リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

マイクロ粒子のシート化技術

PR【技術の実用化に向けて協力企業を募集中！】 導電性フィルムや、全固体…

当社で開発した「マイクロ粒子のシート化技術」についてご紹介いたします。 マイクロ粒子を熱プレスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技...

メーカー・取り扱い企業： 日榮新化株式会社

Ti系、Cr系コーティング膜選択エッチング液　チタピールシリーズ

切削工具、治具、金型の再コーティングの前処理として浸漬処理を施すことで…

＜チタピールA/B＞ 切削工具、機械部品、金型、装飾品等の再コーティング前処理工程における、チタン(Ti)系残留コーティング膜の剥離剤です。母材である合金とは反応せず、Ti膜のみを選択します。また除膜が困難とされている窒化チタンアルミ(TiAlN)の剥離実績がある、高性能Ti系コーティング剥離剤です。 ＜チタピールC...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）

非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…

実績豊富なプラズマクリーニング装置「ＰＯＥＭ」をＤＬＣ除膜用にグレードアップ＆カスタマイズ。 従来型より処理時のイオンのエネルギーを向上させ緻密なＤＬＣ膜の除去に対応。通常のＯ２クリーニングプロセスだけでなくマルチガスプロセスでＳｉ含有ＤＬＣなどカスタマ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

プロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似ウェハを処理して堆積物をコーティングすることによってチャンバ内表面状態を安定させる手法（エージング）が適用されていました。Y5O4 F7膜はY2O3膜に比べてプラズマ処理前後の表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮し、装置稼働時間を上げることに寄与します。 ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

回路形成材料　電子部品、ウェハーレベルパッケージ工程エッチング液

ウェハーレベルＣＳＰや精密電子部品をはじめとするあらゆる分野で

密電子部品をはじめとするあらゆる分野でのウエットエッチング剤です。各種機能を有したエッチング剤、ソフトエッチング剤、ハーフエッチング剤なども取りそろえています。銅再配線工程や素子電極形成等に各種金属膜のエッチング液を提供しています。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな 卓上タイプエッチング・成膜装置です。 設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の 導入をご検討されている方にお勧め。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■装置最大サイ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…

オンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、研究開発から生産まで幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。 【特徴】 （１）難エッチング材料を微細加工可能 （２）金属多層膜をワンステッププロセスで加工可能 （３）自公転ステージにより、複数ウエハを均一に同時処理可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

『SERIO』は、Si深掘り、石英の垂直加工、有機膜のエッチングなど 幅広い用途に対応する高密度プラズマエッチング装置です。 実績豊富なICPプラズマ電極を搭載し、平滑なエッチング面と高い 加工精度を実現。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

フォトエッチング加工

大量生産のための多数個取り、大型モジュールの生産など幅い広いニーズに応…

NISSHAは、量産性にすぐれたロールtoロール方式のエッチング設備を 保有し、長尺フィルム上に成膜されたITOやCuのパターニング加工を 引き受けております。 フィルム両面でのエッチング加工や、大面積パターニングにも対応可能。 最大で500×1,000mmのパターンを加工できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： NISSHA株式会社

【資料】Cu/Moエッチング液 SDM ver.69

Cu/Mo膜をエッチングすることが可能な薬液をご紹介します！

当資料は、「Cu/Moエッチング液」のSDMをご紹介している、 バージョン69です。 「PESENG基板 実験条件 概要」では、膜構成がCu/Moで、膜厚は560/25、 T角は45(±10)、CDロスは1.0～1.2(±0.1)であることを掲載。 また、評価試験として、Cu0から15kppmの断面図や、CD上/CD下...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック環境エンジニアリング株式会社 本社

CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』

高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工！プロセスガスからラジカルを選択的に…

『CCP-T60M/B2M』は、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する 平行平板型エッチング装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる60MHzパワーを上部電極に印加。 また、常に適切...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

イオンビームトリミング装置『scia Trim 200』

メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構

『scia Trim 200』は、高精度・高スループットによる 膜厚エッチング制御のイオンビームトリミング装置です。 最大200mmウエハ基板対応しており、歩留改善。 また、プロセスはイオンビームトリミング(IBT)となっております。 ご用命の際は、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

