• オーダーメイド型スパッタリング成膜装置 製品画像

    オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

    PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能

    当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 【DL可/GD-OES分析・測定】めっき基板の洗浄評価 製品画像

    【DL可/GD-OES分析・測定】めっき基板の洗浄評価

    GD-OES(グロー放電発光分析)によりNiめっきの膜厚、濃度の分析状…

    グロー放電発光分析法(Glow Discharge OpticalEmission Spectrometry:GD-OES)は、スパッタリングにより試料表面から原子を弾き出し原子をプラズマ状態に励起し、生じた発光を測定することで試料の組成を分析する方法です。 この事例ではGD-OESによる「めっき工程前の基板洗浄効果調査」を紹...

    メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社

  • 【めっきの解決事例】難素材へのめっき 製品画像

    【めっきの解決事例】難素材へのめっき

    金錫合金めっきや天体観察用機器への金めっきなど!難素材へのめっきに関す…

    三ツ矢のめっき技術、管理体制による、難素材へのめっきに関するめっき・ 表面処理の課題解決事例をご紹介します。 電子部品材料XX社の事例では、"銅スパッタリングで形成した回路の半田付け性を 改善したい"とご相談いただき、めっき工程の開発により銅めっきを加工して、 試作提出したところ要求性能をクリアーすることができました。 この他、「耐熱性の...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三ツ矢

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