オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング・シミュレーション・モジュール（SPUTSM）

より真実味のある入力データでスパッタリング解析をおこなうことが可能です…

『スパッタリング・シミュレーション・モジュール（SPUTSM）』は、 PIC-MCCMの計算結果（ターゲットへの入射イオンのフラックス、エネルギー、 入射角）を参照し、SASAMALを用いて、スパッタリン...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）

イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが…

ミュレーションソフトウェア（SASAMAL）』は、 2体衝突近似に基づくモンテカルロ法によるシミュレーションコードです。 アモルファスターゲットに高エネルギーのイオンが入射した際の スパッタリング率、スパッタリング原子の放出角度分布・エネルギー分布、 入射粒子の後方散乱する割合・角度分布・エネルギー分布、イオンの ターゲットへの侵入深さ（Depth Profile）を計算。 ...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

中性粒子DSMCモジュール（DSMCM）

新衝突計算法を指定することにより、平均自由行程以上のセルサイズでの計算…

率的に引き起こして挙動を 追跡していくといったDSMC法（粒子モデル）を用い、いろいろな真空装置内の 希薄気体の流れ場を解析するためのモジュールです。 エッチング装置、薄膜製造装置、スパッタリング装置内の電荷を持たない 中性粒子（バッファガス、ラジカル種、スパッタリング粒子）の挙動を 解析することが可能。 また、新衝突計算法を指定することにより粘性流領域(Kn<0.01)の解...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

【解析事例】マグネトロンスパッタリングシミュレーション

粒子法プラズマ解析ソフトウェアParticle-PLUSの活用により、…

Particle-PLUS は希薄気体中に発生する非平衡プラズマの数値解析に優れたシミュレーションソフトウェアです。 マグネトロンスパッタ、PVD、プラズマCVD、容量結合プラズマ ( CCP )、誘電体バリア放電 ( DBD ) などに活用可能です。 各種モジュール（下段の製品説明参照）のうち、スパッタ粒子モジュールを活用することで、マグネトロンスパッタ装置などにおいて、ターゲットからスパッタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）

計算の精度が高い！装置内のプラズマ密度が、比較的低い場合のプラズマ解析…

『プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）』は、プラズマ CVD装置、プラズマエッチング装置、スパッタリング装置、機能性薄膜の 製造装置といった装置内の、非平衡低温プラズマの挙動を解析ができる モジュールです。 装置内のプラズマ密度が、比較的低い（10^16[#/m3]；10^10[#/c...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈

工数・コスト削減に！薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの…

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションで活躍中です。 「新商品開発をしたい」「製品改善時に実機(装置)を作って検証したい」 「事前検証,装置との比較検証をしたい」などでお困りの方に。 また、自社開発製品のため、導入後も手厚くサポートいたします。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

豊富な設備による試作から量産まで対応可能な『受託製造サービス』

圧倒的な設備力により開発・試作～量産・出荷までをワンストップでご提供！…

も可能です。 ＜設備一覧＞ 射出成形機／大型射出成形機／マシニングセンター／金属3Dプリンタ ワイヤーカット／NC放電加工機／ガンドリル／NCフライス盤 ダイスポッティングプレス／スパッタリング装置／塗装ロボット インクジェットプリンター／ホットスタンプ機／レーザーマーカー インサーター／高速マウンター／全自動圧着挿入機／自動半田付装置 ※設備の詳細については、PDFをダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社NAITO

搬送ロールのクリーニングは歩留まり改善の第一歩！

ロールtoロール工程でのウエットコーティングプロセスで大事なのが、 …

はなりますが、実際の装置をお見せすることも可能です。ぜひお気軽にお問い合わせ下さい。 ＜コンバーティングの技術領域＞ コーティング技術（ウェットコーティング、ドライコーティング〔蒸着、スパッタリング、その他〕） ラミネーティング技術、粘着加工技術、プリンティング技術、仕上加工（スリッティング、カッティング、抜き加工、制袋）、 表面加飾、表面処理技術、塗液製造・分散技術、製膜・成膜技術...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

半導体製造装置部品の修理・再生

半導体関係で使用されている部品の補修・製作を行っています。

　 ・乾燥装置表面への耐食、耐摩耗溶射加工（HVOF溶射） ・半導体に使用している原料の研削加工 ・スクリーンへのWC－Co　HVOF溶射 ・装置壁面、内壁 HVOF溶射 ・半導体用スパッタリングターゲットへの溶射 ・電気炉発熱体電極部への溶射 ...

メーカー・取り扱い企業： 光栄テクノシステム株式会社

【開発事例】アシストオリジナル メータモックアップ

メーターモックアップの企画～仕上げ工程までを自社内で行った事例をご紹介…

板金)・ABS樹脂・アルミ ■寸法：W600×H200×D300(mm) ■表面処理 　・メーターフード：鏡面仕上げブラック塗装 　・インパネ部：本革張り＋ステッチ 　・スイッチ部：スパッタリングによるメッキ調仕上げ 　・表記文字：レーザートリミング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アシスト株式会社 本社・工場

多種多様な表面処理をワンストップ対応

表面処理の品質が、製品の価値、ひいては成功を左右しています。ご要望にお…

塗装、シルクスクリーン、パッド印刷、レーザー彫刻、研磨、燻蒸、水転写、布や革のコーティング、電気めっき、酸化、真空スパッタリングなどの方式があります。 特別なニーズがございましたら、お気軽にお問い合わせください。。...

メーカー・取り扱い企業： RPWORLD有限会社

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

article-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

長い円筒パイプの内側に強い膜を成膜する方法のひとつである円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの解析事例です Particle-PLUSで利用可能な 1)軸対称モデル 2)鏡面対称境界条件を組み合わせることで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく高速に結果を得ることができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社