半導体産業工程用フィルタ　有機溶剤用金属不純物除去フィルタ

一般的なイオン交換型金属除去膜から半導体アプリケーションに特化した金属…

Iongard SL purifier 　イオン交換型有機溶剤向け金属除去 Nylonpolar Purifier 　Cobetterオリジナルの金属除去膜。表面修飾型ナイロン基膜を使用。酸を発生させないため、Lithography用材料に最適 Iongard Polar Purifier 　極性有機溶剤に有効な金属除去 Cemdeion Pur...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

メージレスアッシングを実現。表面波プラズマ（ＳＷＰ）によるハイレートアッシングと２室装備されたアッシング室によりハイスループットを実現。 アッシングだけでなくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボットの採用でり...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

枚葉式プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ－Σ」

ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…

薄ウェハ（１００μｍ以下）の自動枚葉搬送を実現したプラズマエッチング装置。マルチモードプラズマとステッププロセスで幅広いプロセスに対応 自然酸化膜除去から厚膜レジストアッシング・クリーニング・ディスカムまで。 ディスクリートＩＣ、パワーデバイス、化合物半導体・ＭＥＭＳなど多くのデバイスの量産現場で多様なプロセスで活躍中...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」サンプルテスト受付中

コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテス…

バッチタイプでサブミクロンのＳｉ酸化膜のエッチングに対応。 ＳｉＮ、Ｓｉ系薄膜だけでなく高融点金属や難エッチング材にも対応 石英の垂直性エッチング、厚膜レジストの微細加工等ニッチデバイスの加工に最適。 プラズマモード切替によるマル...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

エッチング技術

シンプルな窓抜き型から微細なデザインパターンまで、さまざま応用展開が可…

『エッチング技術』とは、フィルムに文字や図柄等、任意のパターンの 蒸着模様を作る技術です。 シンプルな窓抜き型から微細なデザインパターンまで、さまざま応用展開が 可能。 また、蒸着膜の上に耐アルカリ性塗膜を形成した後に化学処理する 化学的エッチングと、蒸着膜の下の水溶性塗膜を洗い流し、部分的に 蒸着膜を残す水性エッチングの2工法があります。 【特長】 ■フィルムに文...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社麗光

ITOガラスエッチング剥離装置

簡易な槽内洗浄が可能！装置内の数か所に基板蛇行修正機構を取り入れていま…

『ITOガラスエッチング剥離装置』は、ガラス基材表面のITO（透明導電性膜）を エッチングする製品です。 駆動部の簡易洗浄ノズル管により、駆動ギアの結晶防止機能を持たせており、 薬液槽内にも洗浄スプレーを設けることで簡易な槽内洗浄が可能。 メンテナンス性が向上...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーア電子

伸光写真サービス株式会社　高品質

各工程での検査機器、品質管理体制の充実に取り組んでおります

工程での検査機器、品質管理体制の充実に取り組んでおります。精密な検査体制（CADデータ・フィルム検査、穴位置自動チェック検査、エッチング工程、積層）。その他、銅メッキ工程や金メッキ工程では、メッキの膜厚を厳密に測定。製品の外形も、熟練の技術者が測定器を用いて厳しくチェック致します。より高品質な製品の製造に向けて、伸光写真サービス株式会社ではQCサークル活動に取り組んでおります。QCとは「Quar...

