- 製品・サービス
151件 - メーカー・取り扱い企業
企業
5936件 - カタログ
67754件
-
-
-
窒化アルミ製セラミックヒータ『Hi-Watty Light』
PR最高500℃まで高速昇温 □5mm～□50mmのサイズをラインアップ。…
ワッティーが提供する『Hi-Watty Light』は、純アルミに近い熱伝導率を持つ 窒化アルミ製の小型ヒータです。 素材が持つ高い熱伝導性と独自のヒータパターン設計による ヒータ内に空気が残らない構造で、小型ながら高い発熱量と均一な温度特性を実現。 耐衝撃性に優れ、容器・金属・気体などの加熱用途に使用できます。 □5mm～□50mmの7サイズ、15種類をラインアップし、低コスト・短...
メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社
-
-
-
-
-
スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能
高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード！
態の変化が起こりにくく、安定した成膜とターゲット交換のためのコスト低減を実現しています。 【特長】 ■Shaped Magnet高効率テクノロジーカソード: 高い成膜効率と安定性を実現 ■継続使用可能なターゲット: お手持ちのターゲットを再利用可能で、コスト減 ■安定した成膜とコストダウンの両立: エロージョンによるスパッタ状態の変化が少なく、ターゲット交換のコストを低減 ■既存各社のスパッタ装...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…
の流量計測、品質管理に】 ■圧力コントローラPACE：モジュール式で高精度且つ、幅広い圧力範囲に対応 ■PACE1000圧力インジケータ：最大３つの圧力を同時表示、最大5チャンネルのセンサが入力可能。シングルチャンネルの圧力計に比べて検査工程のコストを大幅に削減できます。 【半導体製造装置の流体制御に必要な圧力センサ】 詳しくはこの下のリンクをクリック！ ※イプロスにご登録されて...
メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社 ＆ GEエナジー・ジャパン株式会社
-
-
-
-
-
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-ス...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…
装置基本仕様 ■シリンダー型カソードとターゲットの採用 ▶ターゲット寿命は長く、その寿命末期まで成膜レートの変動は極小 ■最大４基のカソードを搭載可能 ▶各種ターゲットの組み合わせによる、幅広い光学特性フィルターの生産が可能 ■リアクティブ成膜用イオンソースを搭載 ▶成膜時のイオン照射による基板上での酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 ■大型基板へ...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能
当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
-
半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…
ジケータ PACE 1000 生産ラインの圧力計測もこれ一台。最大３つ圧力値を同時表示！ ゲージ圧と大気圧を同時表示できる高精度の圧力インジケータです。外部センサーポートは標準２つ、最大３つ接続可能。画面上で再生可能なデータロギング（標準）。複数の圧力モニタが可能なので検査工程のコストダウンが可能です！ ○100 MPaまでの圧力レンジ ○0.005% FSまでの各種精度 ○0.01...
メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社 ＆ GEエナジー・ジャパン株式会社
-
-
-
-
-
コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できま...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
-
-
-
-
半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…
に使用できる高精度の圧力センサ、大気圧計など。 ■ADROITシリーズ: 今年登場の新製品。デジタル温度補正機能を搭載したアナログ圧力センサ。温度変化の激しい環境でも精度の高い圧力センシングが可能です。VCR継手に対応。 ■UNIK5000: 汎用性の高いアナログ圧力センサ。VCR継手に対応。 ■TERPSシリーズ: ドラックトップクラスのシリコン・ピエゾ方式を採用した高性能圧力センサ。...
メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社 ＆ GEエナジー・ジャパン株式会社
-
-
-
-
-
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
ありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
シブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…
薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置 後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。 Ｌｉの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応可能（有償） 材料（ターゲット）ソフト（成膜テスト）ハ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…
『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社
-
-
-
-
コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…
HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、 コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。 ◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能 ◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応 ◆複数ソースによる同時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水冷に対応 ◆膜厚計を搭載可能 ◆設置面積60cm x 60cmのコンパ...
メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社
-
-
-
-
FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…
このシステムには3つのスパッタリングソースと プレクリーニングエッチャーがすべて共焦点形状に配置されており、生産性を高めるためにロードロックならびに搬送チャンバを追加することも可能です。スパッタリングソースには直径100mmのシャッターが搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプ...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…
実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max50...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！
グ装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や 様々な異種積層成膜が可能です。 【特長】 ■自動スパッタ機能により、長時間のスパッタリング作業も省力で可能 ■GenCore社製矩形カソードを使用。ターゲット付近から均一なスパッタ ガス導入が可能 ■スパッ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空
-
-
-
-
小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社
-
-
-
-
リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール
指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…
・200mmウェハまで対応可能 ・AVP Technology社独自の制御システムへの変更で中古クラスター装置への搭載も可能です。また、他のPVDやエッチングモジュールとの併用も可能です。 ＊詳細はお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
-
-
-
-
-
三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…
『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応してい...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング
-
-
-
-
ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…
デバイス品質の向上。高スループット、 生産歩留り向上、材料利用効率の最適化によりコスト競争力をアップします。 多様な成膜条件に対応したオプションにより多品種少量生産、柔軟な 生産計画へ対応可能です。 【特長】 ■最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ■T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ■独自プラズマ制御(MPスパッタ)技術にてスパッタ薄膜特...
メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社
-
-
-
-
多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…
と制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、 それぞれのカソードにRF又はDC電圧を印加、または重畳して印加することも 可能です。 【事例概要】 ■納入先：地方独立行政法人大阪産業技術研究所様 ■納入製品：MS-3C100L型 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所
-
-
-
-
立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…
搭載しています。 ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が 可能です。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ワークステージに4軸機構を搭載し、立体物成膜で...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
-
-
-
-
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…
〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4～8インチ…
ージアップ防止用として、また、一度に多くのサンプルの成膜処理を行ないたい場合に最適なスパッタコーターです。 【特徴】 〇サンプルサイズや数量に応じて、4、5、6、7、8と1インチ単位で選択が可能です。 〇コーティングモード/エッチングモード搭載 〇スパッタ薄膜作製はもちろん、マイクロチャネル流路形成時のPDMS表面処理にも対応 ...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
-
-
-
-
CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！
『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクテ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
-
-
-
-
良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！
『SPR-014-B』 は、基板側にバイアスを印加しながら スパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式 バイアススパッタリング装置です。 ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた 良好な絶縁膜形成ができます。 【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所
-
-
-
-
SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター
ATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。 【特徴】 ○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。 ○コーティング/エッチングモード搭載 〇デバイスの電極膜付けにも使用可能 ...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
-
-
-
-
X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ター…
維持。 ■駆動ユニットを、バランスのとれた正三角形に配置することで高い追従性を実現。 ■高剛性クロスローラガイド搭載により、高耐荷重仕様。（貼り合わせ時の加圧も問題なし） ■駆動モーターを選択可能。各社サーボモーター、ステッピングモーター、AZモーター等 ■テーブルに大口径透過穴を搭載。 ■駆動部をユニット化したことにより、テーブルサイズや形状を自由に設計可能なので、ご要望にぴったりのス...
メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社
-
-
-
-
高真空及び超高真空に対応可能の真空部品
【特長】 ○製品多様化 ○規格品を提供可能以外の特製品を提供できます。 ○製品の材質は基本的にSUS304ですが、他の材質も製造可能です。 ○許容温度：-200℃～450℃(OFHC Copper) ●規格品を提供可能以外に客先の...
メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司
-
-
-
-
R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中
「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…
る様々な機能に対して、 アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のスパッタ装置です。 約1Pa～0.1Paまでの放電維持圧力範囲を持ち、従来より低圧力でスパッタ成膜が可能。 従来に比べ更なる小型化、自動化を実現したうえに、磁性ターゲットにも対応しています。 さらに、20mm角基板対応の『S-QAMシリーズ』も新登場！ 研究開発現場での使い勝手を最優先に配慮...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
-
-
-
-
手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…
ト低減を実現しています。 サンプルテスト・仕様対応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を 行っています。 【特長】 ■リーズナブルなコストと高いプロセス性能 ■少量生産にも対応可能な高い信頼性 ■豊富な実績に支えられた豊富なオプション類と柔軟なハード対応 ■先端分野の薄膜開発にロードロック機構と事前成膜テストで プロセス開発をサポート ■デモ機を常設し、サンプルテス...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」
スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…
RAM CATHODEは、ターゲットを4面対向式にすることで、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、硬度なta-C領域を得るには、HIPIMS電源を使用し、 強制的にイオン化率を上げなければなりませんでした。 【当社が開発...
メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社
-
-
-
-
先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…
で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードなど成膜機構も選択でき、基板や目的に合わせて個別要求にご対応いたします。 シンプルな装置構成にも対応可能、リーズナブルなコスト対応を実現いたします。 上位仕様としてクラスタタイプの搬送室も装備可能でアニールや蒸着などの異種プロセス室も搭載可能な進化型スパッタリング装置です。...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置
半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
-
-
-
-
実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…
誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも 対応可能です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適なスパッタ装置 ■成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現 ■高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも対応可能...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
-
-
-
-
実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…
誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも 対応可能です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適なスパッタ装置 ■成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現 ■高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも対応可能...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
-
-
-
-
【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産…
合わせて 好適なターゲット素材を作り出せること」です。これまでに私たちは試作品で約200種類、量産品では 約30種類のターゲットを作り出してきました。 当社がスパッタリングターゲットに使用可能な元素は42種類にも及びます。スパッタリングにおける 直接的な製品は「ターゲットの素材」ですが、複数の金属や金属酸化物などのセラミック素材を適切な 割合で混ぜ合わせ、スパッタリングを行う技術こそ...
