リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【解析事例】MEMS静電アクチュエータの電界解析(静電気力)

解析結果として得られた静電気力のオーダーが妥当かどうか考察！電界解析を…

櫛歯型静電アクチュエータの電界解析の事例をご紹介致します。 静電アクチュエータは対向する電極に存在する電荷の符号で静電気力が 生じますので、電界解析を適用。 「PHOTO-VOLT」では、電位分布、電界分布に加え、電極に働く静電気力を 計算することできます。 また、解析結果として得られた静電気力のオーダーが妥当かどうか考えます。 詳しくは下記の関連リンクよりご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトン

競合他社の製品情報まるわかり！【製品解析サービス】

「コンペチタの新製品情報、技術力情報が欲しい」等のご要求はございません…

当社へお任せください。優れた解析技術でお答えします。 【半導体製品】 ■シリコン半導体、化合物半導体 ■パワーデバイス、高周波デバイス、集積回路(～14nm)、 　センシングデバイス、MEMS ■各種モジュール 　(高周波モジュール、パワーモジュール、センサーモジュール) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エルテック