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98件 - メーカー・取り扱い企業
企業
52件 - カタログ
200件
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PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能
当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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製造系エンジニアのための技術情報!スパッタリング技術について詳しく解説
当資料は、デクセリアルズの緻密な薄膜形成技術である 「スパッタリング技術」について掲載しています。 技術の特長やその応用などを、イラストやグラフを用いながら詳しくご紹介。 スパッタリング技術を活かした当社の製品「反射防止フィルム」についても 掲載...
メーカー・取り扱い企業: デクセリアルズ株式会社
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研究開発から量産までサポート!
容易。 【各種 選択機能】 ●カソード変更(大型カソード化、4インチカソード多元化) ●高温加熱機構(800℃) ●バイアススパッタ機構 【ラインナップ】 ●ロードロック式スパッタリング装置 ●マルチチャンバスパッタリング装置 ●超高真空対応枚葉式スパッタリング装置 ●サイドスパッタリング装置 ●カルーセルタイプスパッタリング装置 ●巻取式スパッタリング装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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世界最高品質のタングステン・モリブデン スパッタリングターゲット
プランゼーは、最高品質のモリブデン・タングステンコーティング材料であるターゲット製品を、世界中のお客様へ納品しています。 スパッタリングは、真空チャンバー内に充填されたアルゴンガスが、プラズマによりイオン化され、そのアルゴンイオンが電界によって負電圧を加えられたターゲット(カソード)に向かい加速、衝突します。その際の強い運動エ...
メーカー・取り扱い企業: プランゼージャパン株式会社
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大型基板の自動搬送に対応し、研究開発~量産までの応用が可能な装置です。…
大型基板の自動搬送に対応したロードロック式スパッタリング装置です。 【主な特長】 ・Φ300mmを例とする大口径基板のベア搬送が可能 (角基板の対応も可能です。) ・独自設計のカソード機構により、汎用ターゲットサイズでの 広範囲膜...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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【技術資料を無料進呈】当社の反射防止フィルムのしくみ、生産方法、メリッ…
て「ウェット工法」と「ドライ工法」の 2種類の工法があります。ウェット工法はその名のとおり、液体の材料をベースフィルムに塗工し、 乾燥させて膜を成形します。 ドライ工法は「蒸着」と「スパッタリング」に分かれ、デクセリアルズではスパッタリングによる 製造を行っています。 スパッタリングは成膜のための代表的な技術で、真空チャンバー内で膜の材料となるターゲット材に 高電圧下でイオン...
メーカー・取り扱い企業: デクセリアルズ株式会社
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米国 SCI製ロータリーマグネトロンカソードは、世界に約3000台の納…
3000台の納入実績を誇ります。その用途は、建築用のLow-Eガラスや、太陽電池、ディスプレイの電極膜、フィルムの反射防止膜等、様々な用途で様々な客先にて使用されています。 弊社株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン、通称SCJは、そのSCI製品と、兄弟会社のPMI製円筒・平面ターゲットの日本販売拠点です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並び…
以下製法で円筒ターゲットを作製します。 1.製法:溶解材押出し一体もの 代表的材料:Ti、Al、Cu 利点:割れるリスクがない、低速回転可能 欠点:高純度品が無い 2.製法:プラズマスプレイ 代表的材料:Si、Ag、ZnAl等 利点:割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点:5N以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに時間がかかる 註:表面仕上方法により初期立...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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スパッタ膜の成膜を行います。他社で無理そうなものでもご相談下さい
低価格、短納期で1個からの試作も承っております。特に樹脂フィルムや樹脂成形品へのスパッタも得意としております。透明光学樹脂部品のマスキングスパッタリングも可能です。蒸着分野の仕事もスパッタで可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 若狭電機産業株式会社
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スパッタリング装置カソード市場は、予測期間(2020-2025)に4.…
急速に成長している半導体産業における部品のコーティングにおけるスパッタリングの適用の増加は、予測期間にわたってこれらのタイプの機器の需要を推進する主要な要因の1つであると予想されます。 航空宇宙や電子機器などのさまざまなエンドユーザー産業に人工知能が出現すると、...
メーカー・取り扱い企業: SDKI Inc.
