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54件 - メーカー・取り扱い企業
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115件 - カタログ
865件
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PR高温環境100℃まで対応可能な電源一体型！優れた放熱性とハイレベルな防…
『RLS-FLN-100シリーズ』は、100℃の高温耐性を有し、防塵、防湿、防水、 防爆機能に優れ、過酷な高温環境下でも安定的に動作する耐熱LED照明です。 電源・ドライバー等は別置きではなく全てランプと一体で、同一高温環境下で 使用可能。モジュール化した照明デザインを採用し、各モジュールの熱は お互いに影響しません。 また、ハウジングおよびヒートシンクには、放熱性と耐食性に優れ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラピュタインターナショナル
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPF20-GM
高い処理能力と安全性を両立させた大気圧プラズマ装置
FPF20-GMは一般的な大気圧プラズマの10倍以上の超高密度ラジカルを発生させることができる世界最高レベルの大気圧プラズマ装置です。 各種パラメータは最適化されており、余計な調整は不要です。 ボタン一つで簡単に世界最高レベルの大気圧プラズマをご利用...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部 新規事業部
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シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…
置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッチングにも対応可能 基板の大型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチング装置...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）
高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティ…
独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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実装部品は0402からCSP・BGA等の高密度・狭隣接まで対応可能です…
当社では実装9ラインのうち2ラインにFUJI製の7連結の実装機『NXT IIIc』を導入しております。 実装速度が向上し、より高密度な基板実装が可能になりました。 PC・スマホ・タブレットなどの、より高密度な各種基板を生産しています。 工場の見学も承っておりますので、お気軽にご相談ください。 ※詳しくはPDF資料...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ルックス電子
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水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…
従来に無い水素フリーDLC膜（膜中水素含有量１％以下）を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置） 水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べＭｏ添加の潤滑油中の摺動特性を１／１...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…
新開発プラズマ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 ３００ｍ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ウィスカのリスク低減で高密度実装に対応するリフロー錫（スズ）めっき
電子部品の小型化・高機能化に対応した高密度実装では、回路の短絡不良の原因となるウィスカ（針状金属結晶）の発生対策が問題となります。リフロー錫めっきはウィスカによるリスクを低減できます。リフロー錫めっき可能な素材仕様 材質：銅・銅合金・S...
メーカー・取り扱い企業： ハイジェント株式会社
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大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績（20…
る表面改質装置へと繋がり、2002年08月 表面処理装置が完成、さらに、コーティング・フィルム・プリント基板業界への進出を決定する契機にもなりました。 イー・スクエアは、超小型･軽量で高い信頼性と高密度プラズマ発生を有した 常圧Plasma表面処理装置 『Precise II』の開発、製造、販売後、累計1200台以上（2021年）の販売実績を有します。 【特徴】 ○新しくなったPreciseシ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能！高密度プラズ…
【表面除染の特長】 ■複雑な形状のインプラントを効率的に掃除する用の高密度プラズマ ■液体除染の欠点を補うドライプロセス ■イオンフラックス制限・低温処理によるダメージの最小化 ■有機汚染・残留を除去する高密度O*プラズマ ■金属表面の酸化層を除去する高密度H*...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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大気圧プラズマ能力確認ツール ToughPlasma FSI
色の変化でプラズマ能力を容易に可視化できるシールです
FSIはTough Plasmaの能力確認用に最適化されたツールです。 Tough Plasma は以下のような特徴を併せ持つリモート型大気圧プラズマユニットです。 ◆高密度ラジカル 名古屋大学との共同研究結果を元にした独自の方式により、高密度のラジカルを生成します。 それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部 新規事業部
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幅広い材料群を用いた溶射が可能。フッ素樹脂やセラミックなどの機能コーテ…
当社では、溶射による表面処理を行っており、金属・セラミックなど多種多様な材料を用いて加工しています。 加工によって「耐摩耗性、耐蝕性、潤滑性、高密度、自己結合性」といった特徴を付与できます。 また、溶射と各種コーティング（フッ素・セラミック）を駆使した表面処理を行っており、溶射のみでは難しい「非粘着・絶縁性・滑り性・耐薬品性」の性能を付...
メーカー・取り扱い企業： 関西ポリマー株式会社
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緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載 Ｃ…
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…
アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、 高密度プラズマを発生させることによりが生成された高密度の活性種が ワーク表面に官能基や水酸基、アミン基を付与し、 濡れ性や、塗布性能、有機物除去等の処理が可能になります。 添加ガスを変えることにより、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。
真空機器関連商品 EBEP処理装置＜FAP-EB/2D＞は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング
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Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…
『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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耐摩耗、非粘着、耐蝕性を向上させる溶射技術！様々な溶射材料・加工法から…
【材料特性】 ■Ni基 5種：耐摩耗性が向上し、高硬度材とのフレッティングに優れる。 ■ニッケルクロム：耐高温酸化性に優れ、クロム使用により高い耐蝕性を実現 ■ニッケル合金：高密度・自己結合性に優れ、母材の修復、保護に好適。 ■チタニア：摺動摩耗体制のほか、耐蝕性、潤滑性に優れます。 ■SUS431L：高い耐蝕性と熱処理による機械加工性に優れる。 ■SUS410L：機...
メーカー・取り扱い企業： 関西ポリマー株式会社
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従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置
ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない ■有機表面、内部へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカルの生成により、窒素ガス消費量の４５％削減（従来比） ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■各種材質表面へのダイレクト接着技術 ■還元処理...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…
『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ＩＢＳの特徴を維持し低コスト化に成功しました
IBSは高密度で耐久性のある誘導体薄膜を作り出すプロセスです。 1970年代に慣性航法装置、特にレーザーリングジャイロ用に開発されました。 IBSフィルムは低分散、低吸収特性を持ち、また環境に影響されにくい...
メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社
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ソニック「HVOF /高速フレーム溶射高耐食ピストンシリンダー」
HVOF コーティングは硬質クロムメッキ代替技術！ソニック社による材料…
＜HVOF コーティング概要> ■ 皮膜硬度: HV 1100 (>70 Rc) ■ 密着強度: 70Mpa以上 ■ 多孔度: 1%未満 (高密度コーティング) ■ REACH準拠 ■ 機械加工品最大寸法: 直径 203 mm ×全長 812 mm ■ 加工材質: インコネル・17-4PHステンレス・Custom465 ステンレス...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社木村洋行
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めっき技術と最新の設備で、必要な製品を必要なときにお届けいたします！
山水エレクトロニクス株式会社では、最先端のめっき技術を導入し、 高密度パターンの成膜を可能にしております。 クライアントの要求に応じて、高い信頼性でお応えいたします。 【特長】 ■高密度パターンの成膜が可能 ■高い信頼性 ※詳細についてはお問合...
メーカー・取り扱い企業： 山水エレクトロニクス株式会社
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コイル状に巻かれた素材に効率良くめっき処理！【試作対応可能！】
き：板厚0.08～2.5mm／幅8～300mm 部分めっき：板厚0.1～2.5mm／幅10～100mm ■下地の種類 銅、ニッケル 《リフロー錫めっき》 ウィスカのリスク低減で高密度実装に対応 ■リフロー錫めっき可能な素材仕様 材質：銅、銅合金、SUS 全面めっき：板厚0.8～1.2mm／幅10～300mm 部分めっき：板厚0.15～0.8mm／幅10～65...
