マスク | イプロスものづくり

PR平面のPOPに浮き出る立体感を加え、より一層印象的に。型作りから一気通…

当社では、入稿いただいた2Dデータをもとに、立体感があり視覚効果や触感の良い『真空成型立体POP』を製作しています。店内POP、販促ツール、イベントのディスプレイ、商品パッケージ、ハガキ、 DMなど様々なツールに、立体ならではの表現力を加えることが可能です。型作りから印刷ズレの修正まで一気通貫で自社対応しており、最短3日の短納期を実現しているほか、高品質・低価格も追求し...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ランスロットグラフィックデザイン

マスクレス半田ボール搭載機「ソルダバウンサー」

PR振動技術を採用したはんだボール搭載装置！最小φ80μmのボール搭載可能…

マスクレス半田ボール搭載機「ソルダバウンサー」は振動技術を採用したはんだボール搭載装置です最小φ80μmのボール搭載が可能。研究開発、少量サンプル作製に適した製品となっています。【特長】 ■印刷機と比較し場所を取らない ■マスクレスなので定期的なマスクの交換も不要 ■定常波振動を利用したはんだボール打ち上げ ※詳細はお問い合わせいただくか、PDFデータをご覧ください。当社は2024年...

メーカー・取り扱い企業：マイクロ・テック株式会社

マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去

TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノビジョン本社

スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」

機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備！RCA洗浄液に変わる洗浄液・…

弊社グループ会社の洗浄装置はフォトマスク／レチクル製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。【特徴】　・ハイクリーン化と歩留向上に貢献　・検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

フォトマスク洗浄装置｜簡易型マスク洗浄装置TWC-302

「スクラブ洗浄＋リンス」＆「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装…

マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置。 2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄とリンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行う簡易型のマスク洗浄装置です 1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノビジョン本社

簡易型マスク洗浄装置｜簡易洗浄ユニット

簡易洗浄ユニットは、最大7インチマスクサイズまで対応できる簡易洗浄ユニ…

お客様のご使用環境から必要なユニットをチョイスしマスク洗浄を行えます。 ■主な特長・7インチまでのマスク洗浄に使用できます・研究開発用途や少量のマスク洗浄に最適・既存の装置と併用し必要なユニットを選択・設備投資で予算が厳...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノビジョン本社

UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー

光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。自動平行調整、…

当製品は、UV-LED光源搭載の自動一括等倍露光装置（マスクアライナー）です。弊社の特徴として、フォトマスクとウエハを完全非接触でステージとマスクの自動平行調整が行えます。超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事でフォト...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

フォトマスク洗浄装置｜PDP・大判フォトマスク用 TW-1000

スモールサイズからラージサイズまで、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で…

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノビジョン本社

フォトマスク洗浄装置（セミオート）

シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。

■国内マスク製造メーカー業界ではシェアー90%を誇ります。 ■「研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」に最適。 ■デバイスメーカ様では、「コンタクト露光時に付着したレジスト除去」に実績豊富 ■基...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

インテリジェントマスクラック

イレクター互換スペーシアパイプ激安メタルマスク収納棚の販売

レール幅を変更することであらゆるサイズのマスクを収納できます。 650×550のメタルマスクを78枚(標準）収納できます。タク技研様スペースマスクもOKです。（オプション）御要望に応じてカスタマイズいたしますので、お気軽にお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社実装応援団

サンドブラスト用マスク治具「MJ-2025型」

カスタマイズ対応致します！複雑な作業前準備は不要です。

サンドブラスト用マスク治具「MJ-2025型」は、サンドブラストによりICチップのモールド樹脂パッケージのダムバリ、ゲートバリ、フラッシュバリを除去する簡易治具です。アルミニウムでしっかりとマスキング致しますので、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社MSAファクトリー

メタルマスクはんだ飛散防止ユニット『LMC-SAM1』

エアー＆バキュームでクリーン環境へ！メタルマスクは機器に置くだけで簡単…

『LMC-SAM1』は、開口部の付着はんだを大気中に飛散させず回収するメタルマスクはんだ飛散防止ユニットです。機器操作は足踏みSWで簡単操作。下面からのLED照射で開口部が鮮明にご覧いただけます。また、メタルマスクは機器に置くだけで簡単にセット可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ルックス電子

