エアベアリングターボコンプレッサーWHシリーズ　製品パンフレット

PR世界のオイルフリーコンプレッサー産業のために！想像を超えたターボ技術の…

当資料は、世界最高レベルのエネルギー効率の「エアベアリング ターボコンプレッサーWHシリーズ」を掲載しております。 スマートターボコンプレッサー「WH-iシリーズ」や防爆ターボ コンプレッサー「WH-exシリーズ」など様々なシリーズをご紹介。 また、エネルギーコスト節約や多段圧縮、優秀さの核心などの解説 も掲載しており、導入検討の際に参考にしやすい一冊となっております。 【...

メーカー・取り扱い企業： コーワ商事株式会社

IEEE802.11ax対応産業用ワイヤレスAP/クライアント

PR現場のワイヤレス通信を高速化！MoxaのIEEE802.11ax対応産…

Moxa社の新製品『AWK-1160シリーズ』は、 IEEE802.11ax(Wi-Fi6)対応の産業用ワイヤレスソリューションです。 ギガビットを超える速度、より高いデータレート、より効率的なデータ伝送を提供し、 高速かつ低レイテンシーのワイヤレスオペレーションを実現します。 既存の802.11a/b/g/n/acとの後方互換性があり、いまとこれからのワイヤレス通信を 支えます。 現在、本シリ...

メーカー・取り扱い企業： アイ・ビー・エス・ジャパン株式会社

半導体用真空ターボポンプの世界市場シェア2023

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

YH Research株式会社（本社：東京都中央区）は調査レポート「グローバル真空ターボポンプのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を10月23日に発行しました。本レポートでは、真空ターボポンプ市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉

様：AC200V 75A NFB 50/60HZ（C-500） ・Max2900℃（カーボン炉）、2400℃（メタル炉）、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産ま…

）3相 ・冷却水:8L/min,0.4Mpa ・寸法（筐体部）：1240(W) x 590(D) x 1160(H)mm ◆オプション◆ ・るつぼ内温度測定用熱電対追加 ・高真空ポンプ（ターボ分子ポンプ） ・フロントビューポート ・フルオートコントロール ・基板回転ステージ ・通信機能（温調計機能使用）、又はSECS/GEM通信...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高真空蒸着装置『RD-1230』

サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能！排気操作は全自動…

置『RD-1230』は、ぺロブスカイト太陽電池電極作成用 小型蒸着装置です。 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、 電流値の調整が可能です。 排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動。 水晶振動式膜厚計もオプションで付けることができ、卓上型タイプとしては 高性能な成膜制御が可能です。 【特長】 ■ロブスカイト太陽電池電極...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

） ・有機蒸着源（最大2） ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー（特注ホルダー 応相談） ◆膜厚センサー◆】 ・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ・基板加熱ヒーター Max500℃ ・ドライス...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

【主な仕様】 ■到達圧力 ・処理室：3x10-5Pa以下 ・ロードロック室：3x10-4Pa以下 ■真空排気系 ・成膜室：ターボ分子ポンプ 1000l/sec ・ロードロック室：ターボ分子ポンプ ■成膜室 ・スパッタ源：ECR 2式、マグネトロン 2式（オプション） ・基板ホルダ：平板状ステップ回転、基板サイズ m...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

高真空蒸着装置『KW-030D』

水晶振動式膜厚モニター搭載！コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4x DLI気化器を搭載可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x DLI気化器を搭...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

　エッチングが可能 ○低バイアス（-100V以下）での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での 　エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

ール： ・抵抗加熱蒸着源（最大4源） ・有機蒸着源（最大4源） ・Φ2"マグネトロンカソード（最大3基） ・プラズマエッチング ・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライスクロールポンプオプション） ◉ その他豊富なオプション ＊その他の詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」

ターゲットは3種類同時に装着可能！多層膜を作製することが可能です。

m ○試料選択：ステージ回転式 ○ターゲット／試料間(TS)距離：20mm、30mm、40mm ○ターゲット選択：シャッター方式 ○給電方式：単独給電切替式（電源パネル操作） ○排気系：ターボ分子ポンプ(TMP) 67L/s(N2)、油回転ポンプ(RP) 20L/min ○到達真空度：1×10⁻³Pa以下 ○真空度測定：コンビネーション型真空計（電離真空計+ピラニー真空計） ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：RV3/RV8（Edwards社）（*ドライポンプへの変更可能） ◉ Kタイプ熱電対（ヒーター制御用）付属...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

00x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LT...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

大型真空オーブン

　高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱　乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

６００ｍｍ□×６００ｍｍＨ／バッチの大量バッチ処理 炉内全面ヒーターの均一加熱 ドライポンプ＋ターボ分子ポンプの完全ドライ排気系 高真空・低真空・大気圧の各圧力下での加熱処理対応 基板と目的に合わせて排気系・ガス系・処理温度・炉内構造・治具選択可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450） ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"タッチパネル ◉連続成...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

標準仕様 ４インチカソード３元装備による多層成膜 ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプの高速排気 逆スパッタと基板加熱機構の標準装備による高い膜質の実現 １ｍ□のコンパクトな筐体に多機能を実現 上位機種の各部ユニットを搭載可能...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

【主仕様】 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LT...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ド：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

半導体製造装置の周辺機器の修理、改善サービス

高周波電源、搬送ロボットや、RFマッチングボックスなどを修理、改善、オ…

【その他の掲載内容】 ■輸送ロボットの修理 ■スリットバルブの修理 ■O3ジェネレーター修理 ■サーキュレータポンプの修理 ■マスフローコントローラの修理 ■ターボ分子ポンプの修理 ■サーキュレターポンプの修理 ■マスフローコントローラーの修理 ■ポンプの修理＆オーバーホール ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アローズエンジニアリング株式会社

横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム＆大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。 拡張機能により６インチウェハまで対応。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

有機デバイス蒸着装置　E-100J

E-100の特徴をそのままに自動排気制御の機能を省きコストを抑えてます

機デバイス研究用蒸着装置」として高い評価を頂いております。 【特徴】 ○「E-100」の機能を生かした下位モデル ○「E-100」の特徴をそのままに自動排気制御の機能を省きコストを抑えている ○ターボ排気ポンプを備えた高真空排気チャンバーに蒸発8源を放射上に配置 ○電源を増設すれば多元同時蒸着が可能 ○チャンバーの両横にはJIS150フランジを設置 ○グローブボックスへの接続や株式会社エイエル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

有機デバイス蒸着装置　真空エリプソメーター蒸着装置

真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定可能です！

40）3ポート ○真空排気ポート（NW40）1ポート ○最大基板サイズ：Φ110ｍｍ ○基板加熱もしくは基板冷却機構 ○蒸発源：2源（同時2源） ○水晶膜厚計、基板シャッター付き ○高真空ポンプ：ターボポンプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

系　拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作系：全手動 オプション機構 磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス 逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱 主ポンプ変更（ターボ分子ポンプ採用） 全自動化 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900H...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

ード） ○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式 【性能】 ○膜厚分布　トレイ内 ±1.2%　トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率　４４％（最大） ○タクト　3分／サイクル　 ※1枚目を除く...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

幅広ロールコーター『FRC-500VT』

幅600mmまで対応！フィルムにスパッタにより成膜するウェブコーター

1030×D800　前面開閉扉 ○機材送り機構 →回転速度可変用サーボモーター →巻き取り用パウダークラッチ及びレバシブルモーター →真空シール回転導入部（磁気シール式） ○排気系 →ターボ分子ポンプ：2400L/sec（N2） →ロータリーポンプ：1200L/min ○ガス導入系：マスフローコントローラー　O₂、Ar、N₂ ○操作：操作、設定はタッチパネルで行う ○装置寸法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士アールアンドディー

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

・対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚 ・膜厚分布：　±5％以内（Al成膜時、基板回転併用） ・基板加熱機構：　●ランプヒータ　常用400°C　※オプション ・排気系： 　1） ターボポンプ 　2） ロータリーポンプ 　● ドライポンプ　※オプション ・最大ガス導入量： 　1） Max.50sccm（Ar） 　2） Max.10sccm（O2） 　3） Max.10...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置

系仕様】 ■到達圧力 プロセスモジュール: < 3×10-5Pa トランスファー室: < 3×10-4Pa ロードロック室: < 3×10-4Pa ■真空排気系 プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/sec ドライポンプ: 600L/min トランスファー室: TMP 820L/sec ドライポンプ: 500L/min ロードロック室: TMP 350L/sec...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

オートマッチング仕様 ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ ■真空計：フルレンジゲージ ■ガス流量調整：アルゴン用MFC 50sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能 ■基本仕様で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

【その他の特長】 ■誤作動防止のための安全回路を搭載 ■ターボ分子ポンプによるクリーンな排気により良質な成膜が行える ■冷却水循環装置、小型コンプレッサはオプションで装備可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

【仕様】 ■排気系：ロータリーポンプ（ターボポンプ御要望の場合は別途御相談下さい） ■試料ステージサイズ：20 × 40 ■試料ステージ回転機構：ステッピングモーター（回転速度可変可能） ■真空計：ピラニー真空計 ■レーザー入射装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

卓上型蒸着装置『Mebius』

卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した 　圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装置もご用意しております。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ＜真空成膜装置＞ ■装置の拡張性を考慮 ■経済性なシステムとなるよう...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

半導体製造装置部品

消耗部品から修理に渡り、お客様のコストダウンに貢献できるご提案、ご提供…

【その他取扱製品】 ■光学・検査機器 ・顕微鏡、測定器 ・検査解析機器 ・その他 ■オリジナル製品 ■サービス業務 ・レーザー(LASER) ・ターボポンプ(Turbopump) ・各種老朽化対策 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ポシブル

移動ロードロックシステム『CEX-2420』

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…

「CMS-6420」間、 あるいは、パスカル社製「PLD装置」間で、大気暴露なしに成膜試料を 超高真空下で移載搬送できる移動ロードロックシステムです。 L/L室と接続ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、 試料を常に超高真空下に持ちます。また、スパッタ装置用、PLD装置用の 2つの接続ポートを備え、各試料ホルダーへの試料の移載が可能。 無停電電源でバックアップされ、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

卓上型蒸着装置『Meius Light』

学生向けの実験や教材作りに！卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

ブチャンバを搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合わせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

【仕様】 ■真空排気：ターボポンプ ■ヒーター：SiC　MAX1200℃ ■水冷：外周蛇管　上フランジジャケット ■外寸：φ360 x 500H ■内面処理：電解研磨 ■ガスケット：金メッキ銅ガスケット ■チャン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

電子ビーム蒸着装置

ヤシマの電子ビーム蒸着装置はすべてカスタムオーダー。ムダなく、将来の拡…

写真の基本仕様 4元電子ビーム蒸着装置 電源　3KW 排気系　ターボ分子ポンプ＋ロータリポンプ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

■最大Φ8”ウエハ対応 ■放電形式に誘導結合プラズマを採用 ■真空カセット室を備えプロセス再現性や安定性に優れる ■ウエハとプラズマ間距離を最適化し、良好な面内均一性を確保 ■TMP(ターボ分子ポンプ)や高周波電源をユニット化し、交換が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

特長】 ■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ) ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

はんだ吸取器SMDリワークツール　デソルダー

技術者（あなた）が選ぶ未来派デソルダー！

【特徴】 ○強力ハイパワー80W ○Pbフリー対応　Response to Pb free solder ○ヒーターターボ機能　Heater turbo ○ESD対策 ○デジタルタイプ　DIGITAL TYPE ○温度管理の徹底に…TOP-450　For thermo control ●その他詳細について...

メーカー・取り扱い企業： テクノデザイン工業株式会社

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで…

）3相 ・冷却水:8L/min,0.4Mpa ・寸法（筐体部）：1240(W) x 535(D) x 1100(H)mm ◆オプション◆ ・るつぼ内温度測定用熱電対追加 ・高真空ポンプ（ターボ分子ポンプ） ・フロントビューポート ・フルオートコントロール ・基板回転ステージ ・通信機能（温調計機能使用）、又はSECS/GEM通信...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクトコーター　SVC-700TMSG/Adexcel

小型成膜装置！ターゲットは3種類同時に装着可能です。

m ○試料選択：ステージ回転式 ○ターゲット／試料間(TS)距離：20mm、30mm、40mm ○ターゲット選択：シャッター方式 ○給電方式：単独給電切替式（電源パネル操作） ○排気系：ターボ分子ポンプ(TMP) 67L/s(N2)、油回転ポンプ(RP) 20L/min ○到達真空度：1×10⁻³Pa以下 ○真空度測定：コンビネーション型真空計（電離真空計+ピラニー真空計） ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：RV3/RV8（Edwards社）（*ドライポンプへの変更可能） ◉ Kタイプ熱電対（ヒーター制御用）付属...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. L...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

00x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTE...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"タッチパネル ◉連続成...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ド：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. L...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社