チップ抵抗ネットワーク1005×4

PR実装コストの低減を実現！電極が凸型形状のチップ抵抗ネットワーク

当製品は、電極が凸型形状のチップ抵抗ネットワークです。 部品搭載回数の減少による実装コストの低減を実現。 最高使用電圧は25V、定格電力は1/16Wです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【仕様(抜粋)】 ■素子数：4 ■回路記号：D（独立回路） ■包装数量：10,000 アイエイエム電子ではチップ抵抗ネットワークを始め各種厚膜チップ抵抗器を製造販売しております。 ※詳...

メーカー・取り扱い企業： アイエイエム電子株式会社

連続離型性乾性離型剤フロロサーフ　微細成型用　ナノインプリント　

PR連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対応「フロ…

焼き付けフッ素樹脂加工・シリコン離型剤を超える高性能フッ素系金型離型剤『フロロサーフ』をご紹介。 従来の離型剤では抜けない、連続離型性を向上させたい　→　そんな時に活躍します。 『フロロサーフ』はナノメータレベルの離型成分が母型表面に結合密着し、強力な非粘着性・潤滑性を金型表面に付与します。 精密複雑な形状の成形や粘着性の高い樹脂やエラストマー、割れやすい薄物の成形において、抜群の連続離型性を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロロテクノロジー

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

逆浸透膜純水装置　AQLIA　NEOシリーズ

イニシャルコスト、ランニングコスト激減！　逆浸透膜方式の純水装置

AQLIA NEOシリーズは、イニシャルコスト、ランニングコストが市価の５０％になるように、目標を設定した高精度の純水装置です。 独自の逆浸透膜方式により、有機・無機物質などの様々な不純物を除去し、高品質の純水を造水します。 《特長》 ■独自のシステム基板(PNET2008)で使い勝手がさらに改善！ ■動作タイミングの任意設定機能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プライムネット

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯び...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング

PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を示します。また超硬合金だけでなく、工具鋼上でも下地強化層の採用により高い面圧に対応できます。DLC ...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置

AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(E...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

UV(紫外線)表面処理技術の用途例 -洗浄と改質- ・パネル・ディスプレイ 製品　フラットパネル、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機EL 用途・効果 ガラス表面の有機系皮膜の除去、ITOと絶縁膜との密着度向上、ガラスとITOの密着向上、各種塗布膜の親水化 ・光学部品 製品　ピックアップレンズ、センサー、半導体製造用レンズ、水晶振動子 用途・効果 レンズ表面...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

立体レジスト塗布装置「スプレーコーター　DC110/DC210」

スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応。膜厚は１μｍ～６００μｍまで…

【特徴】 ○微細粒子化が可能なスプレーノズルにより 　サブストレート上の傾斜面、台形や直角頂点部といった 　従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できる ○スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール 　トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能 ○塗布膜厚は、スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応 ○膜厚は1μm〜60...

メーカー・取り扱い企業： 三明電子産業株式会社

高硬度フラッシュめっき『クロアモール』

硬質クロムめっきの約２倍の硬度(HV1800)を実現した、世界初のアモ…

世界初のアモルファスクロム「クロアモール」は2〜4%の炭素を含むクロム系合金めっきで、膜厚3～4μと薄いながらも高硬度と優れた耐摩耗性を兼ね備えています。 【特徴】 ●アモルファス構造を有し、通常の結晶構造のめっきとは異なる特性を有する。 ●熱処理により、硬度が硬質クロムめっ...

メーカー・取り扱い企業： オテック株式会社

高速成膜装置

ＭＥＭＳ製造の犠牲層・光導波路などへ

無機フィルムの高速製膜装置。デモ実験など承っております。お気軽にご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

ヒューズテクノネット　透明導電膜加湿ユニット

H2Ｏを加温気化し、マスフローコントローラーで流量制御し、エッチング装…

加湿タンク内でＮ2ガスをバブリング、マスフローコントローラーで安定制御、温調器でプロセスラインベーキング制御、各炉へ安定供給します。...【特徴】 ○タンク制御温度・・・・・・・・60～65℃（センサーPT100Ω） ○配管制御温度・・・・・・・・・70～75℃（センサーPT100Ω） ○タンク・配管温度異常・・・・110℃（センサーサーモスイッチ） ○Ｈ2Ｏタンク水位検知用に、H・Mレベ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒューズテクノネット

半導体プロセスガス用　インラインフィルター

短納期対応可能！高純度ガス用インラインガスフィルター！

除去効果と低圧力損失を実現！ 高い除粒子効果及び、ろ過精度でガス置換特性・耐圧性・耐腐食性に優れています。 フィルターエレメントは、2種類。 ・SUS316L材金属焼結タイプ ・PTFE膜タイプ をガス種に応じて選定いただけます。 メーカーカタログには、ガス種に応じた対応一覧を掲載しておりますので 機器選定にご利用ください。 【特　長】 ・100% Heリーク試験済...

