リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

電解/無電解めっき装置

磁性膜・高速めっき・膜厚均一化・カスタムメイドをキーワードに、世界に一…

き装置及びプロセスのご提案が可能です。受注装置のほとんどがオリジナルな仕様となり、御社のご希望の装置を提供できます。 1．4種類のめっき方式：目的に応じためっき方式とプロセスもサポート 2．膜厚均一性±2%以内：フェイスアップ方式 3．全組成対応磁性膜めっき：全組成に対応しためっき液作製、成膜 4．HDD業界全社に納入：磁性膜めっき装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東設 本社ヘッドオフィス

膜厚用水晶振動子 高品質な日本製です！

高品質、高安定度、そして低価格をお求めなら、弊社の膜厚用水晶振動子を！

高品質、高安定度の膜厚用水晶振動子です。(モニタークリスタル) 40年培った技術で、最高の発振安定度を提供します。 他社には真似できない、厳格な管理体制のもとに全数検査を実施してます。 各社の膜厚コントローラーに...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東京クオーツ

表面実装型水晶振動子/MHz帯水晶振動子『DX1008JS』

真空中での組立による異物リスクを低減！優れた長期エージング性能

『DX1008JS』は、1008サイズ、厚さ0.13mm max.の、新構造を用いた 薄型の表面実装型水晶振動子/MHz帯水晶振動子です。 セラミックベースを使用せず、水晶と金属膜のみで構成。 有機性導電性接着剤を使用せず、長期エージング性能に優れています。 移動体通信機器、近距離無線モジュールなどの用途に適しています。 【特長】 ■1008サイズ、厚さ0.1...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大真空