リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ

数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性！当社の電力供給装置を…

『TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ』は、高出力インパルス マグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング （スパッタリング前...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

RFジェネレータ『T847C-1／T847C』

高周波を用いて行うスパッタリング、プラズマ放電装置等に対応できる高周波…

47C-1／T847C』は、13.56MHz帯のソリッドステート型高周波発生器です。 各種の負荷インピーダンスに対応させる為の手動整合器又は自動整合器を 搭載。また、高周波を用いて行うスパッタリング、プラズマ放電装置等に 対応出来ます。 さらに高周波出力電力は最大100Wで、その出力電力は可変することが出来、 その制御方法は当製品又は外部より0～5VDCを加えることにより、その...

メーカー・取り扱い企業： クリエート・デザイン株式会社 クリエート・デザイン株式会社

電源装置『アーク抑制型HF-HiPIMS用パルス電源 』

【限定5社デモ機受付中】アーク異常放電を抑制し成膜不良を激減！平均電力…

スパッタリングの最大の課題であるアーク異常放電を抑制する機能とHiPIMSの最大の課題である成膜レートを向上させる機能(特許取得済)を備えたHIPIMS用パルス電源です。 弊社独自のHF(High Frequency)モードはHiPIMSの波形の後段にHFパルスを入れることでターゲットのチャージアップをキャンセルし、アークレスな成膜を実現！ アーク異常放電を起こさないことにより平均電力をアップさせる...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

電源装置『HiPIMS用パルス電源』

高密度のプラズマを生成し、高いイオン化率により高品質の成膜をする方法を…

HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）とは、 スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を 瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。 スパッタガス、ターゲットのイオン化率を著しく高めることにより、 ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ

太陽電池の製造など、重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮する電力供給…

『TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ』は、美しい光学コーティングを 可能にするプラズマ電源です。 難度の高い材料の反応性スパッタリングプロセスに役立つように特別に設計。 このジェネレータは、太陽電池の製造、半導体の製造、硬質コーティングなど 重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮します。 【特長】 ■きわめて...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ

波形と周波数のフレキシビリティ！圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…

製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高クラスのアーク制御 ■エネルギー...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社