メーカー・取り扱い企業： バリューインパクト有限会社

低温ALD装置　CVA series

ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能！

緻密で均質、かつ均一の厚みの膜が形成可能 　・ほとんどの金属酸化膜に対応可能 　・どのような基板（材質、平坦性、形状等々）でも密着性良く成膜可能 　・用途に応じた膜厚の制御が可能 　・室温で成膜可能 PETボトルコ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

スパッタ成膜ユニット

スパッタ成膜ユニット

マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備した スパッタ成膜ユニット 【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて 　使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源を搭載することにより、異なった膜種を成膜可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

プラズマ/サーマルALD装置『Fiji G2』

500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

『Fiji G2』は、サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。 プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に 真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜の ALD膜が成膜できる設計。 また、簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trapを標準搭載しており、 プラズマガスラインは最大6ラインとなっております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

波長285nm親撥水処理パターン描画装置

プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・…

１）有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。 　 ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 ２） インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力ＵＶＬＥＤ使用の安価光学系　　　 ・パターン幅20０μｍ　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ワイ・ドライブ

半導体産業工程用フィルタ

半導体製造工程に使用される材料の精製から、デバイス製造工程に使用される…

ウエハ洗浄技術 　HAPES膜、PTFE系膜、金属除去膜 CMPスラリー技術 　ロール、メルトブロー型デプスフィルタ 　ナイロン、PES膜 リソグラフィ技術 　UPE、ナイロン、多層膜 純水、各種薬液用 ガス材料用...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

ヒューズテクノネット　燃料電池イオン膜評価機

Windowsパソコンでの操作がわかりやすい

燃料電池の電気的特性、ガスによる物理的特性、耐久特性の評価に最適です。改質器の評価も可能です。供給用加湿器ユニットは内臓（※単品販売可） ...【特徴】 ○Windowsパソコン操作がグラフィカルで分かりやすくなっています。 ○温度・圧力・流量・電圧・電流などのデータをパソコン画面上に表示し、データを記録、テキスト形式で保存できますのでデータ加工が可能です。 ○各運転パターンを設定することが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒューズテクノネット

原子層堆積装置『AFALD-8』

優れた段差被覆性と精密な膜厚制御！高品質な成膜が可能

『AFALD-8』は、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜が できる原子層堆積装置です。 ミリ秒単位で高品質な薄膜成膜が可能なため、低ダメージで安定した成膜を 実現。 操作性に優れたソフトウェアや、自由度の高いオプション構成...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-9000シリーズ』

低温プロセス　高屈折率制御　高速反応性成膜　緻密・平坦膜

『AFTEX-9000シリーズ』は、低温・低ダメージで高品質なナノ薄膜形成を 実現可能な装置です。 基板サイズ8インチ対応、ECRプラズマ源を3基まで搭載可能で、これらを 同時に稼動することにより生産性を大幅に向上することができます。 ナノ薄膜形成には...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」

ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

SIA-400Tは、工具・刃物・金型等への「表面硬化膜」及び、「装飾膜」に最適なホロカソードタイプを、さらにバージョンアップしたアーク放電タイプ（蒸発源表面上にアーク放電を発生させ、溶解・蒸着・イオン化という過程を経て膜形成）を採用した装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産やレンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントといった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。 当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる ことにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】　様々なご提案！

【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案！】

こんなお困りごとはありませんか？ 課題、用途に適した膜種、方式を提案 【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある 　　　　　　　　　　　　　↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

スーパーバブラーWAC

先進の電気抵抗率制御技術で超純水の静電気を抑制！！

時に設定値 　±0.03MΩ・cmで制御が始まります。 ・最高使用圧力が0.5MPaのため、機種配置が自由に行えます。 ・使用水量が大きく変動してもすばやく設定値に収束します。 ・CO2溶解膜などの高価な消耗品は不要です。膜方式と異なり一切の 　CO2ガス排気と排水がありません。 ・過酸化水素（3％）による殺菌も出来るので、菌も繁殖せず安心です。...

