【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

タングステン・モリブデン製　スパッタリングターゲット

世界最高品質のタングステン･モリブデン スパッタリングターゲット

プランゼーは、最高品質のモリブデン・タングステンコーティング材料であるターゲット製品を、世界中のお客様へ納品しています。 スパッタリングは、真空チャンバー内に充填されたアルゴンガスが、プラズマによりイオン化され、そのアルゴンイオンが電界によって負電圧を加えられたターゲット（カソード）に向かい加速、衝突します。その際の強い運動エ...

メーカー・取り扱い企業： プランゼージャパン株式会社

ロータリーマグネトロン

米国　SCI製ロータリーマグネトロンカソードは、世界に約3000台の納…

3000台の納入実績を誇ります。その用途は、建築用のLow-Eガラスや、太陽電池、ディスプレイの電極膜、フィルムの反射防止膜等、様々な用途で様々な客先にて使用されています。 弊社株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン、通称SCJは、そのSCI製品と、兄弟会社のPMI製円筒・平面ターゲットの日本販売拠点です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

円筒ターゲット

スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並び…

以下製法で円筒ターゲットを作製します。 １．製法：溶解材押出し一体もの 代表的材料：Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｕ 利点：割れるリスクがない、低速回転可能 欠点：高純度品が無い ２．製法：プラズマスプレイ 代表的材料：Ｓｉ、Ａｇ、ＺｎＡｌ等 利点：割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点：５Ｎ以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに時間がかかる 註：表面仕上方法により初期立...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)

太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングター…

＊TCO（透明導電膜）ターゲット材 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊AZO(ZnO(酸化亜鉛)＋Al2O3(酸化アルミニウム))系、 　ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 　がございます。 　AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。 　GZOターゲットは99％以上の高密度 ＊ターゲット表面抵抗：5...

メーカー・取り扱い企業： 蝶理株式会社 無機ファイン部

韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO)

液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。 脱中国のソース…

＊大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。 ＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 ＊光学デバイス用。 ＊ITO（酸化インジウムスズ、In2O3＋SnO2）系、 　および、IGZO（インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn）系 　のターゲット材がございます。 ＊平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。 ＊高純度・高密度品をご提供できます。 ＊蒸着中に錯乱粒...

メーカー・取り扱い企業： 蝶理株式会社 無機ファイン部

『高速スパッタリングによるさまざまな用途への成膜技術および装置面

※9月3日までに初めてお申込いただいた新規会員様は早期割引価格⇒42,…

第1部　スパッタの基礎と装置から見た改善策 1.スパッタリングの基礎 2.スパッタ装置の改善と変遷 3.膜厚分布の改善 4.ステップカバレージの改善 　4-1　ステップカバレージの改善要求 　4-2　カバレージが必要な理由 　4-3　スパッタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech

ユニフォームプラズマスパッタ装置

均一性プラズマ閉じ込めによる高品質スパッタリング

「ユニフォームプラズマスパッタ装置」はいわゆる対向ターゲットスパッタ方式を採用しています。従来の対向ターゲットスパッタ方式はミラー磁場をそのまま利用したものですが、ミラー磁場の特性を生かしつつスパッタリングすることを目的として改良されています。 ミラー磁場を利用したプラズマ閉じ込め方式をスパッタに利用するのはとても有効で、スパッタ利用のためにその形態を大きく変える必要がなくターゲットを2枚対向...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

帯電防止・静電気防止などに『高抵抗透明導電膜』

従来の常識を覆す1kΩ/sq以上の高抵抗な透明導電膜を、ジオマテック独…

■特長・強み ・有機物を用いずに1kΩ/sq以上の高抵抗な透明導電膜を実現 低抵抗が常識だった透明導電膜を、ジオマテックは、薄膜材料開発の知見や世界最高レベルを自負するスパッタリング法の成膜技術を駆使して有機物を用いずに高抵抗化しました。 ・塗布方式の高抵抗透明導電膜と比べて、優れた耐久性を担保 従来の有機物を用いた塗布法による透明導電膜で改善が望まれていた表面硬...

メーカー・取り扱い企業： ジオマテック株式会社

ハニセランPI　2層AR・2層ARAF　※開発品

スプレーコートで高硬度＋反射防止機能を付与します！

ョン）処理剤です。 スプレー塗布することで高硬度と反射防止性を付与することができます。 特長 ■2層型反射防止コーティング剤 ■膜厚100nmオーダーで平滑な連続膜を形成可能 ■スパッタリング方式よりも低コスト ■タイプにより環境負荷低減した撥水性の付与が可能...

メーカー・取り扱い企業： ハニー化成株式会社

アメリカ製 三酸化インジウム

ITO、IZGOスパッタリングターゲット用に実績多数！４N、５Nなど高…

＊微粒子グレードあり。BET値などご要望に応じて粒度調整可能。 ＊脱中国のソースとしてご検討ください。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。 ...　...

メーカー・取り扱い企業： 蝶理株式会社 無機ファイン部

『ロールtoロール (Roll to Roll) 成膜』

太陽電池、5Gアンテナなど、フレキシブルデバイスの製造に『ロールtoロ…

いこなすとともに、必要な特性を得るために複数材料を多層構造にしたり、材料メーカーと共同で新たな材料を開発したりしながら、お客さまのさまざまなニーズにお応えします。 ・世界最高峰を自負するスパッタリング法によるITO膜形成技術 　-「透明度」「電気抵抗」「平坦度」「耐久性」「曲げ性」など、目的に応じた最適なバランスをご提案します。 　-お客さまの目的用途に応じた仕様決定など、開発品のため...

メーカー・取り扱い企業： ジオマテック株式会社