マイクロ粒子のシート化技術

PR【技術の実用化に向けて協力企業を募集中！】 導電性フィルムや、全固体…

当社で開発した「マイクロ粒子のシート化技術」についてご紹介いたします。 マイクロ粒子を熱プレスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技...

メーカー・取り扱い企業： 日榮新化株式会社

光硬化性樹脂のご案内【オプトエレクトロニクス用】

PR扱いやすい液状の樹脂。短時間のUV照射で無色透明な硬化物が得られます。…

【特徴】 ■高屈折率から低屈折率まで幅広く樹脂を取り揃えています。 ■硬化物は高耐熱＆高硬度。切削加工、リフロー、各種無期膜の蒸着が可能です。 ■諸特性をカスタマイズします。光硬化性、基材との密着性、離型性など。 ■ハイブリッドレンズ、マイクロレンズアレイ、回折格子（DOE）などにご使用いただけます。 ※左記の写真：光硬化性樹脂を使った表面形状（例） 　東京理科大学谷口研究室作成....

メーカー・取り扱い企業： オーウエル株式会社

蛍光Ｘ線式　膜厚測定器　　汎用測定器『 XDLM 237 』

汎用性が高く、電子部品やさまざまな形状のめっき加工品などの膜厚測定や素…

電子部品やさまざまな形状のメッキ加工品などの膜厚測定や素材分析が可能です。 『XDLM 237』は、汎用の高い蛍光X線式測定装置です。 当製品は、品質管理・受入検査・生産管性理における、薄膜コーティングの 膜厚測定や組成分析に好適で...

メーカー・取り扱い企業： アンリツ株式会社 環境計測カンパニー

蛍光Ｘ線式　膜厚測定器　微小部測定用『 XDV-μ 』

ポリキャピラリX線光学系を採用。微小部の薄膜メタライズ、高機能めっきの…

【サンプル試測定実施中】 『XDV-μ』は、ポリキャピラリX線光学系を採用した汎用性の高い エネルギー分散型蛍光X線測定装置です。 当製品は、非常に小さい部品や構造部分を非破壊で膜厚測定・ 素材分析に適した測定器です。 【特長】 ●最小10µmの集光レンズを搭載可 　　従来では測定できなかった微小部の薄膜メッキでも測定が出来ます。 ●検出器には半導体検出器の...

メーカー・取り扱い企業： アンリツ株式会社 環境計測カンパニー

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CV...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

シリコンウェハーへの酸化膜受託加工サービス（研究、開発、量産用）

試作対応　少量対応　4～12inch対応　任意膜厚(10nm～20μm…

当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えでき...

メーカー・取り扱い企業： セーレンＫＳＴ株式会社 本社

ウェハ膜厚・表面粗さ測定機　SemDex A32, M1, M2

完全自動化！マルチセンサ技術を備えた高速ウエハ計測・選別システムをご紹…

『SemDex A32』は、ウェハ単層及び多層厚さ・反り・歪み・粗さの 完全自動化・高精度測定機です。 基板層の厚さ・TTV・積層ウエハの全体厚さ・ウエハ反り・歪み・平坦性は、 単一の測定ランにおいてsub-μm精度で測定可能で、nmレベルまでの表面粗さ、 更にTSV・RST、およびミニバンプのパラメータも同様に測定することができます。 その他に、半導体計測の幅広い用途に対応する...

メーカー・取り扱い企業： 伊藤忠マシンテクノス株式会社

レーザーグルービング加工

加工難度が高い硬質なワークに対応！ Ｌｏｗ-ｋウエハなど脆弱チップも…

・高密度配線ウェハに絶縁膜として使用されている Low-k膜は、機械的強度が低く、一般的なブレードダイシングでは、 　配線層にダメージを与え、膜剥がれが発生するリスクがありました。 　このLow-k膜含む配線層をレーザー...

メーカー・取り扱い企業： エスタカヤ電子工業株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオン...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

熱酸化膜　シリコンウェハ

熱酸化膜　シリコンウェハ

熱酸化膜付きＳｉウェーハ...

