スパッタリング | イプロスものづくり

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池やバッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や表面保護のためのコーティングにも対応。サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

スパッタリング方式ロードセル

スパッタリング技術を採用することにより、製品のローコスト化を実現。 …

特長/用途小型・スパッタリング方式・ローコスト・平面/球面ロードボタン付属 スパッタリングゲージ採用により、ローコスト化を実現しました。ロードボタン（平面・球面）を付け替えることにより、対象物に対して理想的な負荷...

メーカー・取り扱い企業：ティアック株式会社

スパッタリング装置

固体表面にイオン化して加速した原子あるいは分子を衝突させることにより、固体表面から固体材料が飛び出してくる現象（スパッタリング）を利用した成膜装置です。高融点金属や合金材料、誘電体、絶縁材料にも適用できる為に、工業的利用価値が高い。...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

半導体材料の純度試験微量元素分析の前処理装置

スパッタリングターゲット、CMPスラリーなど、微量不純物分析の前処理に…

9 cm ・温度：最大300℃ 、圧力：最大199bar、出力：最大2000W ・最大サンプル数:28 CMPスラリー：研磨剤、酸化剤（酸化性物質）、キレート剤、腐食抑制剤 スパッタリングターゲット：アルミニウム、銅、ステンレス、タンタル、ニッケル ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン

TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ

数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性！当社の電力供給装置を…

『TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ』は、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング（スパッタリング前...

メーカー・取り扱い企業：トルンプ株式会社

【分析事例】SiGe中不純物の高精度定量評価

SIMS：二次イオン質量分析法

ます。 ●Ge濃度に応じた適切な定量補正を行わないと不純物定量値は本来の値に比べて50%以上異なることがある。定量評価を行うためには各組成に応じた標準試料が必要。 ●SiとSiGeではスパッタリングレートが異なる事が知られている。組成が深さごとに異なる試料においては、深さごとにスパッタリングレートが変化する。 MSTでは、標準試料の整備により高精度な組成分析が可能です。また、検量線...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

コンパクトプロセスガスモニタQulee CGMシリーズ

高圧下での高精度、高分解能を、革命的なシンプルさと使いやすさとともに実…

、革命的なシンプルさと使いやすさとともに実現したULVAC の新型残留ガス分析計／プロセスガスモニタです。各種生産ラインの設備技術の方々の声を形にしたプロセスモニタの新スタンダードの登場です。スパッタリング装置のプロセス管理（品質向上、歩留まり向上）に最適です。【仕様】 ○質量分離方式　四重極型質量分析計 ○質量数範囲　1～50 amu ○分解能　M/△M=1M（10% P.H.）...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

ULVAC DIGEST　真空関連機器　総合カタログ

無料プレゼント中！真空ポンプやクライオポンプなどを紹介しています。【ア…

セスガスモニタ ○膜厚計 →高速分光エリプソメータ ○リークディテクタ ○電源 ○膜厚・蒸着速度制御 ○真空機器構成部品 ○分子間相互作用解析装置／ソフトウェア／真空搬送系 ○スパッタリング装置 ○蒸着装置／巻取式蒸着装置 ○CVD装置／イオン注入装置 ○アッシング装置／自然酸化膜除去装置　エッチング装置／巻取式スパッタリング装置 ○研究開発用装置 ○分析装置 ○...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

光学式プロセスモニタOptius

さまざまなプラズマプロセスの状況をリアルタイムに監視することができます…

光学式プロセスモニタOptiusは、プラズマの発光スペクトルを測定することで、さまざまなプラズマプロセスの状況をリアルタイムに監視することができます。反応性スパッタリングでのMFC制御やエッチングのエンドポイント検出などに最適です。【仕様】 ○質量　本体ユニット（TSC）： 4.9kg 　　　　拡張ユニット（ESC, 1ch）： 1.3kg ○電...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

新対向ターゲットスパッタリング（NFTS）装置

超伝導薄膜応用分野やMEMS応用分野などに！低ダメージ・低温成膜で有機…

新対向ターゲット式スパッタ（New Facing Targets Sputtering：NFTS）技術は高密度プラズマを箱型空間に拘束することにより、堆積基板へのエネルギー種（反跳粒子、イオン、電子）の衝撃によるダメージを抑制できる原理・構造を特長とする成膜技術です。 NFTS技術により、これまでのスパッタ技術では困難とされていた低温・低ダメージで高品質な薄膜を形成することが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社トヤマ