はんだペースト印刷機【多彩な印刷形態を実現！】

圧入方式だからできる多彩な印刷形態を実現した、はんだペースト印刷機！ …

（主な特長） ●外気と遮蔽された構造のカートリッジ内にはんだペーストを収納しているので酸化等の劣化を抑止できます。 ●カートリッジ内のローラーシャフトの回転圧力ではんだペーストをマスク 開口内に確実に充填します。 ●はんだペースト自動補給機能によりカートリッジ内のはんだペースト量を一定に保持します。 ●自動撹拌機構によりカートリッジ内のはんだペースト粘度を一定...

メーカー・取り扱い企業：谷電機工業株式会社

『クロムマスク自動現像機』

現像／エッチングを完全に自動化！一貫した良質の製品の生産を保証します

当社では、コレンタ社製が開発した『クロムマスク自動現像機』を取扱っています。当製品は、あらかじめ露光されたクロムマスクを「ハンガー」に装填、レジスト現像-水洗-クロムエッチング-水洗-レジスト剥離-クリーニング-乾燥の各工...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ラットコーポレーション本社：営業部・業務部

LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の…

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケール信...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ナノシステムソリューションズ

【メタルマスク】サン工芸オリジナル着脱枠システム

特許取得済み！メタルマスクの取付け、取外しがワンタッチに行えるサン工芸…

の簡単操作で、メタルプレートと枠の着脱が行えるオリジナルの『着脱枠システム』を取り扱っております。実装は印刷が最も重要な工程です。印刷工程の中でも大きなファクターを占めるのがメタルマスクです。優れた特殊機構の採用で、均一で安定したテンションを得ることを実現。 マスクテンションは任意に変更することができ、常に適切なテンションにて印刷が実現します。また、着脱枠はレンタル...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サン工芸

『フォトマスク・有機EL用　基板搬送ケースの製作サービス』

クラス100以下の清浄度を保持するタイプや、大型ガラス基板対応など品揃…

当社ではお客様のニーズや仕様に合わせて基板搬送用のケースを製作する『フォトマスク・有機EL用　基板搬送ケースの製作サービス』を提供しています。基板を効率良く収納できる「アルポリケース」をはじめ、クラス100以下の清浄度を保持する「クリーンケース」、ガラス基板を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ディー・アール・エス（DRS)

G8対応　枚葉スピン式　大型マスク洗浄装置　MSC-1500

リンス、乾燥を専用のチャンバーで行うことにより、精密洗浄が可能

AGV対応、ケミカル処理、リンス、乾燥する大型マスク洗浄装置です。反転機構により両面洗浄も可能です。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場

半導体製造装置　マスク自動洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】バッチタイプ、スクラブ洗浄等多彩なオプションに…

本機はローダーに収納されたマスクを自動的に搬送し、各処理槽を経てアンローダーに収納する装置です。バッチタイプ、スクラブ洗浄等多彩なオプションにて対応いたします。詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

サーチを行うオートアライメントを採用しました｡また､安定した視認性を実現するために､顕微鏡のハロゲン照明は画像処理により､照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています｡オペレータはフォトマスクとウエハをセットし､あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで､ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ､露光までをオートで行うことから､オペレータや使用経験に依存しない､安定した精度での...

メーカー・取り扱い企業：ウシオライティング株式会社

ウエハー　マスク　枚葉スピン洗浄装置

Ｒ＆Ｄ用途に最適なコンパクトなスピン洗浄装置です。チャックテーブルの交換により多種多様な基板を洗浄できます。＜主な仕様＞対応ワークサイズウエハ　φ8インチ（MAX） マスク　6025（MAX）純水リンス、ブラシ洗浄、メガソニック洗浄（または2流体洗浄） N2ガスブロー、スピン乾燥（MAX2000rpm）シーケンサコントロールタッチパネル（GOT...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ナノテック

マスクレス露光装置「MXシリーズ」

半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献しま…

半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから直接露...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大日本科研

超微細加工LIGAプロセスによるメタルパーツ，ポリマーパーツ

アスペクト比100も可能。高精度･高アスペクト比のマイクロパーツ，サブ…

LIGAプロセスの概要を紹介します。一連のプロセスによる製品提供の他にも，部分的な技術導入の相談も承っております。 LIGAプロセス工程: 1. X線マスクの作製電子ビームまたはレーザーリソグラフィによる高精度のX線マスクを作製します。 2. レジストのX線リソグラフィ (Lithographie) 基板上のフォトレジストにX線マスクの構...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ASICON

マニュアル露光装置

顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ

2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと､露光ギャップ設定を行うことで､露光が可能です｡なお､露光スイッチを押すと自動...