メーカー・取り扱い企業： 伸光写真サービス株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマ処理装置（多目的プラズマエッチャー）

プラズマ処理装置（多目的プラズマエッチャー）

本装置は、平行平板型高周波プラズマにより、ポリイミド系樹脂・窒化膜等のエッチングやフォトレジストのアッシング（灰化除去）、表面改質等に有効な多目的枚葉式プラズマユニットです。 ウエハサイズ50〜200mm（2〜8インチ）、BGA・CSP等に対応しており、プラズマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー

枚葉式プラズマエッチング処理装置（枚葉式プラズマエッチャー）

枚葉式プラズマエッチング処理装置（枚葉式プラズマエッチャー）

本装置は、平行平板型高周波プラズマにより、ポリイミド系樹脂・窒化膜等のエッチングやフォトレジストのアッシング（灰化除去）等の処理を行う枚葉式プラズマエッチング処理装置です。 オペレーションパネルにより、DPモードとRIEモードを切り替える事が出来ます。 ウエハ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ドライエッチングの受託加工

Siやカーボン膜の受託エッチングサービス

Siやカーボン膜のドライエッチングを受託加工致します！！ 条件出しやデモ処理は無償対応。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

量産用プラズマクリーニング装置（大型プラズマクリーナー）

自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…

先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシン...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・ 成膜装置です。 研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。 また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されています。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせくださ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

マ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 ３００ｍｍウェハや積層基板、最大１ｍ□までの基板のメタルエッチ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

HCD型高密度プラズマエッチング装置

シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…

従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッチングにも対応可能 基板の大型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【資料】Cu/Moエッチング液 SDM ver.70

Cu/Mo膜をエッチングすることが可能な薬液をご紹介します！

当資料は、「Cu/Moエッチング液」のSDMをご紹介している、 バージョン70です。 「PESENG基板 実験条件 概要」では、今回の試作内容が、T角が40(±10)、 CDロスは0.9～1.1(±0.1)であることを掲載。また、ETは100secです。 Cuが0ppmの場合は、CD上が1.70μm、CD下が0.99μm、T角が40度。 Cu15kppmまでの全7パターンの結果を...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック環境エンジニアリング株式会社 本社

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

Siやカーボン膜の受託エッチング！ その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪ 一週間～レンタル可能で研究開発をスピーディーにサポート致します！ 初回条件出しやデモ処理は無償...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

Siやカーボン膜のエッチング！ その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

真空バルブオーバーホール、アクチュエーター修理

真空装置周辺機器,バルブの修理なら　お任せ下さい！ 　　メーカーメンテ…

化 　　 コストダウン例 ・部品内製化を進める事により、生産中止バルブ等にも対応。 ・ベローズ内製による交換。 ・アクチュエーターシャフトの修理及び新規製作。 ・各部材のアルマイト処理等の膜厚変更等。 【　信　頼　性　】 充実したメンテナンス設備 ・動作確認用コントローラー所有。 ・アクチュエーター単品でも動作テストを実施。 ・リークチェック用各種フランジを所有。...

メーカー・取り扱い企業： 大宮工業株式会社 近畿支店

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

均一性を実現 ■反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現 ■干渉型、発光分光型のエンドポイントモニタに対応しており、狙い膜厚での終点検出が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

【アプリケーション】 ■PECVD：絶縁膜(Si3N4、SiO2等) ■光学用(a-C：H、DLC) ■ナノクリスタルダイヤモンド、カーボンナノチューブ ■RIE：反応性エッチング(Ni、Cr、Pt..) ■光学用材料(クオーツ、フ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッ…

FA-1は、ICチップ上の各種不良解析のためのパッシベ-ション膜の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行うドライエッチング装置です。操作方法は簡単で、試料をセットしてボタンを押すだけで使用できます。また、省ス...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ナノインプリント装置「TEXシリーズ」＊デモ相談可能

従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやす…

〔特徴〕 ・マスターモールド、ソフトモールド、UVレジスト、転写装置全てをシステム化 ・解像度１００nm ・スループット１～２分以内 ・ハイアスペクト（１：５）可能 ・残膜１５nm以下 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/Pulse...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ITOフィルムエッチング装置

一定値以上の負荷が掛からないようフィルムを搬送！高いスプレー効率を実現…

『ITOフィルムエッチング装置』は、M-ITO（メタル付透明導電性膜）フィルム、 ITO（透明導電性膜）フィルムの連続エッチングを行う製品です。 RtoR（ロールtoロール）でのフィルム搬送において、テンションの掛け過ぎは 基材の伸びの原因になります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーア電子