メーカー・取り扱い企業： ＩＭＰＥＸ株式会社

スタンプ式めっき処理装置

環境負荷低減への貢献が可能な装置です

オンが陰極へと移動し金属が析出します。 製品ならびに電極をめっき浴内に浸す為、浴槽は大きくなりめっき液の使用量も多くなります。 スタンプ式めっき工法（SED工法）では、必要な部分に固体電解質膜をスタンピング（プレス）して高速で成膜する事が可能なため薬液の使用量が少なくなり、めっき処理に必要な時間の短縮や工程のコンパクト化にもつながり環境への負荷が大幅に削減する事が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： ミカドテクノス株式会社

テストウエハ

材料や装置評価のためのブランケット膜及びパターニングされたウエハをご提…

ティーイーアイ ソリューションズでは『テストウエハ』を取り扱っております。 材料や装置評価のためのブランケット膜及びパターニングされた 製品をご提供。当社所有のマスクパターンをご利用頂けるほか、御社の ご要望により、新規パターン・構造を開発致します。 また、シリコン基板以外のウエハにも対応が可能です...

メーカー・取り扱い企業： ティーイーアイ ソリューションズ株式会社 つくば研究所

CZウェーハ　エピ受託加工　SiGeエピウェーハ　他

小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応…

m.cm) ＊Min25枚より 「エピ受託加工」 1000ohm cmを超えるようなEpi抵抗の高いウェーハや、Epi層が厚いウェーハなども対応させていただきます。 仕様により多層エピ成膜なども対応可能です。 特　徴 ・実験用に小ロット（数枚～25枚）から可能　 ・サブウェーハご指定も可能（お客様よりサブウェーハを支給していただく事も可能です） ・エピ厚さ公差：6-10%...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、 その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成する方法です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

Φ300mm基板対応　ロードロック式スパッタリング装置　

大型基板の自動搬送に対応し、研究開発～量産までの応用が可能な装置です。…

タリング装置です。 【主な特長】 ・Φ300mmを例とする大口径基板のベア搬送が可能 　（角基板の対応も可能です。） ・独自設計のカソード機構により、汎用ターゲットサイズでの 　広範囲膜厚分布を確保 ・ターゲット交換、成膜室の点検/補修が容易なチャンバー構造 ・将来的なプロセス室の増設も可能 ・独自の緻密膜形成ユニットをオプションで搭載可能【特許取得技術】 動画による装...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

SOIとSilicon Silicon 貼付けウエハー

半導体製作にご提案：ICやMEMS応用、従来の厚エピや反転エピなどから…

【SOIウエハー】：（Silicon-On-Insulator） 100-200mmの厚膜、または<1um以下の薄膜のデバイス層を持つSOIウエハーを供給いたします。 特長： ■シリコンウエハーや熱酸化膜など広い範囲で光工学表面弾性波 　フィルターなどの分野などをカバー可能 ■6...

メーカー・取り扱い企業： アイスモス・テクノロジー・ジャパン株式会社

薄膜材料　スパッタリングターゲット・蒸着材料

スパッタリングターゲット、蒸着材料ともに高純度の製品をお届けします。

半導体をはじめ、さまざまな産業分野で活躍する各種薄膜材料。 高純度貴金属にはじまり、高純度ニッケル・コバルト合金、 希少金属材料と、高付加価値の薄膜材料を供給いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイヘイテクノサービス

成膜Ｓｉウェハー

成膜Ｓｉウェハー

半導体向けテストウェーハ販売、熱酸化膜付きシリコンウェーハなど膜付きウェーハを小径から対応致します。...

メーカー・取り扱い企業： ＩＭＰＥＸ株式会社

シリコンウェハー【納期対策】

小ロット、短納期、安定供給が可能です！ 半導体向けのシリコンウェハー…

ーではお客様のニーズに合わせ、各種半導体向けの シリコンウェーハをご提案させて頂きます。 前工程向け「モニターウェーハ」や、後工程向け「ダミーウェーハ」等をラインアップ。 それ以外にも各種膜付きウェーハ、高抵抗値ウェーハ、低抵抗値ウェーハ等各種仕様のウェーハをご提供可能でございます。 ウェーハの詳細スペック、数量、その他仕様についてもお気軽にお問合せ・ご相談下さい。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

