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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…
『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
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真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能!
【特徴】 ・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術 ・低温で低エネルギー照射が可能 ・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】 ・超硬工具用保護膜(c-BN) ・食品用バリア膜(アルミ) ・太陽電池用下地膜(アルミ) ・光学用フィルタ膜(ZrO₂、AI₂O₃等) ※詳しくはカ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス
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油を使えない真空環境下での仕様に最適
油を使えない高真空環境下での仕様に最適な特殊環境用オイルフリーLMガイド。転動体に新開発の固定潤滑S膜を使用。またグリースは一切使用せず、構成部品はオールステンレス材を採用しているため、低アウトガス・低発塵を実現しています。 ...
メーカー・取り扱い企業: THK株式会社
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広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。
広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と安定した放電が可能です。 【特徴】 ○ビーム電流 1500mA / ビー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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炭酸ガスは静電気防止に優れた効果があります。 中空糸膜を介しCO2 …
二酸化炭素は大気状態で体積比重が低く、水によく溶け、DIWの水質を悪化させることなく比抵抗を下げることができます。 静電気による“異物付着”防止に効果が あります。...DIWの静電気制御。 Membrane Moduleの適用。 流量変動による性能差が少ない。 簡単なシステム制御により、メンテナンスや管理が容易。 ...
メーカー・取り扱い企業: アジアファインテック株式会社 韓国本社
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炭酸ガス注入システム, CO₂バブラー , 短納期, コンパクト
炭酸ガスは静電気防止に優れた効果があります。 中空糸膜を介しCO2 …
二酸化炭素は大気状態で体積比重が低く、水によく溶け、DIWの水質を悪化させることなく比抵抗を下げることができます。 静電気による“異物付着”防止に効果が あります。...DIWの静電気制御。 Membrane Moduleの適用。 流量変動による性能差が少ない。 簡単なシステム制御により、メンテナンスや管理が容易。 ...
メーカー・取り扱い企業: アジアファインテック株式会社 韓国本社
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