圧力センサー高温用 PX1004L1

圧力センサー高温用

頼性です。補償温度範囲は＋24℃～＋204℃で、動作温度範囲は－54～＋232℃です。温度零点シフトおよび温度感度シフトは±0.018%FSO/℃です。歪ゲージは、基板と分子結合を形成するスパッタリング技法で作られています。このため、圧力変換器の較正の変化を生じる、シフト、ドリフトあるいはクリープが本質的にありません。直線性、ヒステリシス及び繰返し誤差合計は±0.25%FSOです。 15 p...

メーカー・取り扱い企業：株式会社パシフィックテクノロジー

［IP法］Arイオン研磨加工

IP法は、研磨法の一種でイオンビームを用いて加工する方法です

IP法は、エネルギー及び方向を揃えたイオンビームを試料に照射したときに試料表面から試料原子が弾き飛ばされるスパッタリング現象を利用して、試料表面を削り取る方法です。イオン種は通常試料との化学反応の心配のない希ガス（MSTではAr）が用いられます。加工面のAES分析では遮光板成分（Ni,P）は検出下限以下でし...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈

工数・コスト削減に！薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの…

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションで活躍中です。「新商品開発をしたい」「製品改善時に実機(装置)を作って検証したい」「事前検証,装置との比較検証をしたい」などでお困りの方に。また、自社開発製品のため、導入後も手厚くサポートいたします。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

［FIB］集束イオンビーム加工

FIBは、数nm～数百nm径に集束したイオンビームのことで試料表面を走…

■微細イオンビームによる試料加工 Gaイオンを試料表面に照射すると、Gaと共に試料表面を構成している原子や分子が真空中にはじき出されます。このスパッタリング現象を応用したエッチングにより、サブミクロンの精度で平滑な断面を作製したり、穴を開けたりすることができます。 ■原料ガス供給による立体構造形成原料ガスを試料表面に吹き付けて吸着させ、...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ

太陽電池の製造など、重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮する電力供給…

『TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ』は、美しい光学コーティングを可能にするプラズマ電源です。難度の高い材料の反応性スパッタリングプロセスに役立つように特別に設計。このジェネレータは、太陽電池の製造、半導体の製造、硬質コーティングなど重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮します。【特長】 ■きわめて...

メーカー・取り扱い企業：トルンプ株式会社

TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ

波形と周波数のフレキシビリティ！圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…

製造、建築用ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、光学膜向けの水冷式電力供給装置です。信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高クラスのアーク制御 ■エネルギー...

メーカー・取り扱い企業：トルンプ株式会社

【事例紹介】水電池へ使用されるV2O5電極表面への水吸着

『Materials Studio』はバッテリー特性計算ができます【事…

レーションツール ■メソスケール・シミュレーションツール ■統計ツール ■分析/結晶化ツール【事例】・結晶成長・結晶表面の原子の挙動・結晶解析・物性値の計算・スパッタリングシミュレーション・潤滑剤の性能向上・触媒・トライボケミカル(潤滑)反応　　　など【製品特長】 ■さまざまなタイプの材料に対応 ■一つのGUI画面上で、結晶構造の作成...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【分析事例】高分子フィルムの多層構造の解析

GCIBを用いた低ダメージスパッタリングで多層フィルムの層構造を明瞭に…

フィルムの機能性は素材・厚み・層構造等で決まることが知られています。今回は食品用ラップフィルムとして一般的に用いられるポリエチレン系多層フィルムの層構造を評価しました。 FT-IRで主にポリエチレンで構成されていることを確認したフィルムに対し、GCIB（Arクラスター）をスパッタに用い、TOF-SIMSで深さ方向に測定することで、10μmの厚みの中でポリエチレンとナイロン6とが積層されてい...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

くし形電極加工（オーダメイドでパターンチップを作成します）。

各種金属を薄膜〜パターン加工した「くし型電極チップ」です。電極構成…

１）薄膜成膜実績真空蒸着・スパッタリング加工を用いて、多様な金属や誘電体での成膜が可能です。基板についても、実績種類は豊富です。最適な薄膜構成をご提案致します。 ■金属/合金単層膜 Au、Ag、Pt、Cu、Ti、Cr、Ni、Al...

