リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

ハイブリッド硬質膜コーティング装置（ＤＬＣーＣＶＤ＋ＰＶＤ装置）

ＣＶＤ－ＤＬＣと硬質膜用ＰＶＤの複合型コーティング装置。スムースサーフ…

自動車用のＤＬＣ膜に実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜コーティング装置に高密度スパッタカソードＡＤＭＳ機構（アーク放電型マグネトロンスパッタリングカソード）を多元追加。トライボロジー特性に優れたＤＬＣ膜に硬質合金膜を積層。ス...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…

硬質膜・表面処理用途で実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜形成装置を赤外線光学用途に展開。９０％以上の高い透過率を持つＤＬＣ膜を基板両面に一括形成 硬質・高い透過率のＤＬＣ膜を高い生産性で実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）

非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…

実績豊富なプラズマクリーニング装置「ＰＯＥＭ」をＤＬＣ除膜用にグレードアップ＆カスタマイズ。 従来型より処理時のイオンのエネルギーを向上させ緻密なＤＬＣ膜の除去に対応。通常のＯ２クリーニングプロセスだけでなくマルチガスプロセスでＳｉ含有ＤＬＣなどカスタマ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

CXコーティング　防水　防湿　生体適合性　無償コートも受付中

防水・防湿、絶縁、生体適合性などの性能を持ち合わせているCXコーティン…

CXコーティングは多機能高性能コーティングとして医療や電子部品の市場の製品を様々な要因から守ることが可能です。 ◆防水・防湿 弊社のラインアップのPPX単層膜とCXコート＋SiO2の積層膜はどれも防水・防湿性能に長けています。特に弊社の技術であるPPXとSiO2を積層することにより、従来のPPX単層膜よりも400~1000倍の性能を持った優れものです。 ...

メーカー・取り扱い企業： オーエスジー株式会社グループ

硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…

精密レンズ金型のコーティングに必要な耐熱性の高い耐摩耗膜のに形成に最適。レンズ金型のコーティングに適したＰｔやＲｕなどの貴金属合金を多元同時スパッタで小径カソードで効率的に形成。またナノ多層構造の積層膜により耐熱性と硬度に優れた膜も形成可能。 精密レン...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＡｌＮテンプレート作成装置（配向性ＡｌＮ膜用スパッタリング装置）

ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を…

ＵＶ－ＬＥＤの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのＡｌＮテンプレートをスパッタで作成。１００arc／ｓｅｃ以下のＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜を低温（７００℃以下）でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でＵＶ－ＬＥＤの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試…

先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、マイク...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

従来に無い水素フリーDLC膜（膜中水素含有量１％以下）を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置） 水素フリーの...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

独自高密度スパッタ法　アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カー...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマ技術～バイオ・医療への応用

a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能！高密度プラズ…

当社で取り扱う『Corial D250L/Kayen HDRF』により、 プラズマ技術のバイオ・医療への応用が可能です。 人体埋め込み型センサーや医療機器のパッシベーション膜を形成。 複雑な形状のインプラント用セラミック、金属物の 表面除染も対応可能です。 【パッシベーション膜の特長】 ■現在、業界で注目されている、以下4種の膜形成が可能 　・a-Si...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

基板の枚葉搬送を基本としたロードロックタイプスパッタリング装置、上位機種（マルチチャンバタイプ）のプロセスチャンバと搬送機構を共用。 高いレベルの膜質要求に対応、各種ＩＣ（ディスクリートＩＣ、カスタムＩＣ，化合物）の量産・試作。 次世代デバイスの開発（強誘電体膜開発、配向性窒化膜形成）に実績のソフト＆ハード ＵＶ－ＬＥＤ用テンプレート用Ａｌ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PVD(物理蒸着法)コーティングとは

PVDコーティングとは、物理蒸着とは金属等、融点の高い物質を電気の力を…

一般的にはチタン等の硬い金属物質を気化、プラズマ化させて窒素中の窒素により 更に硬い窒化物を処理品表面に膜として形成させる処理です。 PVD処理は溶かして気化させる物質の種類によって様々な膜を着ける事が出来ます。 例えばチタンを溶かせばチタンの窒化物、クロムを溶かせばクロムの窒化物の膜で出来...

メーカー・取り扱い企業： みのる産業株式会社

SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

装置形態：巻取式マグネトロンスパッタリング装置 基板寸法：最大幅１０００ｍｍまで対応 カソード数：最大４元 膜種：金属・磁性膜・反応性酸化膜 オプション機構： プラズマ前処理機構・イオンガン・ランプヒータ・加熱ロール等...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤ…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったＰＶＤ法による」ＳｉＣ成膜を実現。 ４００℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたＳｉＣ膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリー...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）

高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティ…

独自開発の高密度プラズマスパッタ　ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性ＡｌＮを５００℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

行っています。 【特長】 ■リーズナブルなコストと高いプロセス性能 ■少量生産にも対応可能な高い信頼性 ■豊富な実績に支えられた豊富なオプション類と柔軟なハード対応 ■先端分野の薄膜開発にロードロック機構と事前成膜テストで 　プロセス開発をサポート ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

