オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタリングコーティングの世界市場レポート2023-2029

スパッタリングコーティングに関するグローバル市場分析、市場規模、販売量…

2023年8月17日に、QYResearchは「グローバルスパッタリングコーティングに関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。スパッタリングコーティングの市場生産能力...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

円筒ITOターゲット

円筒ITOターゲットのパイオニア、ユミコア社製円筒形ITOスパッタリン…

特徴： -. 組成：90wt% In2O3 ー10wt% SnO2はもちろん、SnO2の組成比を1wt%から20wt%まで柔軟に対応致します。 -. 最長670ｍｍまで分割無しで製作可能です。 -. 平面形状、ディスク形状でのご提供も可能です。...組成：　Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２（１－２０ｗｔ％） 密度：　７．１０ｇ／ｃｃ以上 純度：　９９．９９％以上 製法：　Ｔｉ製バッキングチューブへ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

スパッタリング　ターゲット

スパッタリング装置に使用される各種ターゲットを提供いたします。 円筒…

高品質のターゲットを提供いたします Cr ターゲット Ti ターゲット Si ターゲット Nb ターゲット NiCr ターゲット Ta ターゲット Si+Cu　ターゲット ...お客様に応じて各種の形状、材質、純度を対応します。...

メーカー・取り扱い企業： KINGTECH

電磁波シールドPVDコーティング『PROCEM プロセム』

銀・銅・アルミの3種類の導電性金属の選択可能！寸法安定性よく軽量化に貢…

【仕様】 ■コーティング方法：スパッタリング法 ■成膜可能な基材：ABS・PC・PA・PMMA・PAA・ポリイミド・ガラス繊維など ■膜厚：1～2μm ■体積抵抗率：1～5×10^-6Ωcm ■耐食性：塩水噴霧試験で150Hr ...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

研削・研磨とコーティング

果てしなく強く、限りなく滑らかに

を拡げる３つのPVD方式 　実績と安定性のHCD（Hollow Cathode）法、 　圧倒的なメジャー・メソッドとして 　君臨するアーク法に、誕生したばかりの高イオン化・ハイレート・スパッタリング法が 　加わり、夢のPDVトライアングルが完成 ○アヤボの両輪、最新設備と熟練の技 　バリエーション豊かな最新鋭のPVD装置 ○受託加工の枠を超えて高品質と低コストの両立も飛躍的に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アヤボ

『表面処理の技術資料』5冊まとめてプレゼント中！

表面処理に関する技術資料を5冊まとめてプレゼント！

【小冊子「表面処理活用の基礎知識（PVD・プラズマCVD）」の内容】 1.PVD法 2.代表的なPVD法 ・反応性スパッタリング法 ・イオンプレーティング法 3.プラズマCVD法 4.実施上の注意点 ・材質および熱処理履歴の確認 ・加工履歴の確認 ・使用油脂、加工油類の確認 ・めっきの防止 ・表面粗さ ...

メーカー・取り扱い企業： 日本電子工業株式会社 本社

【資料】コーティングの処理方法によるメリット比較表

処理方法の選定に！乾式法と湿式法のメリット・デメリットを掲載しています

上や レンズの透過率アップによる光量増加などに活用できます。 また、反射防止膜(ARコート)による課題解決事例もご紹介しています。 【比較処理方法】 ■乾式法 ・真空蒸着、スパッタリング、イオンアシスト(IAD)、化学的気相法(CVD) ■湿式法 ・ダイ、スプレー、ディッピング、フロー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニデック コート事業部

≪大阪開催≫『スクリーン印刷の新技術を含めた印刷メカニズムおよび

★蒸着、スパッタリング、インクジェットとの違いは? ★印圧、版離れ、…

【講　師】　3DPowers,Inc.(株)　代表取締役　村野　俊次　氏 【日　時】平成22年10月27日(水)　10:00〜16:30　 【会　場】エル・おおさか　研修室1【大阪・天満橋】...【講演趣旨】 　スクリーン印刷は、導入後、直ぐに高度なパターンを形成出来る。しかし、量産すると原因の特定が難しいトラブルが発生する。これは印刷がミクロンオーダーの細かい部分で行われており、こ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社AndTech