オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタ成膜ユニット

スパッタ成膜ユニット

マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備した スパッタ成膜ユニット 【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて 　使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源を搭載することにより、異なった膜種を成膜可能 ○逆スパッタ機能搭載により、基板のクリーニング・エッチングが可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

『高速スパッタリングによるさまざまな用途への成膜技術および装置面

※9月3日までに初めてお申込いただいた新規会員様は早期割引価格⇒42,…

第1部　スパッタの基礎と装置から見た改善策 1.スパッタリングの基礎 2.スパッタ装置の改善と変遷 3.膜厚分布の改善 4.ステップカバレージの改善 　4-1　ステップカバレージの改善要求 　4-2　カバレージが必要な理由 　4-3　スパッタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

ロールツーロール式真空成膜装置

試験研究に好適な小型ロールツーロール成膜装置！

なので、研究開発に好適。 フィルム搬送系に工夫をすることで、高速成膜が可能になります。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【主な仕様】 ■成膜方式：DCマグネトロンスパッタリング（オプションにてRFに対応） ■基板搬送：ロールツーロール（張力制御付）、速度0.2~3.0m/min、 　　　　　　張力15~80N ■ローラー面長：140mm ■フィルム寸法：最大...

メーカー・取り扱い企業： ユースエンジニアリング株式会社

真空装置のプロが書く『真空基礎知識』技術資料進呈中！※展示会出展

用語集、単位換算表、記号の意味、計算事例など、現場で使える知識を１冊に…

展の案内～ 会　　期：2017年12月13日₍水₎～15日₍金₎10:00–17:00 場　　所：東京ビックサイト 小間番号：東４ホール　4120 【出展製品】 マルチチャンバ型スパッタリング装置 ENTRONTM-EX2 W300 マルチチャンバ型成膜装置 ENTRONTM-EX W300 DC電源 DPG-10/DPG-20 標準型クライオポンプ [6型] CRYO-U6...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.