シリコンウェーハ　研磨加工サービス

半導体シリコンウェーハのことなら当社にお任せください

。 特殊な厚さや抵抗率なども、お気軽にご相談ください。 【業務内容】 ■シリコンウェーハの再生加工 　・半導体メーカー様より支給された評価使用済みウェーハを再加工して納入 　・酸化膜や金属膜付きウェーハの再処理も実施 ■シリコンウェーハの製造販売（1インチ～8インチ） 　・インゴット切断から鏡面研磨加工までの一貫加工ラインで、 　　研究開発用の少量生産から量産まで対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社松崎製作所

SOIの試作・受託生産サービス（ウェハの研削・研磨・接合）

試作対応　少量対応　4～8inch対応　厚み･形状の任意設定可能　基板…

SOIウェハーとは酸化膜上にシリコン単結晶層を形成した構造のシリコンウェハーで、高速LSI、低消費LSI、パワーデバイス、MEMSなど幅広い分野で使われております。 当社は一般的なSOI以外にもCavity SOIウ...

メーカー・取り扱い企業： セーレンＫＳＴ株式会社 本社

シリコンウェハーへの各種加工（外注加工対応）

試作対応　少量対応　4～12inch対応　任意膜種　支給基板対応

セーレンKST株式会社では、自社で加工する酸化膜加工以外にも、協力会社などを通じて半導体製造プロセスに関わる研究開発用途の 各種成膜加工や各種膜付ウェハーをご提供しております。 ＜対応サイズ＞ 4inch~12inch ※あらゆる...

メーカー・取り扱い企業： セーレンＫＳＴ株式会社 本社

加工シリコンウェハー

各種膜付ウェハ―を扱っております。 特殊加工ウェハーについてもご相談…

取扱商品 ・各種膜付シリコンウエハー ・SOIウエハー ・厚み指定加工シリコンウエハー ・その他特殊加工シリコンウエハー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

日本機能材料株式会社　会社案内

日本機能材料株式会社は、SiGeのエピタキシャル成長膜を提供します。

【業務内容】 ○SiGeおよびSi エピタキシャル膜成長サービス ○各種ウェーハ販売 ○石英、SiC部品販売 ○LED、電子部品材料販売 ○各種真空機器販売 ○レーザーおよび部品販売 ○新機能材料販売 ○新機能材料コンサルティング ○...

メーカー・取り扱い企業： 日本機能材料株式会社

【パターンウェハ】CD 50nm STI Pattern

200mm 300mm にて対応可能！　対応膜種はご希望によりご相談く…

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm 300mm にて対応...

メーカー・取り扱い企業： アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

半導体向けKGK製品のご紹介

KGK 共同技研化学株式会社の半導体向け製品のご紹介です。

・バックグラインド用テープ ・帯電防止→ 帯電防止フィルム ・リワーク→ メークリンゲル ・耐溶液（エッジング溶液） → フォトマスク用保護フィルム ・耐熱→ ポリイミドテープ・耐熱分子勾配膜両面テープ ・絶縁→ 絶縁用片面・両面テープ ・薄膜強力接着→ 分子勾配膜両面テープ...

メーカー・取り扱い企業： KGK 共同技研化学株式会社 埼玉県所沢本社・工場、群馬県富岡工場、東京都池袋事業所

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

取り扱っております。 お客様の用途に合わせて適したウェーハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウェーハにＥＰＩ成膜を行ったり、SOIウェーハへの加工なども対応可能です。 ＣＺウェーハ以外にも高抵抗ＦＺウェーハやサファイア、ゲルマニウム、化合物半導体、多結晶シリコンなども取り扱っております。 詳しくはお問い合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から対応可能で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

テスト用ダミーウェハー

研究・開発用、装置テスト・評価用ウェーハ、シリコン（結晶）の加工、販売…

ミラー 数量 lot 25枚 / ケースor２００枚入り発泡ケース 梱包形態 – ウェハーケース＋クリーンパック 備考 – ※高精度ウェハーお問い合わせください。 ※低パーティクルウェハー、膜付けはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： SE TECH INTERNATIONAL合同会社 本社

