リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

コーティング剤検査装置『Sonar』

PRUVライトを使った2Dコーティング剤検査装置。独自開発AIを使った気泡…

『Sonar』は、弊社が持つ画像処理検査技術とUVライト＋RG照明を組み合わせたコンフォーマルコーティング剤検査装置です。 コーティング領域の全面検査とコーティング不可領域の任意検査に加え、自社開発AI技術を使った気泡検出機能が標準装備されています。また、レーザー変位センサを使った膜厚測定（オプション）を搭載することでワーク毎のコーティング厚のバラつきを記録することが可能になります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジュッツジャパン

高分子膜の劣化解析

品質保証や製品開発に役立つ技術！樹脂・ゴムなどの高分子材料の劣化解析や…

化解析や耐久性評価を行っております。 高分子材料は、金属や無機材料に比べて圧倒的に劣化しやすく、使用環境の 影響を受けて経年劣化や破壊が圧倒的に起こりやすい材料です。 ここでは、高分子膜の劣化解析について事例をご紹介しています。 【概要】 ■水処理膜などの高分子膜は強アルカリ水溶液中に長時間暴露されると経年劣化が 　促進されるため、強アルカリ性環境下での長期耐久性が要求さ...

メーカー・取り扱い企業： 川重テクノロジー株式会社

【TEM/SEM/EBSD】断面観察及び構造解析に関する事例集1

金属組織観察や相解析などTEM、FE-SEM、EBSD等による断面観察…

当事例集では『断面観察及び構造解析』にかかる事例についてご紹介します。 「線材（ばね材）の金属組織観察」、「2相ステンレスの相解析」、「STEM-EDSによる半導体絶縁膜評価」の目的や手法、結果などを含めた分析事例を多数掲載。 他にも、観察や相解析、絶縁膜分析や測定などご紹介しています。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■線材（ばね材）の金属組...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）

初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能！基板、堆積膜の経時変化を…

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャープな境界面は用いず、固体層占有率による勾配から 入射角を決定し、入射角依存の鏡面反射確率、反応確率に適用。 PVD、プラズマCV...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

第一原理計算 材料シミュレーションmatelierPHASE/0

第一原理計算による材料シミュレーション「matelier PHASE/…

圧電体） / 磁性体（強磁性体、ハーフメタル） / 有機化合物（分子性結晶） / 金属（合金） / 鉱物 / セラミックス / ナノカーボン（グラフェン、ナノチューブ） / アモルファス（半導体酸化膜など） / 遷移金属カルコゲナイド 　など 【 主な適用業界様 】 大学、公的研究機関 / 半導体、電子材料 / 電機 / 化学 / 鉄鋼 / その他（繊維、非鉄金属、ゴム・タイヤ）　など ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アスムス

動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）

イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが…

【機能一覧（一部）】 ■応用分野：イオン注入による表層挙動、イオンビームミキシング、DLC膜形成挙動、スパッタリング現象解析 ■モデリング手法：粒子法 ■解析手法：2体衝突近似に基づく動的モンテカルロ法 ■対象次元：1次元 ■ソルバー：ドライバー SASAMAL／モジュール SAS...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

【オンライン開催】gPROMSソフトウェア製品 トレーニング　

ライセンスのご利用に関わらず、gPROMSにご興味がある企業･研究者の…

さい。 実際にソフトウェアをご利用いただけます！ ■gPROMS Process 入門 モデルベースによるプロセスエンジニアリング（バッチ・連続プロセス） 触媒反応器・吸着分離・膜分離モデルライブラリ ■ カスタムモデリング ■ バイオプロセスモデル ■gPROMS FormulatedProducts 晶析解析 ■gPROMS Formulat...

メーカー・取り扱い企業： シーメンス株式会社 gPROMS ポートフォリオ

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）

PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能…

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能。 入射粒子情報（粒子フラックス、入射エネルギー・角度分布）はPEGASUS ...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

リアルタイム相互作用サイトメトリー『heliXcyto』

細胞上でのリアルタイム相互作用解析を可能にする新たな測定法！

イム相互作用測定(RT-IC)を可能にします。 【特長】 ■全自動ワークフロー ■様々な細胞(生細胞・固定細胞)が使用可能 ■様々な複合培地に対応 ■単一細胞や複数細胞の解析 ■低い膜タンパク質発現レベルでの解析 ■超高感度蛍光検出 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ライフィクスアナリティカル株式会社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

長い円筒パイプの内側に強い膜を成膜する方法のひとつである円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの解析事例です Particle-PLUSで利用可能な 1)軸対称モデル 2)鏡面対称境界条件を組み合わせることで 装置全体の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うこ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

rticle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 　高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【解析事例】CVDエッチングプロセス最適条件の探索

最適条件の探索に！多次元表示チャートの活用事例をご紹介！

ッチングプロセス最適条件の探索事例をご紹介します。 問題設定としては、原料ガス供給量SCCM、酸素濃度を変化させ、 出口C2F6濃度、CF4濃度がそれぞれ最小となり、 エッチング速度最大(膜生成速度最小）となる操作点を探索しました。 計算の結果、具体的にC2F6濃度とエッチング速度はトレードオフの関係になる ことが明確となり、その後「modeFRONTIER」の多次元表示チャー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IDAJ