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マグネトロンスパッタリング装置の世界市場:メーカー、地域、タイプ、アプ…
グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のマグネトロンスパッタリング装置の供給、需要、主要メーカー、2024 ~ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるマグネトロンスパッタリング装置の販売量と販売収益を調査しています。同時に、マ...
メーカー・取り扱い企業: QY Research株式会社 QY Research
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並列運転により最大60kW!出力500W~20kWと豊富な製品ラインア…
有限会社エイチ・エス・エレクトリックでは『DCスパッタリング電源』を 取り扱っております。 当社の従来品と比較して、約2/3の小型化を実現。 さらに、低アーク処理もオプションにて対応可能です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社エイチ・エス・エレクトリック
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RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 【装置仕様概略】 ・スパッタリング用イオンソース フォーカスグリッド ・アシスト用イオンソース デフォーカスグリッド ・シングルステージ ・ターゲットホルダー ・排気系 ・制御系 【オプション...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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ドイツ・ADL社製の、空冷式の小型スパッタ電源です。
「GSシリーズ:GS05-GS30」は、 容量0.5 kWから 3 kWまでをカバーした全11型式がございます。主に研究開発用の小型スパッタ装置をターゲットにした製品です。すべて空冷式であり、煩わしい冷却水を導入する必要がございません。...以下のモデルがございます。 型式 DC-出力 パーツ番号 GS 05/800 0.5 kW 800 V 0.9 A 03Z040...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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低真空の成膜環境を用いた成膜技術です
立体形状基板(ワーク)に対しても良好な付き回りで均一な成膜が可能なスパッタリング成膜設備を保有しております。 Al、Ag、Cu等の金属成膜が可能で、ガラス基板・樹脂基材へ低応力の薄膜を成膜します。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...
メーカー・取り扱い企業: 京浜光膜工業株式会社
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韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)
太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングター…
*TCO(透明導電膜)ターゲット材 *ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 *AZO(ZnO(酸化亜鉛)+Al2O3(酸化アルミニウム))系、 ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO(酸化亜鉛)+Ga2O3(酸化ガリウム(III))系 がございます。 AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5%以上の高密度。 GZOターゲットは99%以上の高密度 *ターゲット表面抵抗:5...
メーカー・取り扱い企業: 蝶理株式会社 無機ファイン部
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ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品(5N〜6N)
高純度シリコン製品(5N〜6N)をお客様の要望によってカスタマイズしま…
弊社では、高純度シリコン製品を製造する海外企業と密接な関係を作っており、お客様の要望に合わせた仕様の多結晶シリコン・インゴット、単結晶シリコン・ターゲット、単結晶スパッタリング・ターゲットを供給可能です。まずは弊社からのヒアリングにお答えいただき、サンプルを作成させていただきます。そのサンプルを実際にお手にとってご判断ください。きっとご満足いただけると思っております...
メーカー・取り扱い企業: テラスケープ合同会社
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【金属調_ドライメッキ_蒸着、スパッタリング】樹脂成形、ゴム成形
樹脂やゴムの部品を高級感のある金属調に加飾します。
金属調の意匠性を実現!カラーバリエーションの対応も可能 蒸着、スパッタリングはドライメッキと言われ、樹脂部品やゴム部品に金属調の意匠性を実現した技術です。 ゴム材料に対してメッキ調の加飾が可能で、折り曲げにも追従し 蒸着層に割れが発生しません。 要望により、...
