膜厚 | イプロスものづくり

PRUVライトを使った2Dコーティング剤検査装置。独自開発AIを使った気泡…

『Sonar』は、弊社が持つ画像処理検査技術とUVライト＋RG照明を組み合わせたコンフォーマルコーティング剤検査装置です。コーティング領域の全面検査とコーティング不可領域の任意検査に加え、自社開発AI技術を使った気泡検出機能が標準装備されています。また、レーザー変位センサを使った膜厚測定（オプション）を搭載することでワーク毎のコーティング厚のバラつきを記録することが可能になります。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ジュッツジャパン

ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

膜厚モニター用水晶振動子

蒸着装置やスパッタリング装置などの真空成膜プロセスにおいて、膜厚モニターとして広く使われているQCM方式の膜厚計用の水晶振動子です。周波数は５ＭHzと６MHz、電極膜材料は金（Au）と銀（Ag）を揃えております。弊社販売品については再生もお受けいたします。 ...

メーカー・取り扱い企業：有限会社アベニューマテリアル

LED光学多層DBR膜形成用真空蒸着装置　Sapio-DBR

LED 用光学多層 DBR 膜の成膜に最適！

　φ4inch ウェハー約110枚/batch →タクト：3h/batch　以内　　　　　 →必要設置エリア：W4.6m×D6.3m×H3.2m 　※SGC-S1550i 使用時　※水晶式膜厚計の脱着の際には　　工場側天井パネルの取外し等が必要な場合がある ○優れた再現性　連続batch保証も対応 ○膜質の調整が可能　Chippingによる膜の損傷を抑制するための　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

成膜関連製品　TELEMARK 真空蒸着用コンポーネント

蒸着用電子銃など真空蒸着のことならお任せください。

VISTA株式会社は、TELEMARK製の電子銃や水晶膜厚モニターなど多彩なラインアップで取り揃えております。 TELEMARK社の電子銃は、超高真空対応型、高真空汎用型、シングルポケット、回転型、直線型、ルツボ容積4ccから1500ccまで、最大ビーム...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。新たな表面機能を生み出す用途...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

光学薄膜用スパッター装置 HELIOS

ビューラー・ライボルトオプティクスの光学用スパッター装置

sted Reactive Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安定した製膜を実現。・MF（中周波）電源を用い金属酸化膜、窒化膜を製膜。・膜厚制御はダイレクトモニターリング方式による高精度な制御が可能。・200層以上および20ミクロン厚の多層膜厚のフィルターが作成可能。・Co-Sputtering技術により中間屈折率のチューニング...

メーカー・取り扱い企業：ビューラー株式会社

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応

日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことによりハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。〇特長・ライナー大容量化。・ハイレート化・大型装置対応。・厚膜対応。赤外用途への対応も可能・レート安定化・低ダメージ・低欠陥...

メーカー・取り扱い企業：アズサイエンス株式会社松本本社

多機能型・真空蒸着装置「SEC-22C」

リフトオフ・厚膜・低温成膜対応昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

多機能型・真空蒸着装置「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。主ポンプはクライオポンプを搭載しています。操作制御系は全自動式になっています。【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

従来型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

ウェハプロセス用真空蒸着装置

膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…

ロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。【特長】 ■信頼性の高い基本...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

B電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

BS-04 series ロータリーセンサー

長時間・多量の真空蒸着またはスパッタリングのプロセスに有効

日本電子株式会社水晶振動子式膜厚コントローラ/モニターに接続して、真空蒸着時の膜厚や蒸着レートを計測/制御するための多点センサーです。真空チャンバー内長さ、センサーヘッドタイプ、水晶振動子（クリスタル）枚数を、選択して組み合わせ...

メーカー・取り扱い企業：アズサイエンス株式会社松本本社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバのメンテナンスが容易。リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル低減させます。マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

大型樹脂基板用蒸着装置

成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力

『大型樹脂基板用蒸着装置』は、自動車の外装品の大型樹脂成形品への薄膜形成を目的とした大型蒸着装置です。複数の電子銃蒸発源を装備し、Al、Cu、Niなどの金属膜を長さ1mの大型樹脂基板へ低温での高速成膜が可能。自動車部品だけでなく電子機器への電磁波シールドにも実績を持っており、大型チャンバ（φ2000）、電子銃蒸発源、大型排気系の組合せにより大量バッチ処理による高品質...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

蒸着用成膜コントローラー「TMC-13」

【PREVAC社製】6個の水晶振動子のモニターおよび制御が可能です。6…

・コンパクトはデザインを採用しており、2台分の真空計の入力が可能です。インターフェイスは、USB、RS232/485、Ethernet、Bluetoothから選択ができます。シャッターは自動・時間・膜厚用の2系統 0.6bitで、アナログ出力が標準装備されています。標準6MHzの水晶振動子に対応し、Webで使用可能なユニットを採用しています。また、この蒸着用モニターに使用可能な「水晶振動子」も...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノポート

スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

Φ2inchマグネトロンスパッタカソード x 1 ・抵抗加熱蒸着源（最大2）・有機蒸着源（最大2） ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー（特注ホルダー応相談） ◆膜厚センサー◆】・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

大型蒸着装置（ＡＡＨ型　自動車部品用）

樹脂外装品の成膜に実績豊富な大型蒸着装置　長尺樹脂成形品の成膜に最適　…

品の全面成膜に対応。高速排気と低温蒸着が特徴。短タクト処理で量産ラインに対応。成膜前のイオンボンバード処理により高い膜の密着性を実現。電子銃の複数台使用により各種金属の高速成膜に対応。水晶振動式膜厚計による制御で不連続膜も安定した全自動成膜を実現。高い安定性を備えた全自動蒸着装置。...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適蒸着・スパッタ・アニール等全て…

ンバー内成膜モジュール：・抵抗加熱蒸着源（最大4源）・有機蒸着源（最大4源）・Φ2"マグネトロンカソード（最大3基）・プラズマエッチング・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライスクロールポンプオプション） ◉ その他豊富なオプション＊その他の詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

高真空蒸着装置『RD-1230』

サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能！排気操作は全自動…

蒸着装置です。抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能です。排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動。水晶振動式膜厚計もオプションで付けることができ、卓上型タイプとしては高性能な成膜制御が可能です。【特長】 ■ロブスカイト太陽電池電極作成用小型蒸着装置 ■抵抗加熱機構を2対装備、サイリスタ制御によ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サンバック本社

ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現しています。ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、トレイ搬送にも対応。最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

高真空蒸着装置『KW-030D』

水晶振動式膜厚モニター搭載！コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

ことにより斜め蒸着ができます。【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸発源は抵抗加熱3基、オプションでEB加熱に対応 ■水晶振動式膜厚モニター搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社片桐エンジニアリング

金属蒸着装置『ESE-09』

容易に基板セットや蒸着用試料補充と交換が可能！大規模集積回路用の装置で…

す。なお、排気系はドライな真空状態を得るために、磁気浮上式広帯域ターボ分子ポンプとドライポンプの組み合わせによる排気システムです。【特長】 ■基板サイズ　6インチ ■蒸着源は抵抗加熱式 ■膜厚コントロールは水晶振動子式膜厚計を用いた制御 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本シード研究所

薄膜形成

・薄膜形成からパターニング及びメッキ加工までの一貫したプロセスで対応可能・多層膜構成の対応可能・Siウエハ、ガラス基板、樹脂フィルム基板への膜付けが可能・基板サイズは任意にて対応可能...薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、フィルム等の素材に気相成長法の...

メーカー・取り扱い企業：豊和産業株式会社

真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

【製品】蒸着膜形成装置・各種金属/有機物蒸着膜形成・物性の評価用・薄膜形成・膜厚強度(強化)・温度制御・ドーピング・材料研究評価用【製作例】・実験装置設計製作(カスタム仕様)・実験装置改造設計製作(カスタム仕様) ・不活性ガス環境装置・真空乾燥装置(加熱/冷却...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コスモ・サイエンス

リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

『リフトオフプロセス対応真空蒸着装置』は、化合物半導体やSAWデバイスなど光デバイスや高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です。蒸発源に電子銃と抵抗加熱電極を装備しており、高融電極膜や貴金属を含む厚膜の形成が可能。基板への蒸発粒子の入射角の垂直性に優れており、成膜時の基板の温度上昇を防ぐ各種機構（基板水冷機構、電子銃用反射電子トラップ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc....

