オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【超高周波350kHz対応】MEMSセンサー開発向け加振システム

半導体部品をはじめデバイス製品の開発・出荷検査に最適な加振システム　サ…

イン波、スイープ、フィールドデータ再現加振 ・低周波数／磁場／温度／音響試験機など各種試験と組み合わせ可能 ※数値はそれぞれ最大値です。装置構成、試験内容に依存します。 【用途例１　MEMSセンサー開発】 350kHzの超高周波数まで対応し、性能評価試験をはじめ固有振動数・共振周波数の探査などを行えます。 環境付加として磁場・温度・音響など各種環境試験装置とも組み合わせられ、様々...

メーカー・取り扱い企業： エフ・アイ・ティー・パシフィック株式会社

【最大5個の試験品を同時に加振】デバイス開発・出荷検査向け加振機

加振周波数100kHzまで　半導体部品をはじめデバイス製品の開発・出荷…

術や経験を活かし、デバイス開発試験や高品質管理を目的とした最先端のソリューションやサービスを提供致します。 新機種「SE-16」を加えさらに充実したデバイス試験向け加振システムです。 次世代のMEMSセンサー開発や基盤部品、実装品、チップなどの開発試験、また出荷試験としても最適な加振システムです。...

メーカー・取り扱い企業： エフ・アイ・ティー・パシフィック株式会社

振動モニタリングセンサー　２軸・３軸加速度計　多点での計測に最適

構造物等の振動解析に最適　低い加速度gの計測でモニタリングなど多くのセ…

ており世界各国でOEM用としても多くの実績があります。加速度計にはこの半導体ゲージを使用しており微小なパラメータ検出から衝撃測定まで幅広く販売しています。 □■性能■□ ・DC応答シリコンMEMS加速度計 ・計測軸：2軸or3軸 ・計測レンジ⇔感度：±2g⇔1000mV/g、±6g⇔333 ・印加電圧：5～30V ・印加電流：5mA ・作動温度領域：-40～+85℃ ・センサー...

メーカー・取り扱い企業： エフ・アイ・ティー・パシフィック株式会社

新対向ターゲットスパッタリング（NFTS）装置

超伝導薄膜応用分野やMEMS応用分野などに！低ダメージ・低温成膜で有機…

新対向ターゲット式スパッタ（New Facing Targets Sputtering：NFTS）技術は 高密度プラズマを箱型空間に拘束することにより、堆積基板へのエネルギー種 （反跳粒子、イオン、電子）の衝撃によるダメージを抑制できる原理・構造を 特長とする成膜技術です。 NFTS技術により、これまでのスパッタ技術では困難とされていた低温・低ダメージで 高品質な薄膜を形成することが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トヤマ