• 簡易型ディスペンサー『チビット』※お試しレンタルOK 製品画像

    簡易型ディスペンサー『チビット』※お試しレンタルOK

    PR加工時の工作油の給油や設備メンテナンスの給油・給液に。ディスペンサーよ…

    つるした缶から落ちる一滴ではアバウトすぎるけど、ディスペンサーほどの精密さは必要ない... 簡易型ディスペンサー『チビット』は、そんな現場に好適な滴下液体供給装置です。 水・油・薬剤・溶剤に対応しており、たらす・飛ばす・噴霧など様々な用途で使用できます。 タンクから直接吸い上げるので、液体の小分けや加圧タンクが不要。高いコストパフォーマンス発揮します。 加工時の工作油の給油や設備メンテ...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社笠井製作所

  • 精密ディスペンサー装置 GP2【基板実装/LED後工程】 製品画像

    精密ディスペンサー装置 GP2【基板実装/LED後工程】

    高精度維持しながらの安価ディスペンサー決定版! 高速ディスペンスによ…

    ☆☆☆進和 精密ディスペンサー GP2☆☆☆ ・基板実装工程 & LED後工程   →高精度/高速処理を実現!    (X-Y繰返し精度:±30μm)   →高速ディスペンス化による設備投資台数の削減    (ジェットポンプ or スクリューポンプ搭載)   →常温吐出による塗布量安定性UP!   →歩留まりの大幅削減、生産効率大幅UP 【アプリケーション】...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社進和 メカトロシステムセンター

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター!自動ポリイミド塗布装置 製品画像

    厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター!自動ポリイミド塗布装置

    ~10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

    【特徴】 ・高価な薬液の吐出量を高精度ポンプにて制御 ・均一良く塗るためのカップ構造(密閉式、回転カップ式) ・少量で塗り広げるプロセスのノウハウ ・少量生産に対応したシリンダ対応ディスペンサーも搭載可能(オプション) ・高粘度材料で難しいEBR(エッジリンス)機能 高粘度ポリイミドをスピン塗布する装置です。高粘度対応ポンプ及び、薬液温調システムを搭載し、高粘度ポリイミドをムラ無く...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ 製品画像

    R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

    各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

    各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のR&D装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.

  • ディスペンス電動ポンプ 製品画像

    ディスペンス電動ポンプ

    薬液使用量削減の最適ツール

    低粘度・高粘度材料削減を目的とした高い再現性とシステム拡張性を備えたポンプシステムです。弊社は同製品の日本総販売代理店になっており、本ポンプの販売に伴い装置全体の技術サービスも提供しております。...半導体生産ラインで感光材塗布/現像装置で使用されるディスペンスシステム(電動ポンプ)の既存標準ポンプとの置き換えに有効です。元々装置に搭載されている同等ポンプに比べ、高い再現性と材料削減効果が期待され...

    メーカー・取り扱い企業: エヴァンリード株式会社

  • 原子層堆積装置『AFALD-8』 製品画像

    原子層堆積装置『AFALD-8』

    優れた段差被覆性と精密な膜厚制御!高品質な成膜が可能

    『AFALD-8』は、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜が できる原子層堆積装置です。 ミリ秒単位で高品質な薄膜成膜が可能なため、低ダメージで安定した成膜を 実現。 操作性に優れたソフトウェアや、自由度の高いオプション構成ができます。 【特長】 ■段差被覆性 ■高精密な膜厚制御 ■ピンホールフリー ■低ダメージ ■原料コスト削減 ※詳しくはカタロ...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 高真空蒸着装置『KW-030D』 製品画像

    高真空蒸着装置『KW-030D』

    水晶振動式膜厚モニター搭載!コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

    『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • RTP装置『AS-Master 200』 製品画像

    RTP装置『AS-Master 200』

    ターボポンプ搭載可能!低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

    『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(11...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』 製品画像

    DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

    ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャ…

    『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度:1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』 製品画像

    DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

    最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

    『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度:800℃ ■最大4...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

    小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

    OLED(有機EL), OPV(有機薄膜太陽電池), OTFT(有機薄膜太陽電池), 又, グラフェン, TMD(遷移金属ダイカルコゲナイド)などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省ス...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【デモ実施中!】小型実験用イオンビームエッチング装置 製品画像

    【デモ実施中!】小型実験用イオンビームエッチング装置

    【デモ実施中!】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

    「小型実験用イオンビームエッチング装置」は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以下での処理が可能です。 微細加工に最適です。 【特徴】 ●有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ●エンドポイントディテクター搭載可能 ●イオンビームエッチング装置、イオ...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • RFスパッタ装置『SP-3400』 製品画像

    RFスパッタ装置『SP-3400』

    逆スパッタも可能!500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

    『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社

  • 研究開発用スパッタリング装置 製品画像

    研究開発用スパッタリング装置

    コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

    少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 8インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりMEMS・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ...標準仕様 4インチカソード3元装備による多層成膜 ターボ分子ポンプ+油回転ポンプの高速排気 逆スパッタと基板加熱機構の標準装...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 製品画像

    ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE(最大4源)、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE(最大2源)を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』 製品画像

    固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

    均一性に優れた多層膜を形成できる!全自動多層膜形成装置

    AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 【動画で紹介】半導体ウェハ用ワイヤーソースラリー調合設備 製品画像

    【動画で紹介】半導体ウェハ用ワイヤーソースラリー調合設備

    人的ミス防止で生産効率UP!ワイヤソー用スラリーを自動搬送・計量・調合…

    本製品は、半導体ウェハをインゴットの状態から、ワイヤソーにより切断する際に、必要となるスラリーの製造を目的とした設備です。 2台の撹拌設備、1台の貯蔵設備、3台のコンベア、オイル搬送用のポンプで構成され、粉体搬送による発塵を防止するための集塵機も搭載しています。粉体搬送は自動で行い、モータ、ポンプ、ロードセルなどは非防爆仕様で、省力化に配慮をしています。 登録されたレシピに従い搬送、計量、調合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ワイ・エム・エス 本社営業部

  • 多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』 製品画像

    多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

    放電操作が容易!RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

    『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した 研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。 据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。 成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されており、スパッタリングカソードに 加え、アークプラズマ蒸着源などスパッタリングとの相乗効果が期待できる 成膜ソースを搭載することが可能です。 【特長】 ■据付タイプ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • 卓上型蒸着装置『Mebius』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Mebius』

    卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな 蒸着装置です。 電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 小型イオンビームエッチング装置 製品画像

    小型イオンビームエッチング装置

    イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

    小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング(IBE)装置です。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特長】 ○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング ○テーパー加工が容易 ○基板表面温度 80℃以下での処理が可能 ○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ○エンドポイントディテク...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • 卓上型蒸着装置『Meius Light』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Meius Light』

    学生向けの実験や教材作りに!卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    『Meius Light』は、一般家庭のAC100V壁コンセントから 導入が可能な卓上蒸着装置です。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」 製品画像

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

    リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』 製品画像

    OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』

    コンパクトな設計を実現!有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置

    『KVD-OLED Evo.6』は、有機EL材料の塗布材料を目的とした OPV(有機薄膜太陽電池)用蒸着装置です。 有機材料の塗布工程は接続されているグローブボックス(MBRAUN)の中で 行い、搬送機構を用いて蒸着室内に基板を搬送し、電極を蒸着させる 一貫した装置となります。 グローブボックス(MBRAUN社製Labmaster)と接続でき、 ロードロック室間は手動の搬送機構...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 8インチスパッタコーター SC-708シリーズ 製品画像

    8インチスパッタコーター SC-708シリーズ

    大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4~8インチ…

    QUICK COATER SC-708シリーズは、SEM観察または分析用大型試料のチャージアップ防止用として、また、一度に多くのサンプルの成膜処理を行ないたい場合に最適なスパッタコーターです。 【特徴】 〇サンプルサイズや数量に応じて、4、5、6、7、8と1インチ単位で選択が可能です。 〇コーティングモード/エッチングモード搭載 〇スパッタ薄膜作製はもちろん、マイクロチャネル流路形成時...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 全自動イオンコーター SC-701AT 製品画像

    全自動イオンコーター SC-701AT

    SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

    QUICK AUTO COATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。 【特徴】 ○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。 ○コーティング/エッチングモード搭載 〇デバイスの電極膜付けにも使用可能 ...【仕様】 〇ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:A...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • RTP装置『AS-One 100/150』 製品画像

    RTP装置『AS-One 100/150』

    アニール処理後急速冷却機構!Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

    『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー:最大5 ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』 製品画像

    ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

    複数材料の多層膜が成膜可能!高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

    『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリ...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • デスクトップクイックコーター「SC-701MkII」 製品画像

    デスクトップクイックコーター「SC-701MkII」

    SEM用試料の前処理用として最適!シリーズ最小のコンパクトコーターです…

    「SC-701MkII」は、シリーズ最小のコンパクトコーターです。 デバイスの電極膜付けにも使用可能で、シンプル&イージーオペレーションです。 イオンダメージを軽減する間欠スパッタ機能を標準搭載。 試料ブロックを用いて簡単にT-S間距離を変更できます。 SEM用試料の前処理用として最適です。 【特長】 ○シリーズ最小のコンパクトコーター ○低価格/小型軽量タイプ ○熱ダメージ防...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 自動CMP装置  製品画像

    自動CMP装置

    COF(摩擦係数)やパッド表面温度、研磨液の温度、装置内の室温などをモ…

    【Tribo】 ・400mm径のポリッシングプレートに対応 ・100mm/4インチのポリッシングヘッド x2軸 ・スラリーポンプ2台、酸性スラリーにも対応 ・業界標準のIn-Situダイヤモンドコンディショニング対応 ・装置に内蔵されたタッチパネルPCでコントロール 【Orbis】 ・600mm径のポリッシングプレートに対応 ・200mm/8インチのポリッシングヘッド x2軸 ・スラリーポンプ2...

    メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社

  • SC2000 イオンミリングシステム 製品画像

    SC2000 イオンミリングシステム

    高エネルギーおよび低エネルギーイオン銃搭載SEM試料前処理システム!

    ミリング技術で立証された2種類のイオン銃が搭載されています。 広範囲の試料表面処理の要求に応じるべく設計された最新の試料前処理システムです。 【特長】 ■高精度位置合わせ機構による測定領域の試料前処理 ■迅速かつ容易な試料交換用ロードロックシステム ■パラメーター設定による簡昜操作 ■オプションの冷却機構による低ダメージミリング ※詳しくはお問い合わせください。...高エネル...

    メーカー・取り扱い企業: エルミネット株式会社

  • 親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』 製品画像

    親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』

    乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…

    『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置! 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。 【特徴】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • グラフェンCVD成膜装置 製品画像

    グラフェンCVD成膜装置

    炉のスライド移動による急冷機構を搭載

    グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱/急冷が可能    オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能   オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能 ・コ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • RTP装置『AS-Premium』 製品画像

    RTP装置『AS-Premium』

    最大156mm×156mm基板対応!真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

    『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 大型機・自立型スピンコーター 製品画像

    大型機・自立型スピンコーター

    大型基板にも対応!研究、実験用にも適したアクティブの自立型スピンコータ…

    アクティブのスピンコーターは大型基板にも対応可能です。 対応基板サイズ(カップ径)が大きくなると装置サイズも大きく重くなります。卓上にのせると作業高さが使いにくくなるのもあり、自立型として製作しております。自立型はアジャスターを縮めることでキャスターが接地するので移動も楽です。 対応基板サイズ(カップ径)の小さい卓上型スピンコーター同様、インターロックセンサー付き安全カバー、基板吸着圧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アクティブ

  • NEXGENグローブボックスシステム(新時代のガス精製装置付) 製品画像

    NEXGENグローブボックスシステム(新時代のガス精製装置付)

    再生ガス・再生工程不要の新時代のガス精製装置付きグローブボックスシステ…

    ・再生ガス、再生工程不要の新時代のガス精製装置付グローブボックス。 ・酸素濃度、水分濃度1ppm以下を保持、NEXGENシステムによるオートバキ  ューム・オートパージ・全自動圧力コントロール。 ・全世界に2万台以上の導入実績、63年の歴史を誇る世界基準のグローブボ  ックスメーカーVAC社製 ...1.次世代型カートリッジ式ガス精製装置を搭載【特許技術】 2.酸素濃度・水分濃度を...

    メーカー・取り扱い企業: 山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD

  • プラズマクリーナー(大型) 製品画像

    プラズマクリーナー(大型)

    小型・低コストな卓上型プラズマ処理装置Harrick Plasma社 …

    ラボ・研究開発向けに設計。光学材料のクリーニングはもちろん、ポリマー・生体材料などの材料改質、歯科・医学材料(器具)の滅菌、マイクロ流体工学などにも対応。あらゆる材料のクリーニングと表面処理に活用されており、各分野で多くの販売実績あり。真空ポンプ、クオーツチャンバー、サンプルトレー、プラズマフローなど、オプション品も幅広くラインナップ。...■□■特長■□■ ■業界最小サイズ 「研究機関向け...

    メーカー・取り扱い企業: 三洋貿易株式会社 科学機器事業部

  • 実験用スパッタ装置 製品画像

    実験用スパッタ装置

    簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

    ● 価格500万円(税込み) ● φ3インチターゲット 1元カソード ● RF300W電源、自動マッチングボックス付 ● ガス系統:1系統(オプションにて3系統まで対応可)、   マスフローコントローラーによる調整 ● 酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ● オプションにて基板ヒーターの取付可。 ● 余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ● 800W×600L×900H...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ

  • 固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』 製品画像

    固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

    低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能!価格を抑えたプラズマ成膜装置

    『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』 製品画像

    小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

    小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

    『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 【特長】 ■シ...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 自動研磨機『MECATECH 334SPC』 製品画像

    自動研磨機『MECATECH 334SPC』

    価格は廉価にて再登場!MECATECH 334がバージョンアップした自…

    『MECATECH 334SPC』は、6本シリンダーでφ250・300mm円盤搭載可能な 自動研磨機です。 中央荷重・個別荷重と荷重方法も選択可能な高スペック機種。 旧機種をアレンジした機器となっており、お求めいただきやすい価格を 実現しました。 今まで自動研磨機の高価さに手の届かなかった方、この機会に是非 ご検討下さいませ。 【特長】 ■250、300φの研磨盤を使用...

    メーカー・取り扱い企業: 北川グレステック株式会社 本社

  • 薬液供給装置 製品画像

    薬液供給装置

    装置組込み式制御盤を搭載!薬品メーカーの原液ポリタンク又は、CCSSか…

    『薬液供給装置』は、HFの自動調合供給装置です。 各薬液の装置への供給は薬品メーカーの原液ポリタンク又は、CCSSからの 直接供給が可能。供給された薬液はポンプにて秤量タンクへ移送し、 規定の比率で、薬液と純水を自動調合します。 また、調合されたHFは供給タンクに貯蔵され、供給要求信号にて、 ユースポイントへ自動供給します。 【主な仕様】 ■本体フレーム:軽量型鋼溶接組立...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダン科学

  • スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置 製品画像

    スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

    省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!

    当製品は、当社が得意とするスパッタリング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 枚葉式露光装置 製品画像

    枚葉式露光装置

    FPD製造工程で威力を発揮するフィルム用整合付半自動露光装置

    5kWのショートアークUVランプを搭載...装置は、材料手動L/UL部、整合および露光部、付帯の真空ポンプボックスで構成されています。 ITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)パターンを画像認識し、あらかじめコーティングされた銀インクレジストを露光します。...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社

  • プラズマドライクリーナー  プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置 製品画像

    プラズマドライクリーナー  プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置

    ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー

    ・卓上型、低コスト、高性能タイプ ・実験用から本格量産まで使用可能 ・RIEモード標準(DPモード切替器はオプション) ・アルゴン・酸素の2系統のマスフローメーターを搭載 ・標準油回転ポンプ付 標準機を基にお客様のご要求に合わせて、カスタマイズもいたします。弊社では小型バッチ式から中型、大型バッチ式さらに各種自動機まで幅広くラインナップしております。チャンバー構造は石英バレル、平行平板、...

    メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社

  • 自動研磨機『メカテック234-264』 再現性の向上&操作性抜群 製品画像

    自動研磨機『メカテック234-264』 再現性の向上&操作性抜群

    「再現性」に特化した自動研磨機!メンテナンス性にも優れた1台です。

    『メカテック 234-264』は、タッチパネルですべての操作が可能な自動研磨機です。 ドレンボウル着脱可能なため、メンテナンスのしやすいデザインとなっており、詰まりを起こしにくくなっております。 【特長】 ■LEDカラータッチスクリーン搭載 ■100通りの研磨プロセスの保存が可能 ■荷重方法3種類の仕様から選択可能 ■自動・手動 切断可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...

    メーカー・取り扱い企業: 北川グレステック株式会社 本社

  • LARK 355A(355nm Qスイッチ DPSSレーザ) 製品画像

    LARK 355A(355nm Qスイッチ DPSSレーザ)

    AOQスイッチを搭載した、エンドポンプ方式の半導体励起固体レーザの3倍…

    ■共振器が筐体と一体化されているため、光学アライメントを行う必要が無く安定したレーザ発振を行うことができる ■空冷のコンパクトサイズのため、持ち運びに便利...■半導体励起Qスイッチ固体SHGレーザ(DPSS QスイッチTHGレーザ) ■>3W @40Hz ■<18nsec パルス幅 ■空冷コンパクトサイズ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトロンサイエンス

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 精密自動滴下スピンコーター『ACT-300AIIS』 製品画像

    精密自動滴下スピンコーター『ACT-300AIIS』

    ㎕レベルで制御可能な精密自動滴下! 卓上型スピンコート機ACT-300…

    『ACT-300A IIS』は、マイクロシリンジポンプを搭載したマイクロリットルレベルの精密自動滴下が可能な卓上スピンコーターです。 最大15系統の液の滴下が可能で、ご要望に応じてエアブロー、エッジリンス・バックリンス等も搭載できます。 1分間の回転数を0~6000の範囲で設定でき、その精度は±1rpm以下ととても良いです。1ステップの動作に「回転数」「加減速時間」「キープ時間」を同時...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アクティブ

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』 製品画像

    真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE(最大4源)、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE(最大2源)を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタカソード x 3:自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高粘度フォトレジスト対応!密閉式自動レジスト塗布装置(コーター) 製品画像

    高粘度フォトレジスト対応!密閉式自動レジスト塗布装置(コーター)

    高粘度フォトレジスト塗布に自信があります!10000cPのポリイミドで…

    高粘度フォトレジストやポリイミド塗布の実績が多数あります! 当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 ベローズポンプやシリンジの対応も可能です! マニュアル機~フルオート機までお客様の生産量に合わせて設計から製造まで行います。 ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■高粘度塗布でも高均一...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • プラズマクリーナー(小型) 製品画像

    プラズマクリーナー(小型)

    業界最小サイズ!小型・低コスト卓上型プラズマ処理装置

    小型・低コスト・業界最小サイズ、卓上型プラズマ処理装置です。ラボ・研究開発向けに設計。光学材料のクリーニングはもちろん、ポリマー・生体材料などの材料改質、歯科・医学材料(器具)の滅菌、マイクロ流体工学などにも対応。あらゆる材料のクリーニングと表面処理に活用されており、各分野で多くの販売実績あり。真空ポンプ、クオーツチャンバー、サンプルトレー、プラズマフローなど、オプション品も幅広くラインナップ。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 三洋貿易株式会社 科学機器事業部

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