メーカー・取り扱い企業: サンアロー株式会社
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TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ
数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性!当社の電力供給装置を…
『TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ』は、高出力インパルス マグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング (スパッタリング前...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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スパッタリングターゲット、蒸着材料ともに高純度の製品をお届けします。
半導体をはじめ、さまざまな産業分野で活躍する各種薄膜材料。 高純度貴金属にはじまり、高純度ニッケル・コバルト合金、 希少金属材料と、高付加価値の薄膜材料を供給いたします。...【特徴】 ◯電極膜形成用ターゲット 湿式精製、高温精製技術を駆使した、極めて不純物の少ないターゲットを提供します。 ◯バリア膜形成用ターゲット 接合用ハンダ材料から拡散する各種元素からセラミックなどの基盤を守...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社タイヘイテクノサービス
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【無料プレゼント】スパッタリング成膜の豆知識や、最大の課題であるアーク…
スパッタリングとは大面積かつ、均一に薄膜形成が可能な方法であり、 半導体やLCDの製造に広く使用されています。 ただ、最大の課題である『成膜中に発生する異常放電(アーキング現象)』は ターゲット表面が溶融、飛散することにより製品歩留まりを低下させてしまいます。 スパッタリング成膜『HIPIMS』の特性や特徴、アーキングの対策方法など 図解でわかりやすく解説した技術資料を無料プレゼント!...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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高精度の薄膜技術によりナノレベルの成膜を小ロットから多量産、短納期で提…
様々な基板材料(ガラス、アクリル、ポリカ、その他)の板物から成形品、立体物に高品質での成膜加工が可能です。 機能性薄膜から装飾品、ご試作から量産まで弊社、表面処理技術をご覧下さい。...・150Å~1000Å(15~100nm)での成膜が可能。 ・成膜粒子のエネルギーが大きく付着力が強い。 ・成膜が緻密で成膜が強い。 ・成膜プロセスが安定していて膜質、膜厚の制御が高精度。 ・環境に配慮し...
メーカー・取り扱い企業: サンアロー化成株式会社
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韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO)
液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。 脱中国のソース…
*大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。 *ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 *光学デバイス用。 *ITO(酸化インジウムスズ、In2O3+SnO2)系、 および、IGZO(インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn)系 のターゲット材がございます。 *平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。 *高純度・高密度品をご提供できます。 *蒸着中に錯乱粒...
メーカー・取り扱い企業: 蝶理株式会社 無機ファイン部
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お客様のご要望に応じた成膜を真空蒸着やスパッタリングにて提供!
ダイクロイックミラーや反射防止コートなど真空蒸着技術の分野で研究開発を…
るダイクロイックミラーや、硝子製品や樹脂 成型品の表面反射率を抑える反射防止コートをはじめ、様々な光学製品を 掲載しております。 【掲載内容】 ■電磁波の名称と波長 ■真空蒸着・スパッタリングのしくみ ■光学膜のしくみ ■反射防止コート ■ダイクロイックミラー/フィルター など ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 河合光学株式会社
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高性能スパッタリング ハードコート フィルター・ミラーを低価格で提供し…
スパッタリング式ハードコートにより、散乱や吸収、反射ロスを防ぎ、 最高水準の高透過率や波長精度、急峻なカットオン・オフ、 優れたS/N比を誇るフィルターを製作することが可能になりました。 また光学部品としては異例の10年保証付き。 製造ロット間格差は極めて小さく、予定納期通り安定して供給可能です。 【特徴】 ○OEM向け・低価格 →高性能のスパッタリング ハードコート フィルター・ミラ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトライン
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『高速スパッタリングによるさまざまな用途への成膜技術および装置面
※9月3日までに初めてお申込いただいた新規会員様は早期割引価格⇒42,…
第1部 スパッタの基礎と装置から見た改善策 1.スパッタリングの基礎 2.スパッタ装置の改善と変遷 3.膜厚分布の改善 4.ステップカバレージの改善 4-1 ステップカバレージの改善要求 4-2 カバレージが必要な理由 4-3 スパッタ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社AndTech
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在庫販売で短納期!全品1個から販売
エドモンド・オプティクスは、業界屈指のVeeco SPECTOR イオンビームスパッタリング装置を自社内に導入し、精密IBSコーティングに 対応しています。 SPECTORプラットフォームの卓越した層厚制御と向上したプロセス安定性は、 コーティングバッチの高い再現性と、設計...
メーカー・取り扱い企業: エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
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大正7年創業の歴史ある化学工業製品商社でありながら、光学薄膜・パターン…
です。 また、フォトリソグラフィ・エッチング技術を応用したパターン加工等の最先端技術の加工や、研究・開発も行っております。 【事業内容】 (表面処理事業) ・光学薄膜、真空蒸着、スパッタリング ・パターン加工(電気化学分析チップ、くし形電極等) (商社事業) ・化学工業製品販売 (各種合成樹脂・接着剤・シリコーン・ホットメルト等) ・樹脂成形品加工、金型加工 ...
