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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント
PR連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対応「フロ…
焼き付けフッ素樹脂加工・シリコン離型剤を超える高性能フッ素系金型離型剤『フロロサーフ』をご紹介。 従来の離型剤では抜けない、連続離型性を向上させたい → そんな時に活躍します。 『フロロサーフ』はナノメータレベルの離型成分が母型表面に結合密着し、強力な非粘着性・潤滑性を金型表面に付与します。 精密複雑な形状の成形や粘着性の高い樹脂やエラストマー、割れやすい薄物の成形において、抜群の連続離型性を...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フロロテクノロジー
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程よい表面粗さと滑り性とで、小さな樹脂製品の搬送に有効です。
程よい表面粗さと滑り性とで、小さな樹脂製品の搬送に有効です。従来のフッ素樹脂コーティングよりも滑り性があり、膜の硬度も9Hありフッ素樹脂コーティングの3倍程度の硬度があります。 ※詳しくは弊社まで、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ツール・テック東北
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プラズマCVD法により、複雑形状の製品や内径内面へ密着力の優れたDLC…
「プラズマCVD NEO-Cコーティング」は、真空中で得られる低柵プラズマを利用して種々の製品にトライボロジー特性に優れたDLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜を高い密着力でコーティングします。 処理後の製品では、2000Hv前後の高硬度で低摩擦係数な平滑性に優れた高性能表面が得られます。 また、これまでのDLCの弱点だった付き回り性の悪さも大幅に改善...
メーカー・取り扱い企業: 日本電子工業株式会社 本社
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電子部品・プリント基板実装・改造のことなら相生電子工業にお任せ下さい。
【事業内容】 ■基板実装 ・手付け、手載せからマシン実装まで対応可能 -印刷膜厚測定(部分測定) -実装後の3D検査・X線検査の対応可 -組立、簡易治具作成の対応可 -手載せ、メタルマスクレス技術 -実装技術支援 ■基板改造・改修の一例 ・S...
メーカー・取り扱い企業: 相生電子工業株式会社
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各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈…
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株式会社栗田製作所 本社・京都事業部 -
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株式会社電子技研 -
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実装コストの低減を実現!電極が凸型形状のチップ抵抗ネットワーク
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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備している…
株式会社ハイブリッジ 東京営業所 -
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株式会社流機エンジニアリング