メーカー・取り扱い企業： ハイジェント株式会社
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ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物…
８インチ対応の枚葉式プラズマアッシング装置。 高密度表面波プラズマ源装備アッシング室２室装備。枚葉式ロードロック室１室装備。マルチチャンバタイプ。 コンパクトな設置寸法でハイスループットを実現。豊富なオプション類（ＲＩＥ室・ＩＣＰ室・加熱・冷却室...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…
独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤ…
電子銃による個体シリコンの蒸着を基本としたイオンプレーティング装置。 高密度のプラズマを形成できるシンプルなイオン化機構によりシリコン上記と反応ガスとのリアクティブプロセスを実現。 基板の形状や成膜の目的に合わせて基板設置方法や治具も専用設計。 立体形状基板の全面成膜...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ハイブリッド硬質膜コーティング装置（ＤＬＣーＣＶＤ＋ＰＶＤ装置）
ＣＶＤ－ＤＬＣと硬質膜用ＰＶＤの複合型コーティング装置。スムースサーフ…
自動車用のＤＬＣ膜に実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜コーティング装置に高密度スパッタカソードＡＤＭＳ機構（アーク放電型マグネトロンスパッタリングカソード）を多元追加。トライボロジー特性に優れたＤＬＣ膜に硬質合金膜を積層。スムースな表面を持つ新硬質コーティングを実現。 従...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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目的、用途に応じて最適溶射材料(材質・フォーム)、溶射プロセスを提案し…
【ＨＶＯＦ溶射】 多量・高圧の燃料ガスと酸素を利用して超高速フレーム溶射を行う方法 ○サーメット溶射に適し、高密度・高硬度・高密着性が得られる 【プラズマ溶射】 プラズマジェットを利用し、金属・合金から高融点材料である 各種セラミックス、またセラミックスと金属あるいは合金を組合わせた ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・シイ・エス
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【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上！炭素繊維を高…
上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■反応性の高い酸素ラジカル粒子を高密度に生成するので、高速に処理でき、生産性の向上に寄与 ■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能 ■液晶ポリマー(LCP)本来の有効な電機特性を失うことなく、接...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア
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ほとんどあらゆる材質の基材に皮膜が形成でき、溶射材料の種類が豊富！
も可能 ○皮膜の成膜速度が極めて高い ○溶射熟による基材の歪みも少ない 【ラインナップ】 ○HVOF SPRAY HVOFスプレイ（高速フレーム溶射） →溶射材料を超音速で噴射させ、高密度な皮膜を形成 →超硬溶射などに最適 ○PLASMA SPRAY プラズマスプレイ （プラズマ溶射） →高硬度で粒子間の密着性が強い、滑らかな良質の皮膜を形成 →セラミック・サーメットなど高...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社中田エンジン
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小型電子部品に用いられる0402サイズのチップ部品のプリント基板実装は…
2チップに対応している実装会社が見つからないといったお声も多く聞かれます。 当社では、各種基板実装から基板組立、FA機器の開発、製造販売を行っており、実装部品は0402からCSP・BGA等の高密度・狭隣接まで対応可能です。 実装9ライン（内6ラインは自社開発基板ソリ防止システム併設） アキシャル・ラジアル工程もあります。 工場の見学も承っておりますので、お気軽にご相談ください。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ルックス電子
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切削加工×物性加工+設計＝高精度・高品質・高外観・高機能製品
当社では、長年に渡り培ってきたマシニングセンター、NC旋盤、 汎用フライス・旋盤を擁した切削加工技術で高精度、高品質、高外観の 各種製造装置用部品を造りだします。 また、熱影響が少なく、高密度・高品質で溶け込みが深く、酸化膜が 構成されない真空溶接工程「電子ビーム溶接」を組み合わせることで 難易度の高い各種製造装置用部品にも対応しております。 お客様のご要望に従い、設計から製...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社中村製作所
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大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置！装置の小型…
大気圧での安定したプラズマ処理、圧縮空気をプラズマ化しランニングコストの低減を可能にしました。装置の小型化により、ラインへの組み込みも容易です。 【特長】 ■2.45GHzマイクロ派による高密度プラズマを発生 ■素早い発火で必要な時にのみプラズマ発生を可能に ■装置の小型化・低価格化を実現 ※低温プラズマ（７０℃以下）・酸素を使った熱処理プラズマについてもご相談ください。 ※...
メーカー・取り扱い企業： 長野日本無線株式会社
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非磁性で潤滑性が必要なあなたへ、ぜひお試しください！！
磁気を嫌う機器のハイテクノロジー化に伴い、測定機器や分析機器の高密度・高性能化が進んでいます。 そのため、今まで無視していた主機能部品以外のコネクタや接点部品までも非磁性化が望まれております。 また、新興国の経済的成長に伴い、上記測定機器や分析機器の導入...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三ツ矢
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あらゆる基材に高機能を付与します！『低コスト化』・『短納期化』を実現
加工物の劣化が生じない ○プラズマ流中の温度は10,000℃で、噴射される速度はマッハ１～２に達する ○高温、高速プラズマ流により完全溶融されるため、高硬度となる ○粒子間の密着性が強く、高密度でなめらかな皮膜が形成される ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社シンコーメタリコン
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セラミック（酸化クロム、グレーアルミナ、アルミナ等）を施工
耐食・耐摩耗加工』のご案内です。 不活性ガスの電離により発生したプラズマ炎を熱源とします。超高温、高速のフレームにより、金属はもちろん、サーメット、セラミックスなどの 高融点材料においても高密度、高品質な皮膜を形成。 プラズマジェットの温度を選択できるので、材料選択の自由度が大きく、 基材と溶射皮膜の密着性が高いなどの特長があります。 セラミック（酸化クロム、グレーアルミナ...
メーカー・取り扱い企業： 光栄テクノシステム株式会社
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独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！...自動ステージを搭載したセル生産用セミオート機 最大300x600mmサイズのワークを自動で表面改質可能です 【主な特長】 ・グロー放電プラズマによるダイレクト方式 ・低ランニング費用（ガス消費量、低パワー） ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル
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知恵と熱意をもって！ワンランク上の技術力で高品質の基板実装を実現します
ルックス電子では、各種基板実装から基板組立、FA機器の開発、製造販売を 行っております。 基板実装に於いては、通信・情報、電装関連、及び医療機器等の高密度と 安全性を要求される実装を行っています。 当社は、高速はんだ印刷機をはじめ、高速ディスペンサーや 高性能表面実装機などを保有しています。 各種基板実装から基板組立サービスのことなら当...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ルックス電子
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ピンポイントでプラズマ照射が可能！LCD端子清掃や電子部品封止前洗浄の…
『AP-T』は、2.45GHzの超高密度プラズマで高速処理が可能な スポット型大気圧プラズマ装置です。 クリーンドライエアー（CDA）での処理もできるほか、 高速立上り→スイッチOn後1秒未満でプラズマが安定します。 電...
メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生！ …
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク（ガラス基板等）の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現！ マニュアルステージ搭載した簡易プラズマユニット機 各種装置へのビルドイン対応可能です...【特徴】 ○マニュアルステージ搭載 ○簡易プラズマユニット機 ○各種装置へのビルドイン対応可能 【ラインナップ】 ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル
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エキシマ光で効率よく表面洗浄、改質！
高光子エネルギー真空紫外光源のエキシマランプによって有機物洗浄、表面改質を低温で行うことができます。 フラットタイプは面自体が発光する高出力、高密度高分布モデルです。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー
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【めっき技術】ウエハ内ビア埋め込みめっき技術（TSV・TGV）
CMP研磨負担を軽減！セラミック基板、樹脂基板の貫通ビアにもめっきが可…
『ウエハ内ビア埋め込みめっき技術』は、周波数特性の向上、高密度小型化、 省電力化の目的で使用され、5G通信での用途にも検討されています。 当社では、有底ビア（ブラインドビア）および貫通ビアともにめっきでの 金属埋め込みが可能です。 また、スト...
メーカー・取り扱い企業： 清川メッキ工業株式会社
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スピーディーで均一！スパークレスでダメージフリーな大気圧プラズマシステ…
0』は、インライン製造用に設計された大気圧プラズマシステム です。 繰り返し再現性に優れ、進行波、反射波、ガス流量、ヘッド温度をリアルタイムで 監視および制御。 部品成型に使われる高密度ポリエチレン(HDPE)およびポリプロピレン(PP)部品等の 感熱材料に対して有効です。 【特長】 ■ソフトウェア制御システム ■モニタリング機能及び制御 ■システムの使用者制限とア...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日放電子 アドバンストテクニカルスタジオ
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アジア大手電子機器メーカーに実績多数！様々な分野での表面処理を提案しま…
【その他の特長（抜粋）】 ＜バッチ式デスミア装置＞ ■独自の電極構造 ・高密度プラズマ（ICP）により残渣を高効率除去 ・両面処理が可能 ■優れた均一性を実現 ・装置前後から反応ガスを出入れし、基板前後のエッチング差を抑制 ・電極部冷却機構により基板温度を制御・上昇...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク
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