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D395mmサイズで卓上型 ■お手持ちの排気系、膜厚計を取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイブリッジ東京営業所

BS series 研究開発用電子ビーム蒸着装置

用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置

【オプション例】・反射電子抑制ユニット・基板加熱・基板冷却（低温成膜）・基板回転機構・プラネタリー回転機構・膜厚コントローラー（自動成膜）・ロードロック機構 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：アズサイエンス株式会社松本本社

改善成功事例　事例2　金属蒸着セル　KMDW-Cell

◆◇◆経緯◆◇◆ 従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、 100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメンテナンスが頻繁に必要となり、綺麗な環境での使用は困難となっている。...◆◇◆対処法◆◇◆ ...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

有機EL用成膜装置

有機EL用の実験装置です。搬送系の操作は、PCより制御可能です。全自動…

設置可能・有機材料と金属材料とのコンタミ防止用水冷ジャケット標準装備。・蒸着室内で基板とマスクを真空環境下にて各々交換可能。・基板とマスク間ギャップは最少。・基板回転機構により面内の膜厚分布平坦性±5％以内。・有機蒸着セルは指向性に優れており蒸着室内の材料汚染が少ない。・各処理室は特殊表面処理を施し使用真空環境圧力までの到達が速い。・グローブボックスと接続可能である。 ...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

有機デバイス蒸着装置　真空エリプソメーター蒸着装置

真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定可能です！

96ｍｍ） ○外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート ○真空排気ポート（NW40）1ポート ○最大基板サイズ：Φ110ｍｍ ○基板加熱もしくは基板冷却機構 ○蒸発源：2源（同時2源） ○水晶膜厚計、基板シャッター付き ○高真空ポンプ：ターボポンプ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイエルエステクノロジー

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％の範囲内で膜厚分布を実現いたします。詳細はお気軽にお問合せください。 ...

メーカー・取り扱い企業：ビューラー株式会社

OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』

コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置

動の搬送機構で操作可能。排気操作は前面のタッチパネル(PLC)により操作できます。【特長】 ■排気シーケンスはPLCにて制御可能 ■金属の蒸着はボート式とルツボ式を標準搭載 ■膜厚計は3センサーを標準搭載 ■金属蒸着源はボート式とルツボ式を標準搭載 ■蒸着室はメンテナンスが容易な防着板を標準搭載詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

超高性能光学薄膜用蒸着装置「Sapio 1300/1550」

低パーティクル仕様の超高性能光学薄膜用蒸着装置です。

を実現しました。徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。【特徴】 ○高効率排気システム ○低パーティクル仕様（オプション） ○高精度膜厚制御システム ○高出力・大面積照射イオンソース詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、　又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する機構を有している ■標準で膜厚計を装備するとともに、ガス雰囲気にする事も可能 ■2元の材料を簡単に蒸着出来る ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

改善成功事例　事例1　有機蒸着セル　KOD−cell

の先端部へ配向性を高める為に蒸着ノズルを設置することにより、ルツボ容量1ccとコンパクト性に優れていることから、指向性が非常に良く、メンテナンスが容易となった。また、極低レート蒸着制御が膜厚コントローラー及び温調器の組み合わせにより可能となり、材料効率及びメンテナンス性が良く地球環境に優れた製品である。また、手軽に蒸着実験をしたい研究者の方々から、高い評価をいただいている。...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

『真空機用導入機シリーズ総合カタログ』※無料進呈中

直線・回転運動、多軸複合運動を高精度伝達。蒸着セルなど各種導入機を多数…

真空機用導入機”を収録した『総合カタログ』を進呈中です。真空装置内にX,Y,Z,θ軸の動作を与える各種導入機やシャッター機構付きにもかかわらず、ICF-70接続を実現し高分解能で膜厚制御可能な有機蒸着セルなど、多数ラインアップしています。【主な掲載内容】 ■1軸・直線運動（Z軸）　　■1軸・回転運動（φ軸） ■多軸・複合運動　　　　　■蒸着セル ■シャッター機構...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

ム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル成膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

ーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション：基板回転/昇降, 基板加熱（Max500...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル成膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

ーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

3源抵抗加熱蒸着装置

EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…

当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社