薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

包装・パッケージ印刷の品質と効率を改善する解決策

PR初心者でも扱いやすい設計で包装・パッケージ印刷の品質と効率を改善。印版…

テサテープではパッケージ印刷用粘着テープにおいて、市場最大級のラインナップをご提供しており、当社の専門家がお客様の印刷要件に合わせて、ニーズに合致した製品をご提案。 「初心者でも扱いやすい」製品設計のため、工程の簡略化に貢献し、 安心して使用いただけるようにトレーニングも実施しています。 【製品例】 ・印版の取りつけ・取り外しを簡素化する印版固定用テープ tesa(R) Softprintシリ...

メーカー・取り扱い企業： テサテープ株式会社

高耐久性ドライ真空ポンプ　SDEシリーズ

高耐久性ドライ真空ポンプ　SDEシリーズ

耐久性と省エネを実現し、ランニングコストを低減 あらゆるプロセスに対応する高耐久性ドライ真空ポンプ 【特徴】 ○独自のスクリュー圧縮技術により 　ハードなプロセスでの安定稼動を実現 ○ポンプ構造材は耐食材料を使用。腐食性ガスの排気にも対応 ○ス...

メーカー・取り扱い企業： 樫山工業株式会社

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング

PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を示します。また超硬合金...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

イレイザーディスク（eRaser Disk）

ステージ上のパーティクルをインラインクリーニング　ウェハ型ステージクリ…

　半導体製造装置内、処理ステージとなるピンチャックや静電チャック上にパーティクルが存在する場合、プロセスエラーや装置停止の原因となります。一般的にはダミーウェハーを使用したインラインクリーニング（ダミーラン）によるパーティクルの除去がおこなわれていますが、ダミーランでも除去できないパーティクルは、装...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブテクノロジー

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ペクト比サンプル（最大1：2500） 〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WT...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

全自動RTP（高速熱処理）装置

Premtek　RTP-1200A（SEC）（SEF）

4～8インチに対応した、シングルチャンバ全自動RTP装置です。搬送方式はオープンカセット・SMIFどちらかの選択で、カセットステーションは2台になります。 ウェハをサセプタに格納してプロセス処理をするため、反り、厚さ、透過率等のウェハの特性に関わらず、抜群のRc・温度均一性を実現します。 熱源はハロゲンランプで、上下両面配列です。 温度測定範囲は20℃～1250℃となります。熱電対と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

ブルー半導体レーザ『LDMblue/LDFblueシリーズ』

高反射材料の加工に好適！非常にスムーズで堅牢かつスパッタの無い溶接プロ…

『LDMblue/LDFblueシリーズ』は、様々な方法で銅・金及びそれらの 合金への加工プロセスに革命をもたらす高出力ブルー半導体レーザです。 吸収率が数倍以上となる為、投入強度を大幅に下げ、且つ大きなスポット サイズでのレーザ加工が可能。 また新製品の「LDFblueシリーズ...

メーカー・取り扱い企業： レーザーライン株式会社

高速熱処理装置(RTP/RTA) AccuThermoシリーズ

高速熱処理装置（RTP/RTA装置）　AccuThermo シリーズ

ータまたは熱電対温度センサーによる 　クローズドループ温度コントロール ○温度制御範囲+100℃ 〜 +1,250℃ ○高速加熱100℃/sec，高速冷却100℃/sec ○高いウェハ間プロセス再現性 ○特定のプロセス条件に対応した温度−時間プロファイル ○省スペースかつ、高いエネルギー効率 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

【集積/コンパクト化　マニホールドバルブ】 【薬液/純水配管用】

普通のバルブメーカーではありません！フィルターやセンサーなどを組合せた…

るゲミュー社オリジナルのカスタマイズ集積バルブを使用することで、 「配管内デッドスペースの削減」「複雑な配管を簡素化」「継手数削減による漏れリスクの最小化」「製造組立工数の削減」が期待でき、製造プロセスの生産性アップに大幅に貢献できます。 半導体/化学/医薬業界など高純度薬液や純水を使用する業界で長年の実績がございます。 【ゲミュー社カスタマイズバルブの特徴】 ■　フィルター、流量...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

【技術資料】レーザーアシスト ダイボンディング

レーザーアシスト ダイボンディングに関する情報を詳しく掲載

ファインテックのレーザーアシストダイボンディング技術は、プロセス速度、精度、局所的な加熱を正確に制御することが求められる、チップ・サブストレート（C2S）およびチップ・ウェーハ（C2W）アプリケーションに適しています。特に短時間での温度サイクルは、表面酸化のリ...