メーカー・取り扱い企業：安達新産業株式会社本社

異常放電防止ユニット　A2Kシリーズ

高スループット！マスタースレーブ接続により大容量化が可能です。【アルバ…

A2Kシリーズは、反応性スパッタリングプロセスにおいて直流電源にプラス電圧をパルス印加し、ターゲット上の電荷を中和する異常放電防止ユニットとなります。異常放電を削減することでハイパワーの投入が可能。 A2K-20K、40Kは...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

非破壊素材系検査

新素材も対象！高速データ処理技術や高速画像処理技術・解析アルゴリズムに…

ンライン超音波検査システム ■アルミビレット生産オンライン超音波検査システム ■シリコンウェハー生産オンライン超音波検査システム ■ベアリング用丸棒生産オンライン超音波検査システム ■スパッタリングターゲット材内部組成超音波検査システム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エンターシステム

真空環境内の圧力測定センサ【真空環境内の圧力分布を同時測定！】

真空チャンバー内などセンサ複数設置により広範囲が測定可能！今まで困難だ…

ム構築 ■耐振動・耐環境性真空装置内の任意の箇所へ設置してピンポイントで圧力測定ができます。また、複数設置で圧力分布測定も可能です。例１：真空蒸着装置の対象物前後に設置例２：スパッタリング装置の対象物近傍へ設置例３：真空成形装置の金型近傍へ設置例４：真空チャンバー内へ複数設置 ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社岡野製作所

電源システム『Ascent DC電源』

アーク制御技術を実装！安定した電力供給のできる電源システム！

【利点】 ■フィールドでの信頼性の向上 ■最適化されたアーク制御能力により膜質、生産性、スループット、歩留まりが向上 ■容易なスパッタリングプロセス用電源の統合　・ソーラーPV 　・FPD 　・工業用コーティング　・ウェブコーティング ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：アドバンスドエナジージャパン株式会社

シミ分析の受託サービス｜JTL

試料表面の微量なシミの分析から調査まで一貫してご対応します。

とが可能です。 ●薄いシミも分析可能酸化膜等の、ナノオーダーの非常に薄いシミも分析可能です。 ESCA/XPSを用いることにより、表面nmからの分析に対応しております。また、イオンスパッタリングにより、深さ方向の分析も可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： JAPAN TESTING LABORATORIES株式会社本社

［SIMS］二次イオン質量分析法

二次イオンを検出し、各質量における検出量を測定することで、試料中に含ま…

酸素やセシウムなどのイオン(一次イオン)を試料表面に照射すると試料表面近傍の原子は攪拌され、一部が真空中に飛び出してきます（スパッタリング）。飛び出してきた粒子のうちイオン(二次イオン)を質量分析することで、試料中に含まれる成分の定性・定量を行います。...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【DL可/GD-OES分析・測定】めっき基板の洗浄評価

GD-OES（グロー放電発光分析）によりNiめっきの膜厚、濃度の分析状…

グロー放電発光分析法(Glow Discharge OpticalEmission Spectrometry:GD-OES)は、スパッタリングにより試料表面から原子を弾き出し原子をプラズマ状態に励起し、生じた発光を測定することで試料の組成を分析する方法です。この事例ではGD-OESによる「めっき工程前の基板洗浄効果調査」を紹...

メーカー・取り扱い企業：セイコーフューチャークリエーション株式会社

【DL可/GD-OES測定】変色したステンレスの組成調査

GD-OES（グロー放電発光分析）によりステンレス(SUS)の表面をス…

グロー放電発光分析法(Glow Discharge OpticalEmission Spectrometry:GD-OES)は、スパッタリングにより試料表面から原子を弾き出し原子をプラズマ状態に励起し、生じた発光を測定することで試料の組成を分析する方法です。H(水素)が検出できるのも本装置の特長です。この事例では「変色したス...