メーカー・取り扱い企業： 日東機器ファインテック株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

ロータリースクリーン印刷機『ロールtoロール』

低コストで高生産性を実現！優れた再現性を持つロータリースクリーン印刷機

は、円筒状版によって精細な印刷を、高速で連続して 行うことができるロータリースクリーン印刷機です。 低い製造コストで、高い生産性を実現できます。 優れた再現性を持ち、微細パターンから厚膜印刷まで幅広く対応します。 【特長】 ■円筒状版による連続・精細・超高速な印刷 ■高生産性・低製造コスト ■微細パターンから厚膜印刷まで優れた再現性 ※詳しくはPDF資料をご覧いた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

積層薄膜作製装置

多層塗りによる厚膜の作製！スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置

『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

ディスプレイモニタ代替品カタログ-5

ディスプレイモニタ代替品カタログ-5

半導体製造装置、産業機器、液晶製造装置、その他制御装置などに使用されているモニタの置き換えに最適です。○対応装置メーカ：日立製作所,三菱電機,芝浦メカトロニクス,日立DECO　○対応モニターメーカ：日立製作所,東京電子工業,シャープ,東洋通信機,富士通,デジタル,三菱電機...半導体や各種業界で使用されているほとんどのディスプレイモニタの代替を可能にします。対応設備名→M-308ATW,M-501...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイブル

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

完全に分離されたプリカーサ導管と注入口を備えた米国特許取得済みのデュアルチャンバ、ウォールリアクタ設計により、優れた歩留まり、低パーティクルレベル、優れた電気的および光学的性能を備えた高品質なALD膜を成膜します。 コンパクトで人間工学に基づいた設計により、簡単かつ迅速なメンテナンスでシステムのダウンタイムを最小限に抑え、ランニングコストを最小限に抑えることができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

15インチタッチパネルモニター

15インチタッチパネルモニター

製品特長 1、タッチパネル4線式抵抗膜方式を採用しています。 2、手袋や樹脂などスタイラスでも入力可能でタッチ感に優れています。 3、液晶モニター15.0型TFT液晶を採用し、映像は極めて美しくなっています。 4、スタンドは回転調...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キトナレイズ 東京営業所

SUSS MicroTec社製インクジェット塗布装置『LP50』

半導体、PCB、プリンテッドエレクトロニクス向け、卓上型インクジェット…

m、KonicaMinolta、Xaar、Canon製ヘッドに対応しています） エポキシ樹脂、ポリイミド、アクリル樹脂やUV硬化樹脂等のダイレクト塗布、 ウェハへのレジストやパッシベーション膜の塗布、AgやCuのナノ粒子を含む ペーストのダイレクト塗布等にご使用頂けます。 PiXDRO技術を搭載したこの装置には以下の機能を備えています。 【機能・特長】 ・加熱機能付き高精...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

【アルミ表面処理　問題解決事例】IC 検査治具への耐熱性絶縁膜

コスト削減や形状の自由度UPで作業性向上！高耐電圧を実現したクラックレ…

でき、加熱にも対応できる ようになります。 【課題・背景】 ■セラミック溶射や絶縁コーティング等はコストが高い ■治具の形状に制限もあり、熱伝導率低下などの問題も生じる ■アルマイト皮膜は絶縁性を持つが、高温域ではクラックしてしまい 　信頼性に欠けてしまう ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 東栄電化工業株式会社 相模原本社工場

硬質クロムメッキ

1〜500µｍ厚までの皮膜をつくることが出来ます。

ロムメッキはクロムメッキの1つで、クロム金属が1μm以上メッキされたものを指します。硬質クロムメッキのことをハードクロムメッキと呼ぶこともありますが、どちらも同じ意味になります。硬質クロムメッキの皮膜は厚く処理出来るので硬度、耐摩耗性、摺動性、離型性に優れています。用途として機械部品や金型などの工業製品に利用されています。...

メーカー・取り扱い企業： 三和メッキ工業株式会社

シールドルーム

シールドルーム

00dB以上の減衰率を得ることが可能なシールドルーム ■□■特徴■□■ ■様々なサイズ・仕様に応じたシールドルームの対応可能 ■シールドパネル： 両面にガルバリウム（2μm亜鉛メッキ）膜を施した2mm厚鋼板 ■工法：パネル工法（ボルト締め）を用い、150kHz〜18GHzで 　 100dB以上の減衰という高いシールド性能を持つ ■設置環境： 設備環境とサイズに合わせて自己自立...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社レスター システムビジネスユニット

株式会社テクノスマート　会社案内

“モノづくり”の原点に忠実！設備の組立、検査から出荷まで、一貫して保証…

を創造する企業を目指してまいりますので、今後とも何とぞ 変わらぬご支援ご指導を賜りますよう、お願い申し上げます。 【事業内容】 ■リチウムイオン電池電極製造装置 ■液晶ディスプレイ用偏光膜製造装置 ■他各種フィルム製造装置 ■コーティング・ラミネーティング用精密機械の設計製造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノスマート

原子層堆積装置 「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。 一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。 【特徴】 ○複雑...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