メーカー・取り扱い企業： ファインテック日本株式会社

洗浄装置｜ウェハーカセット・キャリア洗浄装置「 TCC-803」

ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、…

カセット洗浄装置「モデルTCC-803」は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした少量多品種生産用途のコンパクトな洗浄装置です。 ■特長： ・精密洗浄：ワークに上下、左右回転動作機能を持たせ隅々...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

石英ガラス製品　半導体製造装置用製品

200～400工程…複雑な半導体製造のプロセスを支える石英ガラス製品

【特徴】 ○透明で、高耐熱性、高耐酸性、抜群の機械強度を特性に持つ石英ガラス製品は、 　半導体製造プロセスに欠かせません。 ○テクノクオーツ社の製品は、半導体製造の前工程加工装置に多数採用されています。 ○成膜用各製品を始め、プロセス周辺機器である各種ヒーター、分析装置等あらゆる工程で 　テクノ...

メーカー・取り扱い企業： テクノクオーツ株式会社

隔膜式真空計（バラトロン真空計）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

150℃/200℃対応！　バイオ医薬品製造、半導体製造プロセスに最適なバラトロン真空計 バラトロン631Bは、高温制御型真空計を10年以上にわたり供給してきたMKSの最新コンパクトモデルです。 センサ内部を高温に保持し、プロセス副生成物のセン...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。 ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中

半導体材料メーカー様　必見！固体材料供給における高温化の課題への提案の…

250℃の供給プロセスでオールメタルバルブを使用しているが、耐久回数に不満がある。 200℃の供給プロセスでシート交換できないバルブを使用しているため、バルブを交換しなければならず、ランニングコストがかさんでしまう。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

高精度ダイボンダ／フリップチップボンダ　FDB210 /211

光デバイス量産に最適化された高精度ダイボンダっです。更に高精度のFDB…

ｍ～） ■±2μｍ （3σ）　の高精度実装が可能 　　高剛性フレームとフルクローズド軸制御による高精度位置決めと 　　自動キャリブレーション機能により安定した実装精度を実現します。 ■各種プロセスに対応 　　共晶接合、樹脂接合などに幅広く対応、実装後のモニタリング機能 　　も装備しており、プロセスコントロールも容易に行えます。 オプション ■超音波ヘッド ■樹脂転写機構 ■マル...

メーカー・取り扱い企業： 澁谷工業株式会社 メカトロ統括本部

Siconnex 会社案内

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に…

当社は、半導体チップ製造プロセス装置の製造メーカーです。 スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」や タンクシステムによるケミカル循環方式を採用した「BATCHSPRAY So...

メーカー・取り扱い企業： Siconnex Japan合同会社

【技術資料】ウェハーへの均一なテープ貼り付けのコツ

「ダイシング工程におけるテープ貼り付けプロセス」についてご紹介

『テープマウントハンドブック』は、半導体製造装置、洗浄装置、後工程組立装置の 開発・販売を行っているテクノビジョンの技術資料です。 当資料は、「ダイシング工程におけるテープ貼り付けプロセス」について 概要をはじめ、問題点への解決策や装置内容などを掲載しています。 【掲載内容（一部）】 ■概要 ■テープの貼り付け ■手作業による貼り付けの場合 ■既にテープマウンターを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

フレキシブル シンタリングシステム『SIN200+』

次世代パワー半導体モジュールのシンタリング（焼結）接合試作＆量産装置

のR&D試作評価から量産までの用途に対応できます。特に、SiCパワー半導体に最適です。 真空チャンバー内での加熱、シンタリング（加圧）、冷却の全工程で、サブストレート温度、雰囲気圧力および、プロセスガスを、リアルタイムで正確に制御することができ、併せてギ酸ガスによる還元も実行可能です。従来の大気圧下での接合に比べて、圧力、加圧、ガス注入を適時変化させながらのプロセスは、より均一で高い信頼性を...

