オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

簡単導入！電子実験記録ノート『BIOVIA Notebook』

PR【使用開始にあたり特別な準備やトレーニングが不要！】シンプルな画面構成…

電子実験ノート 『 BIOVIA Notebook 』は簡単に導入・運用できるELN/電子実験ノートで、研究開発部門のDX化推進に好適なツールです。 実験業務において、研究開発のスピードUP、コスト削減、 組織間情報共有を実現することで研究開発でのイノベーションを促進します。 過去には数億円規模でのコストダウンや4,000ユーザの運用でも専任不要の実績がございます。 また BIOVIA Note...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

【MEMS圧力センサの校正検査工程の自動化に】 現在高需要の車載圧力センサ。ドラックの圧力コントローラPACEでエンド・ライン検査を効率化しませんか？試験を自動化することで生産コストが各段に削減できます。...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

研究開発用小型実験装置 Mini-Lab

IC・MEMSの実験に適した安価で超小型！即稼働の実験装置をご提案！

『Mini-Lab』は、当社とリソグラフィー研究開発の実績を持つ リソテックジャパン株式会社が共同で立ち上げたサービスです。 IC・MEMSの実験に適した超小型の実験装置を安価で即稼働できるよう ご提案。全工程の小型装置を取り扱っております。 大型実験装置レベルの機能を有し、コンパクトで高性能な小型装置を取り 揃え、安価・小...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アシストナビ

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【国産】真空プラズマ装置(49万)大気圧プラズマ装置(34万)

表面改質・洗浄に優れた低温電荷ダメージ無し！真空・大気圧プラズマを安価…

膜の除去　　ガラスの洗浄 ・フィルムの接着強化　　　電子部品の洗浄　　薄膜の密着強化 ・各種塗工の濡れ性UP　 など・・・　 【大学・研究機関実用例】 ・PDMSとガラスの貼り合せ　・MEMSの接着強化　・歯科医療 ・医療用チューブの洗浄　　　・細胞培養の前処理　など・・・ 【粉体の表面改質】 ・カーボンナノチューブ・炭素粉体・セラミック・シリカなど 　μ～nm粒径まで親水...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』

最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜…

【アプリケーション】 ■MRAM、GMT、TMR等エッチング ■MEMS(Au、Ru、Ta)等エッチング ■スムージング、マイクロラフネス低減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

イオンビームトリミング装置『scia Trim 200』

メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構

【アプリケーション】 ■SAW、BAWフィルター向け周波数又は膜厚制御 ■SOI、クオーツ、LT/LTや貼り合せ基板の厚さ制御 ■TFH向け段差及び膜厚制御 ■MEMS用形状補正 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

VPE-4Fは、MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層（Si）エッチングを主目的とするXeF2エッチング装置です。完全ドライプロセスであるため、ウエットプロセスで問題となるスティクション（張り付き）の発生を抑...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社