メーカー・取り扱い企業：セイコーフューチャークリエーション株式会社

高周波電源『T857シリーズ』

高信頼設計の高性能高周波電源

『T857シリーズ』は、オール・ソリッドステート・タイプの高性能高周波電源です。プラズマ・エッチング、RIE、プラズマCVD、RFスパッタリング等の各種プラズマ処理に適します。また、当シリーズの出力インピーダンスは公称50Ωですが、各種保護回路により広範囲な負荷及びショート，オープン等の過酷な運用にも対応できます。...

メーカー・取り扱い企業：クリエート・デザイン株式会社クリエート・デザイン株式会社

AU(111)/雲母　薄膜フィルム　

超低汚染度の金の薄膜広いテラス　表面粗さナノスケール種々の…

蒸着の直前に、基盤としてクラスV-4以上の良質な白雲母を無作為に劈開し、厚さ調整をせずに、高真空のマグネトロン スパッタリングで金の薄膜を蒸着しています。薄膜の形状あるいは数は各種取りそろえています。製造後直ちに専用の容器に入れ窒素封入をします。このため製造後3から4ヶ月の保存が可能となっています。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社甍テクノロジー

ウエハーセンス　サイバーオプティクス製　製造装置改善用測定センサ

ウエハーセンスは装置改善に好適な測定器です。客観的な測定を行い、改善効…

ングシステム(ATS2) ウエハと同じように配置され、ウエハーの位置座標データ(XYZ)を高精度に測定します。 ◆オートギャップ測定システム（AGS） PECVDやドライエッチング、スパッタリング装置などの半導体プロセスチャンバーに使える真空互換性のある非接触ギャップ測定による平行性調整を実現 ◆オート振動システム(AVS) プロセス装置の中を自動搬送させて3軸の加速度と振動を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社スズキ

『X線光電子分光（XPS）分析』

軟X線を照射！基板や回路等の定性・半定量分析にも最適な光電子分光分析！

【分析項目】 ■広域・狭域光電子スペクトル測定による、試料構成元素の定性・半定量分析（Li～U） ■状態分析 ■上記分析とAr イオンスパッタリングを組み合わせた、深さ方向測定 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：コベルコ溶接テクノ株式会社

【導入事例】分光放射計Neoシリーズ

高い品質が求められるフィルターコーティングの精度を大幅に向上した事例を…

イオンビームスパッタリング(IBS)成膜装置の開発に従事している Cutting Edge Coatings GmbH(CEC社)と共同で分光放射計Neoシリーズを導入した事例をご紹介いたします。コーティ...

メーカー・取り扱い企業： Admesy Japan合同会社

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

article-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などにこの2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例紹介】Li-S電池用のグラフェン材料調査

『Materials Studio』はバッテリー特性計算ができます【事…

レーションツール ■メソスケール・シミュレーションツール ■統計ツール ■分析/結晶化ツール【事例】・結晶成長・結晶表面の原子の挙動・結晶解析・物性値の計算・スパッタリングシミュレーション・潤滑剤の性能向上・触媒・トライボケミカル(潤滑)反応　　　など【製品特長】 ■さまざまなタイプの材料に対応 ■一つのGUI画面上で、結晶構造の作成...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【事例紹介】グラファイトアノード上Liイオン拡散エネルギー

『Materials Studio』はバッテリー特性計算ができます【事…

レーションツール ■メソスケール・シミュレーションツール ■統計ツール ■分析/結晶化ツール【事例】・結晶成長・結晶表面の原子の挙動・結晶解析・物性値の計算・スパッタリングシミュレーション・潤滑剤の性能向上・触媒・トライボケミカル(潤滑)反応　　　など【製品特長】 ■さまざまなタイプの材料に対応 ■一つのGUI画面上で、結晶構造の作成...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【分析事例】ステンレス不動態皮膜の深さ方向状態評価

波形解析・Arスパッタによる結合状態の深さ方向分布評価

XPSでは酸化成分（酸素と結合している成分）・金属成分（金属と結合している成分）などの結合状態の評価が可能です。また、アルゴンイオンスパッタリングを併用することにより、深さ方向の結合状態の評価も可能です。 ※ ステンレス表面の不動態皮膜（厚さ数十nm～数百nm程度）について、上記測定を行った結果、（1）表面側にFe酸化成分が多い、（2...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST