リアルタイムで作業環境をデジタルに反映！土木作業シミュレーション

PR掘削、放土といった土砂の挙動を高い精度で再現！作業の流れ、建機の動き、…

土壌シミュレーションツール『AGX Dynamics』は、建機作業、土木施工の様々な作業を バーチャル空間で再現することを可能にする技術です。 建機作業や、掘削・放土といった土砂の挙動を高い精度で再現することが可能となっており、 作業の流れ、建機の動き、土壌の変化などを事前にシミュレーションすることができます。 作業者の人数や規模感が大きな土木作業領域において、 必要な建機数や作...

メーカー・取り扱い企業： VMC Motion Technologies株式会社

生成AI（ジェネレーティブAI）とは？活用メリットや課題を解説！

PR製造業界の生成AI活用意向は63%！現状の活用状況や活用する上での懸念…

生成AIは、まったく新しいテキストや画像のアウトプットを生み出すAIの総称です。 コンテンツやモノについて、データをもとに学習し、まるで人間が作ったかのような新しいデータを生成できることが特徴です。 生成AIを活用することで、業務効率化や新たなアイデアやコンテンツの創出など、多くのメリットが期待できます。 興味を持つ方が多い一方で、活用を検討するにあたり、「日本の製造業における活用意識の調査結...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セールスフォース・ジャパン

ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

FOURPロードポートN2パージ改造

現在のFOUPロードポートを8時間でN2パージ機能に改造できるキットを…

3種類のパージ 1. ロード時のパージ 2.　 開放時のパージ 3.　 アンロード時のパージ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリコ 東京支店

FOUPロードポート『TAS450』

ロードポートは新たなステージへ。可動部はパーティクル性能を向上させた構…

『TAS450』は、各種半導体製造装置に取り付けられ、半導体製造工程にて 使用されるFOUP（FrontOpening Unified Pod）を自動的に開閉するための 標準ロードポートです。 半導体製造装置に要求される低発塵性、高スループットについて、 最高クラスの性能を有しています。 【特長】 ■SEMI Standard E154 ■可動部はマッピン...

メーカー・取り扱い企業： TDK株式会社 テクニカルセンター

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

昭和真空は、約15年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。 ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を達成致しました。 【特徴】 ○外形：W1...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

当製品は、基礎研究から先端プロセスの開発までカバーする シンプルでコストパフォーマンスの高いスパッタリング装置です。 全手動化し低コスト化したバッチタイプと手動搬送機構を装備した 簡易ロードロックタイプの2機種をラインアップ。両機種とも上位機種の プロセス性能を維持した上で、大きなコスト低減を実現しています。 サンプルテスト・仕様対応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

基板の枚葉搬送を基本としたロードロックタイプスパッタリング装置、上位機種（マルチチャンバタイプ）のプロセスチャンバと搬送機構を共用。 高いレベルの膜質要求に対応、各種ＩＣ（ディスクリートＩＣ、カスタムＩＣ，化合物）の量産・試作...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

移動ロードロックシステム『CEX-2420』

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…

『CEX-2420』は、コンビナトリアル・スパッタ装置「CMS-6420」間、 あるいは、パスカル社製「PLD装置」間で、大気暴露なしに成膜試料を 超高真空下で移載搬送できる移動ロードロックシステムです。 L/L室と接続ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、 試料を常に超高真空下に持ちます。また、スパッタ装置用、PLD装置用の 2つの接続ポートを備え、各試料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

高速成膜ALD装置『FHR.STAR-400x300SALD』　

In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速…

が可能でIn-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応する 設計となっていますのでより精度の高いプロセスコントロールができます。 クラスター対応設計により必要に応じて搬送チャンバー、ロードロック、 その他プロセスチャンバーをインテグレーションができ、この設備の 他小口径ウェハ対応の設備も用意しておりますのでお問い合わせ下さい。 【特長】 ■10mm厚迄の3次元形状への均...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…

Ｒｕなどの貴金属合金を多元同時スパッタで小径カソードで効率的に形成。またナノ多層構造の積層膜により耐熱性と硬度に優れた膜も形成可能。 精密レンズ金型のような基板を高速に加熱できる特殊基板台と専用ロードロック機構でスループット向上を実現。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

【仕様】 ■ハード構成：ロードロック式　ロードロック室　エッチング室各１室構成 　　　　　　　※量産用　マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板：～φ８インチウェハ形状品（矩形基板対応可能） ■基板材質：Si、ガラ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

このシステムには3つのスパッタリングソースと プレクリーニングエッチャーがすべて共焦点形状に配置されており、生産性を高めるためにロードロックならびに搬送チャンバを追加することも可能です。スパッタリングソースには直径100mmのシャッターが搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソー...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置

用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置

日本電子株式会社 BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置は、研究開発や少量生産に適した蒸着装置です。 様々なオプション機器が搭載可能で、チャンバー形状やロードロック等、ご要望に合わせて制作します。 〇特長 ・蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択でき、任意に組み合わせて複数台搭載することが可能。 ・電子銃＋反射電...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置

【真空排気系仕様】 ■到達圧力 プロセスモジュール: < 3×10-5Pa トランスファー室: < 3×10-4Pa ロードロック室: < 3×10-4Pa ■真空排気系 プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/sec ドライポンプ: 600L/min トランスファー室: TMP 820L/sec ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

サーマルALD装置『Phoenix G2』

量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…

は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。 優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、 多用途に対し容易に使用可能。 また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、 適切なチャンバーサイズ(＜370mm×470mm)となっております。 【特長】 ■優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザイン ■多用途に対し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

テスタ　恒湿恒温槽対応シーク＆ＣＳＳテスタ

自社開発のVCMで高速シーク

ランプロード動作も可能な多機能型 CSS回数、ロード／アンロード回数を任意に設定可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクアルファ

スパッタ・蒸着複合装置

1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着と なっております。 【特長】 ■1...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

【仕様】 ■ハード構成：ロードロック式　ロードロック室　エッチング室各1室構成 　　　　　　　※量産用　マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板：～φ8インチウェハ形状品（矩形基板対応可能） ■対応基板：Si、石英、セラ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

機構による低温蒸着（70℃以下＝実績値） ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード＆ソフト対応（枚葉式＝CtoC化 　ロードロック化　複合プロセス化＝ロードロック化＋他プロセス室接合） ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

なくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボットの採用でりコンパクトな設置寸法を実現。 通常のウェハだけでなく。１ｍｍ以上の厚みのウェハや矩形基板など特殊基板にも対応実績。多用途対応の枚葉式エッチング・アッシング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スピンドルダイシング装置『7120/7130シリーズ』

ダイシングの問題点を解決！先進的プロセス技術により生産性の向上に貢献

』は、2"及び4"の低振動スピンドル装置で、 ご要求に対し納得の行く使い勝手と柔軟性を提供します。 ターンテーブルが高いトルクと高い精度（1ミクロン）を有しています。 X軸の動程が長く、ロード/アンロードを容易にします。 また、独特のアルゴリズムによってブレード平均消耗時間に基づき、 従来の方法の1/3までブレードの消耗率を予告し、時間当り生産量を 高めることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本技術産業株式会社

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

【主な仕様】 ■到達圧力 ・処理室：3x10-5Pa以下 ・ロードロック室：3x10-4Pa以下 ■真空排気系 ・成膜室：ターボ分子ポンプ 1000l/sec ・ロードロック室：ターボ分子ポンプ ■成膜室 ・スパッタ源：ECR 2式、マグネトロン 2式...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

円形塗布装置『RSコータ』

独自スリットダイで自由に円形塗布！Spiral Coaterに代わる新…

コータの1/3以下） ■洗浄液の使用量及び廃液量も大幅に削減でき、よりエコな生産が可能に ■異形材料への塗布、異形状の塗布が可能 システム提案も対応いたします。 プロセスフロー例： ロードポート（EFEM） → アライメント →コータ → BAKE → CP → ロードポート（EFEM) 乾燥プロセス Option：VCD（真空乾燥装置） 焼成プロセス Option：Cure ...

メーカー・取り扱い企業： 中外炉工業株式会社

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

に接触しないため 　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入はロードロック方式への発展が可能 ○完全なシールド構造により、マイクロ波の漏れ対策は万全 ○全て空冷仕様により、電力とガス供給のみでの運転が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロー...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

『SPR-014-B』 は、基板側にバイアスを印加しながら スパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式 バイアススパッタリング装置です。 ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた 良好な絶縁膜形成ができます。 【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好なステ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所

コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…

性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特長】 ■拡張性が高い ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■6種類のタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

コンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』

GaN基板の処理も可能！コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装…

0-V』は、6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応可能な コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置です。 耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、 N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。 また、自動ウェーハ載せ替え機構を装備し、C to C搬送を実現します。 【特長】 ■～6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応 ■自動ウェーハ載せ...

メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』

スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを…

超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【特長】 ■操作性が高くコンパクト ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■モー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

大判パネルダイシング装置『ATD Model 7100 XLA』

ガラス板やPCBへ応用可能！24"×18"までの大判パネルダイシング！

D Model 7100 XLA』は、24"×18"までの大判パネルダイシング装置です。 チャックはユーザ仕様、クランプあり/なしに対応するほか、 テープあり/なし処理が可能です。 ロード・アンロードが簡単。メンテナンスも容易に行うことができます。 モニターは回転式で調整可能、USBハブ付です。 【特長】 ■24"×18"までの大判パネル ■応用：ガラス板、PCB、銅付...

メーカー・取り扱い企業： 日本技術産業株式会社

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

で均一性に優れた 　エッチングが可能 ○低バイアス（-100V以下）での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での 　エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

【その他の特長】 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能 ■最大温度 ・1100℃(基板上部ランプ加熱式、4 ゾーン) ・1300℃(基板上部ランプ加熱式、8 ゾーン) ・1300℃(基板上下部ランプ加熱方式、6 ゾーン) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ラン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RP3500SA　N2パージシステムスタンドアロン

RP3500SA　N2パージシステムスタンドアロン

全てのFOUPに対応した SEMI準拠のN2パージロードポート 【特徴】 ○FOUPの種類によらず、全てのFOUPに対応 ○FOUPドアが開いた状態でドア側からガスを封入 　フロントパージ方式を採用（最大200LPM噴射） ○多量のガスを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライト製作所 本社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ウェーハ取出・収納機（WLU-01型）

3種類の動作が行える装置

φ6、8インチウェーハのカセットから取出しを行う【ロードモード】、カセットへ収納する【アンロードモード】、ロードモードとアンロードモードを交互に行う【出し入れモード】の3種類の動作が行える装置です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジャステム

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

グリッドは、従来の方式に比べ、長期に渡り 良好な均一性を得ることが出来ます。 【仕様】 ■イオンビームシステム ■プロセス温度：-40℃～+60℃ ■傾斜角：+90度～-80度 ■ロードロック　又は、CtoC ■ウエハサイズ：100mm,150mm,200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

しており、成膜前の基板のべ―クと共に幅広い用タッチパネルによる全自動操作とデータロギングを標準装備し安定した稼動を実現しています。 オプション類も豊富で基板水冷機構・高温加熱機構・同時蒸着機構・ロードロック機構など実績機構より目的に合わせて選択可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

多目的スパッタリング装置

研究開発から量産までサポート！

によるデータ管理が容易。 【各種　選択機能】 ●カソード変更（大型カソード化、4インチカソード多元化） ●高温加熱機構（800℃） ●バイアススパッタ機構 【ラインナップ】 ●ロードロック式スパッタリング装置 ●マルチチャンバスパッタリング装置 ●超高真空対応枚葉式スパッタリング装置 ●サイドスパッタリング装置 ●カルーセルタイプスパッタリング装置 ●巻取式スパッタ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店