側面電極用イオンプレーティング装置（面実装小型部品対応）

小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプ…

面実装タイプの受動電子部品（抵抗器・コンデンサ）などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Ｓｎ、Ｎｉ等の金属膜をハイスループットで形成。（酸化膜形成にも対応） 実績豊富なハードと独自の成膜プロセスで小型電子部品の生産プロセスのドライ化・低コスト化、安定生産に貢献いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマイオンボンバーダＰＩＢ－１０

プラズマ放電で生ずる＋イオンで試料表面をクリーニング。

○交流放電によるプラズマイオンを試料表面に軽く打ち込みます。 ○試料表面の＋イオンは水のＯＨイオンと手を結ぶので親水性になります。 ○透過電子顕微鏡（TEM）のグリッドメッシュやコロジオン支持膜、カーボン支持膜、 　 その他ダイアモンドナイフ等の親水化処理に使用します。 【その他の特徴】 ○支持膜などのデリケートな試料にはソフトイオンボンバード、金属やダイアモンドナイフなど、 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

シリコン半導体の工程等、クリーンなプロセスに！メタルフリータイプ

メタルフリータイプは、金属を極限まで排除し、より高次の清浄性を！シリコ…

当製品は、販売中のウエハ型セラミックタイプに比べ、金属元素を使用しない 設計のため、金属汚染が気になるお客様でも安心してお使い頂ける製品です。 表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用しており、 基板には標準規格のシリコンウエハを使用。半導体前工程での利用を想定し クリーンなプロセスで利用できるよう設計しています。 【特長】 ■金属元素を使用し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サクラクレパス PI事業部

ＣＡＲＢＯＺＥＮハイブリッドＰＶＤシステム

製膜スピードＵＰ＆高い密着性！導入コストや維持費も低いＤＬＣコーティン…

『CARBOZEN　ハイブリッドPVDシステム』は、製膜スピードを飛躍的に向上させた新型DLCコーティング装置。優れた密着性が特長です。 リニア・イオン・ソースとUBMスパッタ、FCVAソースの適切な組み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC...

メーカー・取り扱い企業： パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

CVD(熱化学蒸着法)コーティングとは

熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、単層又は多層コーティングし…

CVDコーティングとは CVD(Chemical Vapor Deposition)コーティングは化学的な成膜方式で、 大気圧～中真空（100～10-1Pa）の状態において、 ガス状の気体原料を送り込み、 熱、プラズマ、光などのエネルギーを与えて化学反応を励起・促進して薄膜や微粒子を合成し、 ...

メーカー・取り扱い企業： みのる産業株式会社

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

メージレスアッシングを実現。表面波プラズマ（ＳＷＰ）によるハイレートアッシングと２室装備されたアッシング室によりハイスループットを実現。 アッシングだけでなくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボットの採用でり...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＨＰＣ－２０フルオートオスミウムコーター

高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あら…

ョンの難しかった部分を完全自動化。より安全に、より簡単にオペレーションできる、オスミウムコーティングの新次元。 タッチパネルを搭載し、簡単で明快な操作を実現しました。誰でも簡単に、電子顕微鏡用導電膜を成膜可能。 また、多彩なオプションもご用意。安全面や機能を拡張します。 徹底的にこだわり抜いた装置ですが、驚きの低価格も実現。オスミウムコーティングにご興味のある方、オペレーションに不安のある...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PlasmaMAX Hollow Cathode プラズマCVD

最高品質を保ちつつ、基板幅と成膜速度を最大化することで、大量生産プロセ…

この技術により、バリア成膜品、光学多層膜製品、機能性繊維、ディスプレーの製造や、一連の関連するカスタムアプリケーションを最適化することができます。 PlasmaMAX ホローカソード は、形状をカスタマイズすることができる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

枚葉式プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ－Σ」

ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…

薄ウェハ（１００μｍ以下）の自動枚葉搬送を実現したプラズマエッチング装置。マルチモードプラズマとステッププロセスで幅広いプロセスに対応 自然酸化膜除去から厚膜レジストアッシング・クリーニング・ディスカムまで。 ディスクリートＩＣ、パワーデバイス、化合物半導体・ＭＥＭＳなど多くのデバイスの量産現場で多様なプロセスで活躍中...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマイオンボンバーダＰＩＢ－２０

あらゆる用途に対応可能な高性能装置。調整後はボタンひとつでＯＫ！

プラズマイオンボンバーダ　ＰＩＢ－２０型は好評な弊社製PIB-10形親水処理装置の多機能モデル。TEM用支持膜の親水化処理、ダイアモンドナイフ等のクリーニング、有機材料のエッチング、ＰＤＭＳの貼付とあらゆる用途に対応可能な高性能装置です。フルオート機能搭載で、調整後はボタンひとつでＯＫ！RFプラズマ装置が導...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

プラズマCVD装置『PEGASUS』

低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！

『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの 絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な 量産対応型プラズマCVD装置です。 インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ 接触部位に非金属を使用しているため、裏...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セルバック