金錫合金めっき

高温鉛フリーはんだ材料として最適！ 金錫合金めっきの量産を実現し、ウ…

金錫合金めっきは金80：錫20組成で共晶点を示し、融点は280℃です。 【ポイント】 ・金錫合金めっきは工程中に高温がかからないため、ウェハが熱劣化しません。 ・膜厚のコントロールに対応でき、薄膜化が可能です。(33％コストダウン実績あり) ・任意に合金比率が変更可能であり、幅広い皮膜組成が得られます。(Au70～90wt％の実績あり) ・微細パターンへの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三ツ矢

Si(シリコン)ウェーハ研磨加工

様々なサイズ、厚みに応じた研磨加工が可能です。

・3mm×3mm～156mm×156m ・矩形も対応可 ・仕上がり厚み：25μm～ ・平坦度：TTV1μm以下 ・パーティクル：0.2μm20個以下 ・表面粗さ：0.3nm以下 ・膜厚制御可能 ※詳しくは資料をダウンロードいただくか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 日本エクシード株式会社

高アスペクト構造　トレンチパターンウェハ 『PT063』

深堀エッチング技術で高アスペクトトレンチパターンウェハを実現

当社は先端の半導体技術によるテストウエハで、お客様の技術・製品開発を強力に支援しております。 （ベアSiウエハ/ 膜付ウエハ/パターンウエハ) トレンチパターンパターンウェハ『PT063』は、ボッシュプロセスによる深堀エッチング技術により高アスペクト構造を実現しております。 当社の標準レイアウトで、マスク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック　 本社

ガラス基板などへの対応可　成膜加工（PVD）

１枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 そ...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

真空熱加圧装置 3Dタイプ

3D形状へ真空熱加圧を行う装置です。 曲面貼りや凹凸封止、段差への追…

加圧膜を用い、異形状への等方向加圧を可能にしました。 曲面や異形状への真空加圧で貼合等を行います。 《特徴》 〇曲面や段差などに等方向加圧が可能なミカド特許技術です。 〇異形状なワークのどの面...

メーカー・取り扱い企業： ミカドテクノス株式会社

シリコンダミーウェハー

2インチ～12インチ、多品種のシリコンウエーハを豊富な在庫で取り揃えて…

お客様のご要望に合わせた加工もご対応させて頂いております。 詳細スペック、数量、その他品目についてもお気軽にご相談下さい。 【特長】 ■2インチ～12インチ ■P/N型 ■ベア品／膜品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

パワーデバイス（SiC）をチップ化

ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

ライブ＆ブレーク」工法で、シリコンカーバイト(SiC)、窒化ガリウム（GaN）、アルミナ(Al2O3)　、サファイア(Sapphire)、窒化ケイ素（Si3N4）、シリコン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工（個片化）する技術です。　 MDI独自技術であるSnB「スクライブ＆ブレーク」によって、カーフロスゼロ・高速・高品質・完全ドライ加工を実...

メーカー・取り扱い企業： 三星ダイヤモンド工業株式会社

高周波デバイス（GaNonSiC、GaAs）をチップ化

ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

ライブ＆ブレーク」工法で、シリコンカーバイト(SiC)、窒化ガリウム（GaN）、アルミナ(Al2O3)　、サファイア(Sapphire)、窒化ケイ素（Si3N4）、シリコン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工（個片化）する技術です。　 MDI独自技術であるSnB「スクライブ＆ブレーク」によって、カーフロスゼロ・高速・高品質・完全ドライ加工を実...

メーカー・取り扱い企業： 三星ダイヤモンド工業株式会社

半導体・太陽光発電向けシリコン素材　買取のご案内

御指定場所へ回収に伺います！数量や形状についてはご相談下さい

【その他の引取品目】 ■ウエーハ ・半導体向け：ベア/膜/パターン ※情報保護のため粉砕処理も可能 ・太陽光発電向け：単・多結晶ウエーハ ■割れウエーハ：単結晶・多結晶 ■ソーラーセル ■カセットケース ■フッ素樹脂 ■フォトマスク ■レ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

【事業紹介】薄膜太陽電池

低コストで高い生産性！モジュール設計なので、顧客の要件に合わせて装置を…

当社の成膜システムは薄膜太陽電池のスタンダードも作り続けています。 PIA|novaとXENIAは、裏面電極層、透明導電膜（TCO）、そしてCIGSや CdTeテクノロジーのような様々な種類の吸収層を...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

『PLマッピング装置』

フルオートメーション化可能！充実したマッピングができる装置

『PLマッピング装置』は、LED/LD生産のための2,3,4インチウェハ のフォトルミネッセンスおよび膜厚マッピング測定を行う装置です。 自動XYステージ、オリジナルの多機能測定ソフトウェアにより 充実したマッピングが行えます。 また、ウェハ自動供給・収納機構の接続によりフルオートメーシ...

メーカー・取り扱い企業： ユアサエレクトロニクス株式会社

ウェハーサービス

用途に合わせてウエハをカスタマイズ！フルラインアップのサイズでご要望に…

sウエハ、Geウエハも扱っております。 ご用命の際はお問い合わせください。 【概要(抜粋)】 ■シリコンウエハ ・2インチ～12インチまでのダミーウエハ、テストウエハなど ■各種成膜加工サービス ・熱酸化膜、TEOS、ポリシリコン、TiN、TaN、BPSGなど ■レジストパターニング加工、Cuメッキ加工 ■2インチ～12インチまでの再生ウエハサービス ※詳しくはPD...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒューズテクノネット

MEMSファンドリーサービス (ウエハ受託加工サービス）

３次元実装サービス（TSV技術等による実装サービス）

作から量産ファンダリまで幅広く対応します。 ２インチや異型の基板から12インチ(300mm)のMEMSラインのネットワークによりあらゆるご要望に対応。 １枚からの露光、エッチング受託加工、成膜サービス等もお気軽にご相談ください。 本格的なMEMS専用ラインでのファンドリーサービスです。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス 　スパッタ法で４，５，６，８インチに対応 ・...

メーカー・取り扱い企業： 日本MEMS株式会社

株式会社SGC　修理・オーバーホール・再生・中古販売サービス

弊社に御一報下さい。弊社のネットワークでお探し致します。

)。 ○モーター修理・ロボット修理・石英部品再生・ヒーター再生・アルマイト再生・防着板歪修正・Ｎｉコーディング再生・部品再生洗浄・超純水洗浄・セラミックス部品ＤＲＹ洗浄。 ○材料分析・アルマイト膜厚測定・Ｘ線非破壊分析。 ○ロボット・ロボットアーム・ロボットアクセサリー・中古バルブ（ＶＡＴなど）・中古電源。 ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＧＣ

株式会社トリニティー　半導体向け取扱製品

シリコンウエハーやCZ/FZインゴットなど！半導体向け取扱製品をご紹介…

や「加工Siウェハー」、ガラスウェハーや化合物ウエハーなど、様々な製品をラインアップしています。 【ラインアップ(抜粋)】 ■パーティクル管理品モニターウェハー ■各種ダミーウェハー ■膜付Siウェハ― ■化合物ウェハー ■特殊加工Siウェハー ■CZ/FZインゴット：小口径~大口径 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例を写真付き…

当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

silicon wafer

ウェーハ、シリコンウェーハ、 silicon wafer

ハーは、珪素のインゴットを厚さ1 mm程度に切断して作られる。 シリコンウェハーは集積回路 （IC、またはLSI）の製造に最も多く使用される。このウェーハにアクセプターやドナーとなる不純物導入や絶縁膜形成、配線形成をすることにより半導体素子を形成することができる。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社豊港 半導体材料事業部

高周波デバイス対応 低誘電フッ素系層間絶縁膜『AL-X』

AL-Xは主に高周波・パワー半導体用材料として、極めて優れた低誘電特性…

ポリイミド、エポキシ樹脂より低誘電特性に優れた樹脂です。 【特長】 ●電気的特性　低誘電率・低誘電損失の材料です。　 ●機械的特性　高い伸度と低いヤング率を有しております。 ●感光特性　　溶媒現像ネガ型の材料で高い解像度を有しております。 ●低温硬化　　200℃以下の低温でも硬化可能です。 ●吸水率　　　他の低誘電性樹脂よりも低い吸水率を有しております。 　　　 ...【製...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー