くし形電極等) (商社事業) ・化学工業製品販売 (各種合成樹脂・接着剤・シリコーン・ホットメルト等) ・樹脂成形品加工、金型加工 ...
メーカー・取り扱い企業: 安達新産業株式会社 本社
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10kWおよび20kW出力のスパッタリング用DC電源です。【アルバック…
DPG-10およびDPG-20は10kWおよび20kW出力のスパッタリング用DC電源です。 信頼性のある部品と回路で構成しております。 長年培ってきた電源のアプリケーションを含めたノウハウを設計に反映したプラズマ負荷に最適な信頼性の高い電源です。 【仕様】...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.
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太陽電池の製造など、重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮する電力供給…
『TruPlasma DC 4000(G2)シリーズ』は、美しい光学コーティングを 可能にするプラズマ電源です。 難度の高い材料の反応性スパッタリングプロセスに役立つように特別に設計。 このジェネレータは、太陽電池の製造、半導体の製造、硬質コーティングなど 重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮します。 【特長】 ■きわめて...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ
波形と周波数のフレキシビリティ!圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…
製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD(PECVD)と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高クラスのアーク制御 ■エネルギー...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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半導体製造装置向けボードコンピュータ『HPUD100』シリーズ
画像処理、HMI、リアルタイムモーションコントロール用途に好適!長期安…
OSカスタマイズ対応 高信頼性が求められる、 以下の様な半導体製造装置への組込みに適しています。 ◆露光装置 ◆エッチング/薄膜形成装置 ◆レジスト処理装置 ◆CVD装置 ◆スパッタリング装置 ◆ダイシング装置 ◆エージング装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 萩原テクノソリューションズ株式会社 事業企画本部 事業推進部
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3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』
【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速…
株式会社アマダ(アマダグループ) -
【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用…
テルモセラ・ジャパン株式会社