ロールtoロール連続成膜装置

樹脂フイルムへのバリア性プラズマ成膜などに好適！技術資料無料進呈いたし…

『ロールtoロール連続成膜装置』は、中間層を必要としないプラズマイオン 注入成膜法により、各種フィルム素材に機能性成膜が可能な装置です。 独自のICPプラズマによる高速成膜機能フイルムの製造が可能。 樹脂フイル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イトー

量産用プラズマクリーニング装置（大型プラズマクリーナー）

自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…

先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシン...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Diener Electronic社製『プラズマ処理装置』

幅広い材質に対応できる低圧タイプや、インライン設置が可能な大気圧タイプ…

【製品について】 《低圧プラズマ装置》 真空環境下でプラズマによる処理を行う装置です。 酸素プラズマによる親水性の改善や物体表面の有機物除去、アルゴンプラズマによる酸化膜除去や、 フッ素を利用してのエッチングなど様々なプロセスを実行可能です。 《大気圧プラズマ装置》 プラズマノズルの電極部に高電圧フィールドを形成し、そこを通過するガスをプラズマ化。 その...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

プラズマ処理装置　WLP600S

6インチと8インチのウエハーに対応！平行平板方式のプラズマ処理装置

　オートチューニング ○処理ガス →O2：1000SCCM →CF4：500SCCM →1系統増設可（オプション） ○パージガス：N2 ○スループット：3000枚／400時間（ポリイミド膜1μｍエッチング時） ○処理ステップ：3ステップ、10レシピ ○ウエハーサイズ：6インチ、8インチ兼用 ○ウエハー搬送方式 →垂直動作カセットエレベータ（6インチ、8インチ兼用） →水平・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エスクラフト

Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

マ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 ３００ｍｍウェハや積層基板、最大１ｍ□までの基板のメタルエッチ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

HCD型高密度プラズマエッチング装置

シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…

従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッチングにも対応可能 基板の大型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ロールtoロール式 減圧プラズマ処理装置『PR Series』

ロール状フィルム基材の処理に対応。 減圧プラズマ処理により、アッシン…

『PR Series』は、減圧下でプラズマ処理が可能なロールtoロールタイプの処理装置です。 レジストアッシング、絶縁膜エッチングをはじめ、 用途に応じた様々な官能基（親水, 親油, 密着性向上,など）を 基材表面に強固に付与することができます。 本社にデモ機を完備し、随時プロセス評価処理をお請けしておりま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

『ラジカルチッカ＋複合表面改質』

寿命向上 ＋ 機能UP！プレスや冷間鍛造な過酷な使用用途に対応！

表面に白層（化合物層）を作らない「ラジカルチッカ」と、 EV・FG・コーティング膜などの「複合表面改質」を併用することで、 金型の機能性向上を実現します。 「ラジカルチッカ」表面に白層(化合物層）を作りません。 また、衝撃に強くチッピングが少ないという特徴があります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 松山技研株式会社

応用例付きプラズマ技術資料　無償ダウンロード！

基板、樹脂、粉体、医療、半導体…。あらゆる分野で使えるプラズマ技術の応…

【アプリケーション】 ■ドライクリーニング (分解除去処理) ■表面改質処理 　　親和性向上(親水化) / 撥水性向上 / 接着性向上 ■半導体・液晶デバイス 微細加工向け 　　絶縁膜 エッチング / レジスト アッシング ■低温焼結 ■滅菌 ※詳しくは技術資料をご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

AntiCorrコーティング技術

金属部品の接合部を腐食防止！金属防食に特化した乾式ナノコーティングのご…

【その他の特長】 ■環境に配慮 ■リサイクルが可能 ■透明性 ■コーティング膜の強さ ■ドライ保存不要 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日本プラズマトリート株式会社

『表面処理の技術資料』5冊まとめてプレゼント中！

表面処理に関する技術資料を5冊まとめてプレゼント！

グ法 ・イオンプレーティング法 3.プラズマCVD法 4.実施上の注意点 ・材質および熱処理履歴の確認 ・加工履歴の確認 ・使用油脂、加工油類の確認 ・めっきの防止 ・表面粗さ ・膜厚 5.適応例...

メーカー・取り扱い企業： 日本電子工業株式会社 本社

刷毛プラズマ装置S5000-FS2

プラズマを多数の柔軟な極細チューブに導くことにより、凹凸のある物体の底…

効率が良く、膜厚が薄く、塗膜が均一な塗装！ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

電子部品への大気圧プラズマ表面処理

【オートモーティブワールド2020出展】電子部品への大気圧プラズマによ…

ニング後のダイシェアテスト 結果をなどを掲載しています。 【掲載内容】 ■コンフォーマルコーテイングの前処理 ■含浸プロセス前処理 ■ワイヤボンディング前の表面のクリーニング ■酸化膜除去 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： AETP Japan合同会社

大気圧プラズマ処理装置　リモート式

アジア有力企業において多数の実績あり。

。 ■処理対象 　対象ワーク表面の改質(接合強度の向上、密着性の向上） 　対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■電子・イオンのアタックがなくラジカルのみでの化学的な処理のため処理膜へのダメージを低減 ■電極形成後の導電フィルム・ガラスの処理に最適 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, O2,Ar等 詳しくはお問い合わせください...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク