従来の横型真空ポンプに比べ、省スペース化、低コスト化を実現

PR立型構造の為、従来の横型に比べ圧倒的な省スペース化。又、同じ動力であれ…

『TRVシリーズ』は、凝縮性ガスに強い真空ポンプとして独自に開発した汎用ドライ真空ポンプ（ルーツ真空ポンプ）です。 ガス流路が上部から下部へ流れるDown-Flowとなるように配置されているため、ガスと共に吸引したミストやポンプ内部で凝縮した液体は、吐出口まで流下し大気圧力下において容易に排出・回収することができます。 このためミストの流入やガスの凝縮液に対して極めて強靭なポンプです。 材質...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社宇野澤組鐵工所

【資料進呈】防爆対応・プロセス保温！レイケム工業用自己制御ヒータ

PR発熱量を自動的に増減、防爆対応も可能な自己制御ヒータ！プロセス保温で様…

『自己制御ヒータ』はケーブルの長さに関わらず、周辺温度に応じて 発熱量を自動的に増減させるので、サーモスタットを使用しなくても 異常加熱せずに、 電気熱保温を行える安全性の高いヒータです。 発熱体が連続的な並列回路構造のため、必要に応じた長さに 切断・重ね巻きが可能です。 また、防爆対応可能な為、爆発性のガスなどが存在する危険な環境でも安心して ご使用頂けます。 【特長】 ■容易な施工 ■高い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノカシワ

NEXGENグローブボックスシステム（新時代のガス精製装置付）

再生ガス・再生工程不要の新時代のガス精製装置付きグローブボックスシステ…

・再生ガス、再生工程不要の新時代のガス精製装置付グローブボックス。 ・酸素濃度、水分濃度１ppm以下を保持、NEXGENシステムによるオートバキ 　ューム・オートパージ・全自動圧力コントロール。 ・全世...

メーカー・取り扱い企業： 山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（NW25）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

なインターフェースも標準装備しています。 【特長】 ■広い測定範囲（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa） ■簡単なセットアップ ■有機ELディスプレイにより高視認性 ■16種類のガスに対応 ■フィラメント２本を標準装備（断線を防ぐ保護機能付き） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

VAC・GENESISグローブボックスシステム

洗練されたシンプルなグローブボックスは使う人を選ばない。再生ガス・再生…

・再生ガス、再生工程不要の新時代のガス精製装置付グローブボックス。 ・シンプルなユーテリティは、優れたコストパフォーマンスと扱いやすさを両 　立。 ・全世界に２万台以上の導入実績、63年の歴史を誇る世界...

メーカー・取り扱い企業： 山八物産株式会社 YAMAHACHI&CO.,LTD

研究開発用装置　成膜装置･グローブボックス

有機ELデバイス開発などに適した研究開発用装置を紹介します。

ります GBOX内部で試料基板を搬送BOXに収納・密閉することで不活性雰囲気を保ち、 基板を大気に曝す事無く蒸着装置に装着・処理しGBOXに戻すことが可能です。 KOREA KIYON製 不活性ガス循環精製式GBOXは、不活性ガスの雰囲気で 水分、酸素量が1ppm以下に保たれるように設計されています。 各種真空装置との接続により、大気にさらすことなく連続処理が可能です。 【特徴】 [研究用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

Coolteq ZERO 真空装置用冷凍機 Supcold社

HFC冷媒ガス無使用

より段階的にHFCの使用量を減らして、2029年には70%削減を義務付けられております。 Coolteq ZEROシリーズはこの削減義務も問題ありません。 Coolteq ZERO冷凍機はHFCガス無使用です。 カタログ内容ご確認願います。 お問い合わせ お待ちしております。 ...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

アルミニウムの電解研磨

アルミニウムの電解研磨

アルミ製真空装置部品に、アルマイト等の表面処理を行うと、皮膜がポ−ラスなため放出ガス量が上昇してしまいます。アルミの電解研磨処理は比較的緻密な皮膜が形成されるため、放出ガスの上昇を抑えることができます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エムテック

『事例』　高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか？ KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

真空計『コンビネーションゲージ　CC-10（NW25）』

大気圧から高真空までの広帯域の計測をこの1台で！センサー・回路部・ディ…

インピーダンスの変化を読み取ることにより、真空計測を行っています。　精度・再現性に優れており、信頼性の高い計測が可能です。 ■高真空領域のコールドカソードゲージ部は、マグネトロン放電により残留ガスをイオン化し、圧力を測定します。 コールドカソードゲージはホットカソードゲージと異なり、フィラメントを持たず、丈夫で信頼性の高い計測が行えます。 ※CC-10はRoHS指令に準拠した環境に優...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

高真空蒸着装置『RD-1230』

サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能！排気操作は全自動…

【仕様】 ■到達圧力：×10^-5Pa台 ※常温・無負荷・脱ガス時 ■排気速度：大気圧から30分で2.0×10^-4Pa ※常温・無負荷・脱ガス時 ■真空室径：φ230mm×240mmH 硬質ガラス ■蒸着機構：抵抗加熱方式 ・AC電源2極（切替式）：金...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

の メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ※詳しくはPDF資...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ECRアトムソース

低圧動作のECR型アトムソース

ECR励起プラズマ中からアトムフラックスを生成します。低圧動作特性に優れたECR方式のアトムソースです。フィラメントレス構造のこのアトムソースは窒素、水素、酸素などのガス種からのアトムフラックスの生成が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： アドキャップバキュームテクノロジー株式会社

BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

ンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

【仕様】 最大放電出力：3.2kW (160V, 20A) 放電ガス(Ar)：8～20mL/min ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

耐熱仕様：非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」

高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

しております。 ◎特徴 １．耐熱1000℃可能 ２．使用温度環境に応じた材料を使用します。 　　PTFE. ・PEEK・アルミニュウム・SUS316他・石英 　　酸性・アルカリ性・腐食ガスに考慮 ◎対象ワーク １．高温ウエハ ２．ガラスモールドレンズ・プリフォーム ３．化合物半導体ウエハ ４．ガラス基板...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

蒸着：抵抗加熱蒸着（最大2）、有機材料蒸着（最大4） ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

■小型・大流量 一般的なインラインガスフィルタのサイズで、大流量濾過が可能です。 高い粒子除去性能 ■0.003μm 以上の粒子を高い効率で除去致します。 ■優れた耐食性 フィルターメディアとサポート材は全てフッ素樹脂を採用し、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

れたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ

イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します

きなイオン電流が広範囲に得られます 4.高効率の水冷構造により動作温度が非常に低く（70～80℃）基板への熱ダメージが少なく、また熱により消耗する部品が皆無でメンテナンスフリーです 5.極微量のガスでイオンビームが得られますので、低い圧力での動作が可能 6.特殊コーティングのイオン源は高濃度酸素中でも酸化によるチャージアップが無く安定な運転が可能 7.スタート後わずか3秒で安定なビームが得...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

量 0.2MPa以上 (差圧)、44L/min、20～25℃ 　※冷却水入口の最大圧は0.4MPa以下、水質は市水相当 ○所要圧空 0.7MPa (設定圧0.5MPa)、接続口径Rc1/2 ○ガス圧力 0.05MPa (設定圧0.02MPa)、接続口径SWL1/4 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

真空装置用冷凍機SUPCOLD

シンプルな構造で低価格を実現。消費電力、設置スペース、GWPの低減にも…

40℃ ・最大負荷：2,000W～3,500W ・排気速度：100,000～220,000L/sec ・同様の装置に比べて、消費電力の削減、スタンバイ時間が 　短縮されております。 ・冷媒ガス：HFC、HCFC（規制）使用可能。 ・使用部材：米国、欧州、中国、日本製 ・組立：中国（上海） ・品質検査：日本式 ・GWP(温暖化係数)：Coolteq100K(4720)/220K(3...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

着膜形成・物性の評価用・薄膜形成・膜厚強度(強化)・温度制御 ・ドーピング・材料研究評価用 【製作例】 ・実験装置設計製作(カスタム仕様)・実験装置改造設計製作(カスタム仕様) ・不活性ガス環境装置・真空乾燥装置(加熱/冷却) ・グローブボックス対応装置(高純度雰囲気室＋真空チャンバ) ・各種精製機の設計製作 【各種ＦＡ関連装置】 ・真空室内可動装置・大気/真空/グローブボ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」

低パーティクル仕様の超高性能光学薄膜用蒸着装置です。

io 1300/1550」は、新開発のファイバー式光学モニターの採用や、安定した温度制御が可能な80点モニターガラス機構を搭載することで設計通りの特性が得られる高精度を実現しました。 徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。 【特徴】 ○高効率排気システム ○低パーティクル仕様（オプション） ○高精度膜厚制御システム ○高出力・大面積...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」など...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

ーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 　又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する機構を有している ■標準で膜厚計を装備するとともに、ガス雰囲気にする事も可能 ■2元の材料を簡単に蒸着出来る ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

真空計『コンビネーションゲージ　CC-10（ICF70）』

大気圧から高真空までの広帯域の計測をこの1台で！センサー・回路部・ディ…

インピーダンスの変化を読み取ることにより、真空計測を行っています。　精度・再現性に優れており、信頼性の高い計測が可能です。 ■高真空領域のコールドカソードゲージ部は、マグネトロン放電により残留ガスをイオン化し、圧力を測定します。 コールドカソードゲージはホットカソードゲージと異なり、フィラメントを持たず、丈夫で信頼性の高い計測が行えます。 ○CC-10はRoHS指令に準拠した環境に優...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTLシリーズ）

弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用…

真空領域まで使用可能です。 駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。 オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa・m3/sec 許容加熱温度：≦200℃ 直進力：6kgf 回転トルク：9kgf...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

真空領域まで使用可能です。 駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。 オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa・m3/sec 許容加熱温度：≦200℃ 直進力：6kgf 回転トルク：9kgf...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

大型高真空蒸着装置

精密品から海上輸送の大型構造物まで、非鉄金属加工のスペシャリスト！

から真空熱処理炉のライセンスを得て製作 ○アルミ合金製で、世界最大（チェンバー内寸：直径2,400mm×長さ3,500mm） ○従来のステンレス製に比べ、重量は約1/2 ○チェンバーからの放出ガスは極めて少ない ○チェンバー内部の輻射が小さく（SUSの1/10）なるため温度分布が均一 ○熱効率も良く、容易に高真空が得られる ○さらに大型の装置も製作可能 ●詳しくはお問い合わせ、も...

メーカー・取り扱い企業： 赤星工業株式会社

エキシマレーザパルス蒸着システム

エキシマレーザパルス蒸着システム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

PLAD-271PE PLDシステム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

PLAD-261PG PLDシステム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250E PLDシステム

PLAD-250E PLDシステム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステム

トロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社