メーカー・取り扱い企業: 安達新産業株式会社 本社
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素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中!各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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グロバールなネットワークでお客様をサポート!ALUがお届けします
式会社は、1990年、薄膜部品のレーザー加工分野をサポートする 技術商社として出発し、現在まで各種ウェハープロセス装置用の光源、互換部品、 部材、表面処理部品、計測及び測定機器、研究開発用スパッタリング装置を 輸入し、キーデバイスを製造する最前線のプロセス設計技術者のみなさんに お届して参りました。 今後とも進化し続けるニーズ、例えば製造現場のFA化、超微細加工、 センシング、...
メーカー・取り扱い企業: アル株式会社 本社
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透過率65% (253.7nm用)、93% (365nm用)を実現。
は今までにもありましたが、Semrockはこの領域(UV)のフィルターとしては他に類を見ない透過率65% (253.7nm用)、93% (365nm用)を実現。 もちろんIBS(イオンビームスパッタリング式)フィルターのハードコートですので耐久性は他社メーカーの追随を許しません。 Semrockのテクノロジーがまた、"常識外れ"の高性能フィルター生み出しました。 【特徴】 ○イオンビ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトライン
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多様なプロセス技術を用いて製作されるエレクトロニクス向け薄膜製品
る ○クロム、アルミ、Ti、ITOなど多様な金属薄膜を用いた電子回路を ガラス、セラミックス、シリコン基板などの上に形成 [フォトエッチング] ○最初に基板上に必要とされる金属などをスパッタリング、 蒸着などの方法で所定の厚さに成膜し、フォトレジストをコートする ○フォトマスクと露光装置を用いてレジストの露光現像工程を行い エッチングにより目的のパターン形状を形成する [リ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エクア
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均一性プラズマ閉じ込めによる高品質スパッタリング
「ユニフォームプラズマスパッタ装置」はいわゆる対向ターゲットスパッタ方式を採用しています。従来の対向ターゲットスパッタ方式はミラー磁場をそのまま利用したものですが、ミラー磁場の特性を生かしつつスパッタリングすることを目的として改良されています。 ミラー磁場を利用したプラズマ閉じ込め方式をスパッタに利用するのはとても有効で、スパッタ利用のためにその形態を大きく変える必要がなくターゲットを2枚対向...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ
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高周波を用いて行うスパッタリング、プラズマ放電装置等に対応できる高周波…
47C-1/T847C』は、13.56MHz帯のソリッドステート型高周波発生器です。 各種の負荷インピーダンスに対応させる為の手動整合器又は自動整合器を 搭載。また、高周波を用いて行うスパッタリング、プラズマ放電装置等に 対応出来ます。 さらに高周波出力電力は最大100Wで、その出力電力は可変することが出来、 その制御方法は当製品又は外部より0~5VDCを加えることにより、その...
メーカー・取り扱い企業: クリエート・デザイン株式会社 クリエート・デザイン株式会社
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膜厚モニター用水晶振動子
蒸着装置やスパッタリング装置などの真空成膜プロセスにおいて、膜厚モニターとして広く使われているQCM方式の膜厚計用の水晶振動子です。周波数は5MHzと6MHz、電極膜材料は金(Au)と銀(Ag)を揃えております。 ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社アベニューマテリアル
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性能良し、耐久性良し、コスト良し。
最先端の研究用途にも使用される高い性能。 安心の10年間品質保証。 量産化で従来のソフトコートフィルター並みの価格を実現。 【特徴】 ○高性能 ○高耐久 ○低価格 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴】 ○最先端の研究用途にも使用される高い性能 ○安心の10年間品質保証 ○量産化で従来のソフトコートフィルター並みの価格を実現 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトライン
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従来の常識を覆す1kΩ/sq以上の高抵抗な透明導電膜を、ジオマテック独…
■特長・強み ・有機物を用いずに1kΩ/sq以上の高抵抗な透明導電膜を実現 低抵抗が常識だった透明導電膜を、ジオマテックは、薄膜材料開発の知見や世界最高レベルを自負するスパッタリング法の成膜技術を駆使して有機物を用いずに高抵抗化しました。 ・塗布方式の高抵抗透明導電膜と比べて、優れた耐久性を担保 従来の有機物を用いた塗布法による透明導電膜で改善が望まれていた表面硬...
