オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

「フォトマスク」とは？

今さら聞けない！フォトマスクとは？から、用途や製造工程をご紹介！長年の…

『フォトマスク』は、「電子デバイス（半導体）」、「ディスプレイ」、 「プリント基板」、「マイクロマシン/MEMS」などを製造するときに 使用されるツールで、パターニングの原版になるものです。 写真で例えると、「ネガフィルム」の役目に当たり、「電子回路」などを 形成する基板が「印画紙」にあたります。...

メーカー・取り扱い企業： 日本フイルコン株式会社

マスクレスアライナー『uMLA』（マイクロ・エム・エル・エー）

テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー

先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA（マイクロ・エム・エル・エー）はこれまでの卓上型直描装置よりも経済的でカスタマイズ可能な柔軟性に優れた最新式のマスクレス露光装置です。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

一括露光機

ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光…

マスクを傷つけることなく一括露光が可能なミラープロジェクション露光機には根強い需要があります。 本機は、コンパクトなフットプリントと低い保守コストで、トランジスタやパワー半導体等、MEMSの生産に長年貢献してきました。 経年劣化による照度低下や解像度・均一性の劣化にも、ミラーの再生など独自の技術でチャレンジを続けています。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 基盤...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）