リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

連続離型性乾性離型剤フロロサーフ　微細成型用　ナノインプリント　

PR連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対応「フロ…

焼き付けフッ素樹脂加工・シリコン離型剤を超える高性能フッ素系金型離型剤『フロロサーフ』をご紹介。 従来の離型剤では抜けない、連続離型性を向上させたい　→　そんな時に活躍します。 『フロロサーフ』はナノメータレベルの離型成分が母型表面に結合密着し、強力な非粘着性・潤滑性を金型表面に付与します。 精密複雑な形状の成形や粘着性の高い樹脂やエラストマー、割れやすい薄物の成形において、抜群の連続離型性を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロロテクノロジー

ワイパー『846』

ワイパー溝を完全に覆いつくしダストの侵入をシャッターアウト！ダブルリッ…

ワイパー テクノロジー』はワイパー溝とヘッド端面を完全に覆い油圧シリンダへの水や汚れなどの侵入を阻止し腐食から守ります。 『846』は更に、ワイパーとロッド間に過度な圧力がかかると破裂する薄い膜（バースト メンブレン）を採用しており、ワイパーの飛び出しを防ぎます。 圧力が開放されると膜が閉じて再び外部からの汚染を防ぎます。そのため、高価なドレンポートを設ける必要はありません。 『8...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エム・オー・テック 本社

スパッタ成膜ユニット

スパッタ成膜ユニット

マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備した スパッタ成膜ユニット 【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて 　使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源を搭載することにより、異なった膜種を成膜可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

油圧制御機器　調量弁　FCVシリーズ

圧力変動が生じても、流量を一定に制御することができる弁です

調量弁は、動力源を持たない自力式流量制御弁です。 流体の流れによって生じる可変オリフィスの前後差圧（一次側と二次側の圧力差）が、 ピストンまたはダイアフラム膜にかかり設定バネとバランスするように作られています。 ピストンまたはダイアフラム膜は、内部に組込まれた弁に連結されており、 常に可変オリフィスの前後差圧が設定圧と等しくなるように、 自動的に弁...

メーカー・取り扱い企業： 岡谷精立工業株式会社

真空蒸着システム　UBM Sputter

合金、化合物、絶縁膜の蒸着が可能

内部磁石と外部磁石の磁場の強さを異なるように設計し、スパッタの 効率を増大させた装置です。 ■□■メリット■□■ ■合金、化合物、絶縁膜の蒸着が可能 ■多様な反応性ガスによる反応性スパッタリングが可能 ■蒸着膜の厚さの均一性 ■広い面積のターゲット利用が可能 ■アーク蒸着の時と同じくMacro particl...

メーカー・取り扱い企業： パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

TMR水分除去システム

TMR水分除去システム

いので、タンクが加圧されることはありません。タンクが負圧になっている場合や換気ファンが設置されている場合は使えませんので、それらの装置の運転を中止してください。TMR水分除去システムは、高性能中空糸膜とアルミのケーシングでできた、非常に使いやすい製品です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プラントサービス

マルチ真空プロセス装置

真空運搬ロボットを搭載したクラスター型複合プロセス装置

センターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現 ○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現 ○独自開発の真空運搬ロボットを搭載 ○各室独立の真空排気系を装備 ○±3％の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載 ○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載 ○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備 ●その他機能や詳細につ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

潤滑油ワニス除去フィルター『SVR 1200-M』

装置の運転はただ電源を入れるだけ！全てのタービン軸受潤滑油のワニス問題…

響を与えずに溶解性汚染物質を除去するには、 イオン交換樹脂とEPT社のICBフィルター技術を使用。このICB技術は、 世界中で3.000万稼働時間の経験を持つICB製品に基づいています。 膜パッチ比色分析テスト（現在ASTM 規格（案））またはQSAテストでの 分析結果、実績として1～2週間で大型ガスタービンのワニス問題を 劇的に減少させることができます。 【特長】 ■IS...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プラントサービス

真空蒸着システム　Linear Ion Source

広範囲に良質蒸着コーティング膜を形成

の不活性ガス及び活性ガスの一部などで簡単にイオンが得られる メリットを持っています。 ■□■メリット■□■ □蒸着工程時間に安定的なイオン化エネルギー □広範囲に良質蒸着コーティング膜を形成 □安い工程維持費 □Ar,O2,N2,gasなどを利用したcleaning ●その他詳細は、資料請求またはカタログをダウンロードして下さい●...

メーカー・取り扱い企業： パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

「真空蒸着用　EB源・電源」総合カタログ

「真空蒸着用EB源・電源」総合カタログ　配布致します。

日新技研社が取り扱う、真空蒸着用EB源・電源の総合カタログです 蒸着物質に対して、電子ビームを照射し再現性のある蒸着を行います ◆◆掲載製品◆◆ 　　○第三世代光学超多層膜用EB源：NEG-10N型 　　○超小型EB源：NEG-05N型 　　○カスタマイズ可能EB源：NEG-06Nシリーズ 　　○5kw電源：NEB-05S型 　　○5kw電源：NEB-05W型...

メーカー・取り扱い企業： 日新技研株式会社

複合コーティング装備　Hybrid PVD System

優れたコーティング膜を合成

Linear Ion source , UBM sputter , FCVA source の適切な組み合わせを通じて、 お客様のニーズにお応えできる、最も優れたコーティング膜が合成できるようにした 複合コーティング装備です。 ■□■システム作動ソフトウェア■□■ □装備と運用者のための安全ロック装置 □MS Windows OS基盤のソフトウェア・プログ...

メーカー・取り扱い企業： パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

硬質クロムメッキ(工業用ハードクロムめっき)

油圧シリンダー等の3,000ｍｍ×Φ70までの大きさの加工が得意(硬質…

[硬質クロムめっきのお困りごとを解決 ] ・膜厚のバラツキの防止 縦型投入の自動機とめっき槽で、長尺の金属棒を真円かつ均一に硬質クロムメッキを加工する技術と仕組みを確立。 ・品質のバラツキの防止 硬質クロムメッキ液、浴温の温度、電...

メーカー・取り扱い企業： 山旺理研株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

真空蒸着用　EB源・電源 NEB-10W型 NEB-10WE型

第三世代の超多層膜用EB制御電源

【真空蒸着用　EB源・電源 NEB-10W型 NEB-10WE型】 NEB-10WE型電源は2電子ビーム源仕様の電源です。NEB-10W型電源の制御盤を簡素化しリーズナブルにしたものになります。 〈特徴〉 ・外部エミッション制御回路により、レート制御が可能！ ・加速電圧／エミッション電流・フィラメント電流モニタ出力回路が標準搭載！ ・外部X・Yスキャン制御、外部X・Yポジション制御が可能！ ・放...

メーカー・取り扱い企業： 日新技研株式会社