メーカー・取り扱い企業: ジオマテック株式会社
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光学薄膜設計ソフトウエア TFV
反射防止膜・ミラー・各種フィルターなどの光学薄膜設計 真空蒸着装置・スパッタリング装置での光学薄膜立ち上げ など、光学薄膜に関する様々な場面でご利用いただけます。 詳しい機能の説明は、TFVホームページ をご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: ナリー・ソフトウエア
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量産がたやすく低コスト!電子回路の性能を向上させる精密抵抗器
電子回路の性能を向上させる当社の精密抵抗器をご紹介いたします。 フラット電子の抵抗器は、抵抗となるニクロム合金を高純度アルミナ基板上に スパッタリングという薄膜形成法を用い作成しています。 大手電機メーカーの精度の要求される電源用電流検出回路や、精密な温度センサー用 ブリッジ回路、高精度な利得が必要なオペアンプ回路などで使用されてい...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フラット電子 本社
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自社製造!製品に光学的特性、強度、耐防汚性などを付与する薄膜材
「光学薄膜材」は、主にスパッタリング、真空蒸着により薄膜として作製されます。 薄膜の素材として純金属、合金、酸化物、有機物などが使われ、製品に光学的特性、強度、耐防汚性などをもたらします。 自社で製造している為、ほぼ全ての材...
メーカー・取り扱い企業: USTRON株式会社
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高精度の測定機器で高品質を実現!産業用高耐力ミラー
当製品は、イオンビームスパッタリングまたは電子ビーム蒸着を利用した 高反射・高耐力ミラーです。 波長は266nm~1550nmの間で入射角0°及び45°を取り揃えています。 また、1ヶ月に1000個の生産能力を持ち、0...
メーカー・取り扱い企業: カンタム・ウシカタ株式会社
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高真空、耐高温、高電圧、高密度!「半導体製造装置用コネクタ」
ワンタッチでの簡単操作の嵌合・脱着が可能な小型コネクタ! 振動、ねじ…
ネクタの特徴を活かし、ステッパーからロボット化した試験装置といった幅広いレンジの半導体製造装置でレモコネクタをご使用いただいております。 主なアプリケーション分野: 高密度 ■ スパッタリング装置 ■ ドライエッチング装置 ■ 露光装置用温度測定器 ■ 測長SEM他検査測定装置 高電圧 ■ イオン注入装置 ■ 高電圧・高周波電源装置 ■ PZT駆動装置 ■ 測長...
メーカー・取り扱い企業: レモジャパン株式会社
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「高LIDT(損傷閾値)・長寿命」「堅牢で環境に左右されないコーティン…
メーカー:Optoman(リトアニア) OPTOMANは最先端で高精度、高再現性のIBS(イオンビームスパッタリング)薄膜コーティングを施したレーザー光学系を2017年より手掛けています。創業時からの活動によりOPTOMANは「ウルトラファーストレーザー光学系」「高LIDT(損傷閾値)・長寿命」「堅牢で環境...
メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社
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【限定5社デモ機受付中】アーク異常放電を抑制し成膜不良を激減!平均電力…
スパッタリングの最大の課題であるアーク異常放電を抑制する機能とHiPIMSの最大の課題である成膜レートを向上させる機能(特許取得済)を備えたHIPIMS用パルス電源です。 弊社独自のHF(High Frequency)モードはHiPIMSの波形の後段にHFパルスを入れることでターゲットのチャージアップをキャンセルし、アークレスな成膜を実現! アーク異常放電を起こさないことにより平均電力をアップさせる...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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高密度のプラズマを生成し、高いイオン化率により高品質の成膜をする方法を…
HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)とは、 スパッタリングの一種で、低いduty比で集中させた高い電力を 瞬間的にカソードに投入することで高密度のプラズマを形成する手法です。 スパッタガス、ターゲットのイオン化率を著しく高めることにより、 ...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバ…
ティー・ケイ・エス株式会社 -
3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』
【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速…
株式会社アマダ(アマダグループ)