メーカー・取り扱い企業： ピンク・ジャパン株式会社

卓上型ＵＶ照射装置　MUV

試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置

による処理を併用することにより 　高いクリーニング効果を得られる ○基板（試料）セット後の処理は自動運転が可能です ○卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエ 　ハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適 ○ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理 　的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られる ○有機汚染物質はガス化して排気される為 　有機汚染物質の再付着が起こ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

第17回"超"モノづくり部品大賞「機械・ロボット部品賞」を受賞！

17年連続受賞！半導体製造プロセス用に新しく開発したダイヤフラムバルブ…

象に選出している」賞です。 2020年 第17回の"超"モノづくり部品大賞では、「高精度流量バルブ」が 「機械・ロボット部品賞」を受賞いたしました。 「高精度流量バルブ」は半導体製造プロセス用に当社が新しく開発した ダイヤフラムバルブで、設置面積の大幅カットを実現できます。 製品詳細は随時HPで公開いたします。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジキン(Fujikin Incorporated) 新本社

ウエハー自動洗浄装置　枚葉式自動洗浄装置　スプレータイプ

【デモ機貸し出し可能！】各種プロセスに合わせた洗浄方法で提供致します（…

枚葉式自動洗浄装置は、枚葉式でスプレータイプのクロスコンタミネーションに対応した洗浄装置です。 各種プロセスに合わせた洗浄方法で提供致します（フープ対応可）。 詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ガラス基板加熱・冷却装置

ガラス基板加熱・冷却装置

■ガラス基板の加熱・冷却における製造プロセスを確立するために最適化された装置です ■ホットプレート部・クールプレート部には、長年にわたり培ってきた、八光電機製作所の均熱技術を用いています ■クリーンルームでの使用を考慮した構...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社八光電機

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置

【真空排気系仕様】 ■到達圧力 プロセスモジュール: < 3×10-5Pa トランスファー室: < 3×10-4Pa ロードロック室: < 3×10-4Pa ■真空排気系 プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/se...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

耐蝕・耐熱ベローズバルブ

耐蝕・耐熱ベローズバルブ

■Hバルブはベローズタイプで、接続部は全てPTFE製であり、耐薬品性、耐久性に優れ、医薬、半導体プロセスに適しています。 ■バイアス圧力を加えると、高圧仕様で使用できます。流体圧力が０．２５Mpa以上の場合は、バイアス圧をかけてください。 ■ディスク部は、ネジ込み・キャップ構造で簡単に交換が...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハルナ

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-9000シリーズ』

低温プロセス　高屈折率制御　高速反応性成膜　緻密・平坦膜

を最大３基接続可能な 　本格的マルチチャンバ方式の C to C枚葉式全自動システム ■3基のECRプラズマによる同時成膜可能で高い生産性を実現 ■レシピによる搬送フロー､成膜チャンバ､成膜プロセスの設定が可能で､ 　任意の材料の多層膜を全自動で成膜可能 ■基板傾斜回転と低圧成膜により、優れた均一性を実現 ■装置内分光システム（オプション）で膜厚・屈折率分散等の 　測定が可能 ■固...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに！シリカコート

金属に高純度シリカガラスをコーティング！酸化が抑えられ耐食性が向上！金…

ガラスの優れた耐食性が得られます。 また、高温での金属の酸化も防ぐことが可能。 金属表面が合成石英並みのSiO2になることにより、メタルコンタミの問題を解決できます。 先進の半導体製造プロセスでは、微量の金属汚染が製品品質や歩留まりに大きく影響するため、チャンバー、チャンバー回りパーツ、フランジ類などへコーティングすることでメンテナンスサイクルが大きく改善します。 【概要】 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コンタミネーション・コントロール・サービス

サーマルALD装置『Phoenix G2』

量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…

『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。 優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、 多用途に対し容易に使用可能。 また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、 適切なチャンバーサイズ(＜370mm×4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

Revolution セミオートウェットプロセッサー

省スペースなマルチステップ ウェットプロセッサー

RENAのマルチステップウェットプロセッサー、Revolutionは回転式ロボット設計と精密工学を採用し、 プロセスコントロールの操作性をアップさせました。 省スペースでありながら、強力かつ柔軟性の高い設計となっております。 Advancerシリーズは、モジュール式で設置が容易なロボット搬送の半自動ウェットプロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

水量コントローラー「FCV」

流量センサとバルブの機能を一体化させ、冷却水等の水量をマイコンにより自…

流量/設定値/制御状態を確認できる。 ■ 流量に対する警報設定が可能。 ■ 全閉入力により、バルブを全閉することが可能。 ■ ユーザー機器との接続に便利な各種レベルの入出力信号の供給が可能。プロセス制御に応用できる。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リガルジョイント

真空ガス四重極分析計

遠隔インターネット管理を実現、真空ガス分析管理装置

リアルケーブルやLAN（イーサネット）で行っていた距離制限のあるRGA管理制御が、ネット環境のある所であれば、世界中からアクセスでき、距離を越えて制御が行えます。 使い易さの向上のみならず、プロセスモニタリングやe-Diagnostics（診断）に新しい可能性を切り開きます。 【仕様】 ◇マスレンジ：　1-100 / 1-200amu ◇分解能　　：　≦10％valley（マスレン...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社

熱はく離シート 「リバアルファ」

加熱することで用意にはく離が可能になる粘着シート。しっかり固定しても熱…

電子部品の各種製造工程で自動化・省人化に大きく貢献しています。 ■熱はく離とは 各種部品やデバイスの加工時には強固に接着し、加熱処理後は接着力がなくなり自然にはく離できることが望まれるプロセスをターゲットとして開発されました。常温では通常の粘着シートと同じように接着。はがしたい時は、加熱するだけで粘着剤層が発泡して接着面積の低下により粘着力が低下し、自然はく離が可能となります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日東エルマテリアル株式会社

RFプラズマ源　ERFS-500

RFプラズマ源　ERFS-500

無電極放電により 金属コンタミの少ないプロセスが可能なRFプラズマ源 【特徴】 ○光学窓付きにより放電が目視確認できる ○石英製窓により高精度のプラズマ分光等が可能 ○自動マッチング機構により 　操作が簡単かつ長時間安定な動作...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

セル生産対応・超音波対応フリップチップボンダー

セル生産対応。多品種生産用途からプロセス・材料開発まで対応可能！

上型フリップチップボンダーです。 ●高精度で低価格化を実現！ 　弊社の基板自動搬送システムにより量産用フルオートシステムへアップグレード可能。 ●セル生産に対応した多品種生産用途からプロセス・材料開発用途まで幅広く対応可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル

後工程の半導体製造装置に「本当に適した部品」を使用できてますか？

「チップの引っ掛けキズやひび割れ」「作業時にチップの持ち帰り問題」など…

) ■当社コレットを導入するマシン(メーカーと型番など) ■エラー検出の方式(真空判定、光学式判定など) ■使用環境について、温度など(耐熱性を考慮する必要性など) ■当社製品の用途、使用プロセスについて(ダイアタッチ、トレーやパッケージへの移送など) ■現在の使用中のコレット(材質、メーカー、サイズ、型番など) ■今回当社商品を検討するに至った経緯 ※詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社オルテコーポレーション 本社

EFEM（Equipment Front End Module）

EFEM（Equipment Front End Module）

t Front End Module）です。 ウエハサイズは、200/300mm（8/12インチ）に対応しています。 スループット：　150wph OCR / 450wph transfer（プロセス除く）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー

原子層堆積（ALD）デモ成膜/導入サポート

原子層堆積（ALD）プロセス装置の老舗、PICOSUNによるコンサルテ…

・アプリケーションに応じた豊富なプロセス事例 ・カスタマイズ工程の開発検討 ・デモサービスのご提案 ・その他コンサルティングサービス...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

加圧脱泡装置（オートクレーブ）

液晶ディスプレイの第7世代以降の大型パネル対応

加圧・加熱により粘着シート等の粘着剤に混入した気泡を除去し、粘着強度を短時間に増大させる装置です。 当社独自の技術により均一な温度分布が得られ、プロセス時間も短縮されます。 液晶ディスプレイの第7世代以降の大型パネル対応のインライン枚葉式のオートクレーブ装置もご用意しております。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協真エンジニアリング 本社

高精度絶対圧真空計

高精度絶対圧真空計

MKSの製品は、半導体・液晶パネルを始めとする、先進技術を用いて製造される様々な製品の製造プロセスで活躍しています。 特に現在のハイテク電子製品に使われている半導体デバイスの製造に必要とされるプロセスを「Control/Analyze/Energize/Isolate（制御/分析/電源供...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社

超音波フリップチップボンダー

超音波フリップチップボンダー

超音波（横振動）接合方式による金バンプ接合用途の小型卓上型フリップチップボンダー。 セル生産に対応した多品種生産用途からプロセス・材料開発用途まで幅広く対応可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェル

ヒューズテクノネット　透明導電膜加湿ユニット

H2Ｏを加温気化し、マスフローコントローラーで流量制御し、エッチング装…

加湿タンク内でＮ2ガスをバブリング、マスフローコントローラーで安定制御、温調器でプロセスラインベーキング制御、各炉へ安定供給します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒューズテクノネット

パイロリティックボロンナイトライド（PBN）

高純度、高熱伝導、軽量で靭性があり、高い耐熱衝撃性を発揮する高温セラミ…

■高熱伝導性（ヒータとして熱均一性を向上） ■高温下で引張強度が増加（>1000℃でも安定して使用可能） ■耐熱衝撃性（過激なヒートサイクル環境下でも使用可能） ■わずかなアウトガス（高真空プロセスで実績） ■異方性がもたらす電気的、機械的、熱的な利点 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

Ion Beam Delayering装置/半導体物理解析

半導体故障解析 歩留まり解析 リバースエンジニアリング マイクロ…

理アプリケーションにはビームベースの技術が出現しています。Ion Beam Delayering（イオンビームディレイヤイング）では、大面積の試料作製が可能であり、正確かつ制御された物理解析の処理プロセスを実現することができます。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

半導体モールド金型用セルテスXコーティング

先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。

半導体モールド金型用セルテスXコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより成膜された２～５μｍの窒化クロム被膜（CrxNy）はビッカース硬さ1800以上で、シリカ粒子によるアブレシブ摩耗に対してすぐれた耐摩耗性を示します。また鋼母材では、放電加工面上の被膜の脱膜再...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

高温対応バルブ　SCVサブマージブルバルブ『TD-Sシリーズ』

高温環境(最高200℃)で多種多用なガスに使用可能な集積化ガスシステム…

ガスシステム対応のダイヤフラムバルブです。 バルブ全体を最高200℃までの高温環境で使用できることにより 効率の良いヒーティングが可能。 流量の再現性が求められる原子層堆積（ALD）プロセスのプリカーサ （前駆体）供給に適しています。 【特長】 ■高温環境に対応 ■安定したCv値 ■PFAシートの採用 ■多種多用なガスに使用可能 ■高耐久 ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

エポキシ樹脂でできたディスペンスノズルとは

エポキシ塗布に悩まない！最適なデザインを設計。装置に付随している純正品…

- テーリング、ブリッジング、ボイド等不安定なエポキシ塗布量などの問題解決に最適なデザインを設計。 - シングル/マルチノズルで提案可能で、使用するプロセス、アプリケーション、または塗布パターンに応じて選択可能。 ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社オルテコーポレーション 本社