メーカー・取り扱い企業：ウシオライティング株式会社

自動両面露光装置

フィルム材料用 Roll To Roll 自動両面露光装置

基板寸法　・サイズ：(W)250～500×(L)250～600 mm 　・厚さ：0.045～0.25 mm ■光源：平行光ショートアークランプ　5.0Kw（ハイテック指定）×2 ■フォトマスク：高透過アクリル＋マスクフィルム　ガラスマスク ■露光管理：積算光量計 [整合部] ■整合方式：画像処理による ■CCDカメラ：2台又は4台 ■照明：LED 透過照明 ■整合精度：...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ラットコーポレーション本社：営業部・業務部

マスク検査ステージ（QIS-0１型）

石英マスクの表裏面目視検査を行うための治具です

作業者がワークをセットします。樹脂ピンによりワークを保持します。手動にて傾斜・旋回操作ができ、ワークの表裏面の検査が容易に行えます。...ワークセット、回転動作、旋回動作が簡単に行えます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ジャステム

【高品質・高性能】『スピンスクラブ洗浄装置シリーズ』のご紹介！

量産向け新型【自動スクラブ洗浄装置】と、シリーズ累計200台以上の【フ…

nal洗浄」等に好適！　◆「反転機能」「ブラシ押込み量設定機能」「CO2イオナイザー」等々　　豊富なオプションに対応可能です。　◆各種カスタマイズにも対応します。《２》【フォトマスク洗浄装置】　◆マスクサイズに応じてのシリーズ対応した装置です。　◆シリーズ累計200台以上のロングセラー機種です。　◆国内マスクでは業界シェア90％以上の豊富な実績！　◆デバイスメ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

フラットパネル露光装置＜超大型縦型露光＞

大型パネルのマスクの撓みを大幅に削減！！

<特徴> 大型パネルのマスクの撓みを最小限に抑えたマスク縦型の露光装置です。多面取、大型パネルをXステップで露光。高い継ぎ精度で露光します。 マスクとパネルの精密温度制御を行い、トータルピッチを抑えた装置になっています...

メーカー・取り扱い企業：株式会社清和光学製作所

改善成功事例　事例4　有機EL成膜装置改造

◆◇◆経緯◆◇◆ これまで、他社製の有機EL成膜装置を使用していた。しかし、使用上、下記の不具合点や要望が挙がっていた。 ◆マスクの交換機構が搭載されていない為、マスクを交換する際は、その都度、大気開放する必要がある。その為、試料にダメージが生じてしまう。また、一貫した真空環境ではない為、無駄な時間を費やしてしまう。...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

マスクアライナに使われる磁石、特級パソコンに使われるマグネット

形状が複雑で、サイズ大小を問わず、生産ができます。

高温に強く割れにくくて、機械的強度に優れている磁石です。磁石の使用用途；マスクアライナ、特級パソコン...

メーカー・取り扱い企業：杭州之江磁業有限会社杭州事業所

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして装備。処理能力が高く、また、対応範囲も広いた...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

小型LED直接描画装置『マイクロライターML Family』

卓上小型！高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置

日本カンタム・デザインの『マイクロライターML Family』は、卓上小型で高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置です。 マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にし、パターン作製時に毎回必要なマスク作製の手間を省きます。フォトレジストに直接LEDで描画することが...

メーカー・取り扱い企業：日本カンタム・デザイン株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マイクロボールマウンタ　SBP551

PLPやBGA基板等に一括でフラックス印刷、ボール搭載を行うマイクロボ…

主な特徴 ■微小ボール（φ0.05ｍｍ～）に対応　 ■基板一括処理　　最大310×340mmの基板にフラックス印刷、ボール搭載が可能。 ■安定したボール搭載　　マスク搭載方式を採用しています。独自のボール搭載方式により　　ボールへのダメージを抑制しながら、マスク開口のセンターを狙って　　搭載が出来ます。 ■ローダ・アンローダ・検査リペアシステム、リフ...

メーカー・取り扱い企業：澁谷工業株式会社メカトロ統括本部

【課題解決事例】通信デバイスメーカーA社

180μmピッチのウエハバンピングに成功！スクリーン印刷による量産ライ…

いく結果が得られていませんでした。そこで、当社製印刷機「TD-4420シリーズ」に搭載の圧入型スキージユニットの特長である充填圧力制御機能を生かし、以下の内容を提案しました。「マスク開口内に100％はんだペーストが充填できる加圧条件を提案」「はんだブリッジ対策として通常の印刷機では対応できない280Pa・s程度の高粘度はんだペーストの使用を提案」他社製印刷機に...

メーカー・取り扱い企業：谷電機工業株式会社

株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

「株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ 　 ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コシブ精密長野工場

マスクレス露光装置『 ME-120F』

最大12インチウエハに対応！汎用CAD対応の直接描画なので、フォトマス…

◆直接描画でフォトリソの課題を解消 マスクレス露光装置は、DMD(Digital Micromirror Device)により、ワークに直接描画を行う装置です。フォトマスクの製作に必要とされていた莫大な費用と多くの時間が不要になること...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ピーエムティー本社・工場

半導体関連装置　製品カタログ

半導体関連装置やパワー半導体関連装置、LED関連装置を掲載！

【掲載製品】 ■半導体関連装置　・厚さ測定機　・膜厚測定機　他 ■半導体関連（収納／保管庫）　・簡易型マスクストッカー　・マスクストッカー　他 ■半導体関連（卓上タイプ）　・手動移載機　・一治具移載機　他 ■半導体関連（治具関連）　・スピンチャック　・石英フォーク　他 ■パワー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ピクリング

高精度リニヤステージ　縦型5軸ステージ

縦型露光装置用に最適な5軸ステージ【特徴】 ○XY軸に加え、Z軸、θ軸及び　チィルティング機能を搭載した多軸ステージ ○マスクのアライメントに必要な機能を装備 ○縦型に配置するため、パーティクルフリーが可能 ○省スペースでの使用が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウイング

実験・研究用露光装置

コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライ…

【主な仕様】・サイズ：Ø2～Ø8” ・マスクサイズ：□4～□9” 【対応基板】・シリコン、セラミック、サファイア、ガラス、水晶、他 ※各種カスタマイズご相談承ります。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大日本科研

Ø150mm対応露光装置

Ø2”～6”対応全自動露光装置（マスクアライナ）

【主な仕様】・サイズ：Ø2～Ø6” ・マスクサイズ：□4～□7” 【対応基板】・シリコン、セラミック、サファイア、ガラス、水晶、他 ※各種カスタマイズご相談承ります。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大日本科研

超音波式局所フラクサ『セレクタフラックス』

はんだ付け装置に簡単に組み込めるシステムです。塗布効率が良く無駄が無い…

そのままに薄膜塗布することで、フラックスのランニングコストを削減 ●微小化されたフラックスミストはスルーホール内部にも均一に付着し、はんだのスルーホールアップを向上 ●局所的に塗布できるため、マスクやパレットは不要 ●超音波によりフラックスの詰まりは無く、従来のメンテナンス頻度・工数を1/10以下に削減します。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業：アルファエレクトロニクス株式会社

大型タッチパネル用露光装置

独自光学系と照明で高精度にアライメント！！！

ロセスに最適なモードを提供します。画像で不鮮明なITOマーク、メタルの被ったマークを独自光学系と照明で、高精度にアライメントします。パネル搬送は、縦型で、非接触搬送、薄板に対応します。 マスクチェンジャー（5-10枚）を標準装備し、クリーンなパターニングに対応します ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社清和光学製作所

中型タッチパネル/OLED露光装置

独自の光学系と照明、、画像処理で、高いアライメント能力を提供！！！

は、ロボット搬送にて、ハイスループットで生産に寄与します。また、見えづらいITOマーク、メタルの被ったマークに対しても、独自の光学系と照明、、画像処理で、高いアライメント能力を提供します。 マスクとワークの温度制御にて、トータルピッチ±3-5μｍ ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社清和光学製作所

半導体製造装置　自動両面ウエハースクラバー（ブラシ洗浄装置）

【デモ機貸し出し可能！】ブラシ洗浄とファインジェット洗浄が組み込まれて…

ウエハーやマスクガラスの洗浄機で、ブラシ洗浄とファインジェット洗浄が組み込まれています。詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とするその他すべてのアプリケーション用途でのマスクやウェーハへの高速高精度パターニングが可能です。グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高周波超音波洗浄機（メガソニック）　UMCシリーズ

精密洗浄に適する高い周波数洗浄機（500kHz、1MHzHz）----…

４、投込型、振動板型振動子の製作が可能。この高周波数超音波洗浄機UMCシリーズは、半導体ウェハー、ハードディスク基板、ディスプレイ用ガラス、サファイア基板、水晶ウェハー、石英ガラス、メタルマスク等の洗浄に適する。 ...

メーカー・取り扱い企業：新科産業有限会社

スピン枚葉処理装置（エッチング・RCA・洗浄・現像等）

高品質基板を安価に得られるスピン枚葉装置

シング⇒ヒーター不要　◎APM処理時はDIWを直水過熱後、NH4OHとH2O2を其処にミキシング ■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適 ■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

【高周波】石英振動体型洗浄機　W-357-1MQG-SKC

石英振動体に超音波を重畳させてウェーハやマスクを洗浄する洗浄機。低…

■石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄　薬液を半導体ウェーハに浸し、石英ガラスを通じて超音波振動を伝播させることで、接触部の薬液が振動して、その加速度によって表面の汚れを除去します。 ■半導体ウェーハにダメージが少ない、クリーンな洗浄　薬液との接液部に石英を用いることで、パッキン等ゴム材を使用した装置と比べてゴムの溶出や摩耗がなくクリーンな洗浄を実現します。 ■振動子冷...

メーカー・取り扱い企業：本多電子株式会社産業機器事業部

【アオイ電子】ナノピンセット

マイクロ・ナノサイズの試料の把持が可能な高性能ピンセットです。真空環境…

→先端を保護した状態で着脱できるため、安全に取り扱うことができる。 ○真空対応可能 →SEM・FIB等の電子ビーム環境下における試料の把持に対応可能 →TEM観察用試料をはじめ、ウェハやマスク上の異物など、様々な試料を高倍率で確認しながら把持できる。 ○撥水コート →把持部表面に単分子撥水コートを形成し、撥水性を付与することができる。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログを...

メーカー・取り扱い企業：アオイ電子株式会社

スピン洗浄装置　フルオートスピンナー JASC-150型

現像液温度精度±1℃。φ4"φ5"φ6"を治具交換にて対応！

【特徴】 ○現像液温度精度±1℃ ○φ4"φ5"φ6"を治具交換にて対応 ○高精度のロボット採用により、高スループット化実現【仕様】 ○対象ワーク：Siウェハー、GaAs、ガラスマスク、液晶ガラス、セラミック ○ワークサイズ：φ2"～□150mm ○チャンバー径、材質：φ400mm　SUS304 ○スピンモーター：ACサーボモーター（200W） ○回転数範囲：0～500...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

スピンドライヤー（乾燥機）

【デモ機貸し出し可能！】シリコンウエハーやマスク、フィルム基板のスピン…

〜概要〜・フタにULPA又は、HEPAフィルターを内蔵し、クリーンエアーを導入することによりチャンバー内のクリーン度を飛躍的に向上。・クレドールの交換により4〜8インチウエハーの乾燥が出来ます。12インチは2キャリアタイプまで。・異常振動が発生した場合、自動的に停止します。...〜概要〜・フタにULPA又は、HEPAフィルターを内蔵し、クリーンエアーを導入することによりチャンバー内...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー）

実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせ…

現し、薬液の使用量も削減できます。ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1流体スプレー等の方式も選択可能ですし、組み合わせることも可能です。ウエハ洗浄だけでなく、フォトマスクの洗浄でも実績があります。また、DIP処理で問題となるパーティクルの再付着がありません。使用薬液は純水ですが、仕様によってはNMP等の有機溶剤も選定可能です。【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

枚葉自動マルチスピンプロセッサー

リンス、乾燥を専用のチャンバーで行うことにより、精密洗浄が可能

W×1500D×2000H　(200WCBT) 　 3000W×1500D×2000H　(300WCBT) ■ワークサイズ　ウェハー　φ4″～φ8″（300CBTはMAXφ12″) 　マスク　　 □4″～□6″（　　　同　　MAX□9″) ■オプション　ワーク反転機構 FOUPロードポート対応レチクルケース対応 SMIF　POD対応オリフラ／ノッチ合わせ機構イ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場

裏面アライメントシステム(IRAS)

ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光…

を裏面露光装置として使用する為に製作。新規で裏面露光装置のご購入を考えているユーザー様に適しています。ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。【概要】 ■主要追加部品　・マスクアライメント用CCDカメラ　・ウェハー裏面アライメント用近赤外線CCDカメラ　・画像解析用モニター＆パソコン　・裏面カメラユニットステージ　・その他 ■対応機種：MPA600Se...

メーカー・取り扱い企業：株式会社インターテックエンジニアリング東京営業所

枚葉自動スピン剥離装置

本体側面に薬液供給タンク又は廃液タンク(20L)を2本内蔵可能

W×1200D×2000H　(200WCBT) 　 2000W×1500D×2000H　(300WCBT) ■ワークサイズ　ウェハー　φ4″～φ8″（300CBTはMAXφ12″) 　マスク　　 □4″～□6″（　　　同　　MAX□9″) ■オプション　薬液供給ユニット　剥離液リサイクル機能 □その他詳細についてはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場

枚葉スピン剥離装置 WSR-200CBT/WSR-300CBT

装置寸法：1200W×1100D×2000H　(200CBT)/150…

00W×1100D×2000H　(200CBT) 　 1500W×1100D×2000H　(300CBT) ■ワークサイズ　ウェハー　φ4″～φ8″（300CBTはMAXφ12″) 　マスク　　 □4″～□6″（　　　同　　MAX□9″) ■オプション　薬液供給ユニット　剥離液リサイクル機能 □その他詳細についてはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場

マスクアライナー

セミカスタムで最適なシステム構成にできます

汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ナノテック

有機溶剤系スピン現像装置 WSD-200T

装置寸法：1700W×1300D×1400H

【特徴】 ■装置寸法　 1700W×1300D×1400H ■ワークサイズ　ウェハー　φ4″～φ8″ 　マスク　　 □4″～□6″ ■オプション　薬液供給ユニット □その他詳細についてはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場

株式会社プレテック　会社案内

高周波・超音波洗浄を事業領域として産業と生活を支えるマザーツールを提供

革新の中で、常に独自性のある先端技術開発企業というビジネスモデルを確立すべく、日々研究開発活動を推進しています。プレテックの提供する製品群は、半導体ウェハーメーカー、半導体デバイスメーカー、フォトマスクメーカー、液晶メーカー、プラスチックレンズメーカー、磁気ディスクメーカーといった製品メーカー向け洗浄装置（特注品）と、同業である洗浄装置メーカー向け洗浄機器（規格品）に大別されます。いずれも独創的...

メーカー・取り扱い企業：株式会社プレテック

洗浄装置　ファインシリーズ洗浄ユニット『ファインソニック』

各種ウェハーの基板洗浄や各種フォトマスク、磁気ディスク等の洗浄に最適

ファインシリーズ洗浄ユニット『ファインソニック』は、サブミクロン以下のパーティクルを除去し、特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させ、ワークにダメージを与えません。多彩な周波数を選択可能（750/1000/1500/2000ｋHz）で、微細な出力調整ができ、1W刻みの安定した出力調整が可能です。最大出力がアップし、洗浄エリアの拡大が可能です。また、通信機能も強化され、発振器状態の監視、外部設定...

メーカー・取り扱い企業：株式会社プレテック