リアルタイム放射率補正型半導体プロセス温度モニター

半導体プロセス中の対象ウエハの放射率をリアルタイムに測定し補正を行うた…

定自体の信頼性が乏しいことがその理由でした。 弊社取扱のリアルタイム放射率補正型半導体プロセス温度モニターは、今まで無し得なかった対象ウエハの放射率をリアルタイムに測定し補正を行うため、ウエハ膜の種類に依存せず正確な温度測定が実現可能になりました。 また、独自の赤外線高感度測定技術により、低温まで(検出器の感度限界近くまで)測定出来ます。 今まで問題になっていたチャンバー中の迷光に付...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・アール・システム

静電気対策専用 DLCコーティング『THORスリック』

低温処理による高い被膜密着性と低発塵性！表面抵抗値別製品をラインアップ

ESD対策専用DLC コーティング『THORスリック』は、帯電によって起こるダスト等吸着による生産性低下 などの不具合対策に活用できる製品です。 低温処理で高い被膜密着性と低発塵性。色調は黒色で、耐摩耗性や耐食性、 耐焼付性を有しています。 半導体製造前工程のウエハホルダやウエハ搬送アーム、吸着ステージなど 幅広い用途でご使用いただけます。 【特長】 ■低...

メーカー・取り扱い企業： 日本コーティングセンター（ＪＣＣ）株式会社

【導入事例】半導体製造装置部品へのアルミナ溶射

【絶縁性向上】半導体製造装置部品へアルミナ溶射

【効果】絶縁性、耐プラズマ性向上のアルミナ溶射技術 【課題】 半導体製造装置部品において、静電気障害を防止する解決策としてアルミナ溶射技術が利用されてきたが、高純度被膜である事、及び短納期対応が課題であった。 【解決策】 当社のアルミナ溶射により高純度被膜を生成、短納期にも対応しました。 【当社の売り】 当社のプラズマ溶射設備は、単発品や試作品への...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・シイ・エス

ステンレスの表面改質「SPP処理」

SUS316Lの表面に緻密な酸化クロム皮膜を形成！HF、HClに対して…

「SPP=Super Passivation Process」は、ステンレスの表面改質により、 最表層に欠陥のない緻密なCr2O3膜を形成します。 フッ酸や塩酸などのハロゲンガスに対して優れた耐腐食性能が得られ、 真空特性も向上。ステンレスの表面を改質することにより、今までの ステンレスの常識とは違う、様々な現象が解明...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コンタミネーション・コントロール・サービス

装置製作事例

真空装置の設計・製造ならお任せください！

【事例】 ◆スパッタ装置 　ジョセフン素子作成装置（アルミ・ニオブ）、タブテープ作成用ロールコータ 　（酸化クロム・銅）、プラスチック部品メタライズ装置、 　ワイヤー成膜要スパッタ装置、レーザービームスパッタ装置、 　実験用スパッタ装置（金・白金・チタン・SiO2） ◆蒸着装置 　ドアミラー蒸着装置、シールド膜蒸着装置、有機ＥＬ実験用蒸着装置、アルミ膜蒸着...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

半導体材料　ＡＬＤ／ＣＶＤ材料

高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

貫してクリーンルーム内で作業 ○スピーディーな製品設計が可能 ○試作から量産へのスムーズなシフトも実現できる専用工場で生産 【ラインナップ】 ○アデカスーパーＴＥＯＳ →用途：層間絶縁膜 ○アデカ高純度ＴＭＢ →用途：ドーパント ○アデカ高純度ＴＥＢ →用途：ドーパント ○アデカ高純度ＴＭＰ →用途：ドーパント ○アデカ高純度ＴＭＯＰ →用途：ドーパント ○アデカ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

半導体モールド金型用セルテスXコーティング

先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。

半導体モールド金型用セルテスXコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより成膜された２～５μｍの窒化クロム被膜（CrxNy）はビッカース硬さ1800以上で、シリカ粒子によるアブレシブ摩耗に対してすぐれた耐摩耗性を示します。また鋼母材では、放電加工面上の被膜の脱膜再コーティング...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

超高速回転スピンコーター『ACT-200SM-S』

スピード重視ならMAX6万rpmの超高速回転！スピンコート機ACT-2…

000～60,000rpm±1％以下（試料台Φ20実績値）の超高速回転が可能な卓上型スピンコーターです。 薬液の揮発性が高くスピード重視、粘性が高めでより強いスピンが必要、さっと広げてごく薄い膜を得たい・・・そのような課題をお持ちであれば是非超高速回転による遠心力をご検討ください。 基板サイズΦ3～Φ50mmに対応し、基板の保持方法は両面テープやピン保持となりますので、真空ポンプは必...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アクティブ