メーカー・取り扱い企業： デクセリアルズ株式会社
-
-
-
-
-
基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…
『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
-
-
-
-
単品試作から用途に合わせて製作可能！「EBガン」や「Kセル」などをライ…
当社の取り扱う『薄膜作成コンポーネント』をご紹介します。 世界最小クラスのUHV対応「マグネトロンスパッタカソード」をはじめ、 ICF70よりマウント可能な「EBガン」やルツボ最小2cc～100cc対応の 「Kセル」などをラインアップ。 また、有機・金属材料対応の「マルチ抵抗加熱ソース」や「コニカル型 蒸着ソース」などもご用意しております。...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
-
-
-
-
RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…
お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...
メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社
-
-
-
-
スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
-
-
-
-
2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…
実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバイド ・超高温（2000℃以上）での使用が可能 ・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック ・1000℃までのプロセスに対応 ・仕様に応じての設計の自由度が高い ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にど...
メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
-
コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…
少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 ８インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりＭＥＭＳ・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
-
-
中真空域でのスパッタリング技術を使用し世界で初めて銅ダイレク成膜 によ…
■ 真空プロセスにも関わらず無電解めっきなど従来工法同等以上の生産性を実現 ■ HCDによる高い改質効果とめっきシード層などに適合した導体層膜形成が可能 ■ 高アスペクト比のTHや小径ブラインドビアへの導体層形成が可能 ■ Conventional PVD装置に比べ圧倒的な装置コスト競争力がある...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン
-
-
-
-
射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES
樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！
新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム： 80sec（Al：100nm＋SiOx：20nm） ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空
-
-
-
-
初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…
ソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能 ■基本仕様でアルゴン用MFCを備えており、ガス流量を精密に制御 ■成膜方向は試料へのゴミ付着を防止するためにデポアップ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ
-
-
-
-
ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中
ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…
を基本とした２００ｍｍウェハ対応のスパッタリング装置。 基板搬送は枚葉（ＣｔｏＣ）タイプを基本とし、基板のサイズ、形状によりトレイによるＣｔｏＣ搬送。 カソードは大型１元タイプと多元タイプが選択可能。基板加熱も高温および冷却が選択可能。 スパッタもＤＣ，ＲＦにパルスＤＣによるリアクティブスパッタモードより選択。緻密な酸化膜も形成可能で、化合物半導体のゲート酸化膜に対応...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース
ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく、簡単に配管の取り付け／取り外しを行うことができます。Fissionソ...
メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社
-
-
-
-
スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…
L/L室と接続ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、 試料を常に超高真空下に持ちます。また、スパッタ装置用、PLD装置用の 2つの接続ポートを備え、各試料ホルダーへの試料の移載が可能。 無停電電源でバックアップされ、30分以上の移動時の無通電可動ができます。 【特長】 ■大気暴露なしに成膜試料を超高真空下で移載搬送できる ■スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット
-
-
-
-
省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！
当製品は、当社が得意とするスパッタリング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
-
-
-
-
1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…
当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着と なっております。 【特長】 ■1インチUHV対応ス...
メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社
-
-
-
-
酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱…
当社は特殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。 現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、 弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。 その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲットなど お客様のご要望により製造・販売しております。 バッキングプレートを支給して頂き、新たなターゲット材にボンディング加工も致します。 ...
メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社
-
-
-
-
表面処理装置 スパッタ用イオン銃
【特徴】 ◯取付フランジは外径70mmで、容易に装着が可能 ◯真空内のソース長は標準の63mmのほか、要望対応も可能 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート
-
PR
-
Enovasense Field Sensor
高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレ…
プレシテック・ジャパン株式会社 -
化粧品・医薬品の充填シール機（包装機）
【化粧品・医薬品の充填・シール作業を効率化】充填・シール作業が…
株式会社型久堂 -
受発注・電子帳票保管アプリ
追加機器を必要とせず、いつでもすぐに始められます
株式会社Power Management -
エルボ・ベンド管用部材『スーパーエルボ』＜導入実績付き資料進呈＞
摩耗や閉塞のトラブルを減少させ、メンテコストを削減。既存システ…
株式会社山本工作所 -
インパルスノイズ試験器 INS-S100
電源ラインからの侵入や通信線などへの誘導ノイズによる電子機器の…
株式会社ノイズ研究所（NoiseKen） -
【New】固定型 超音波式ガスセンサ
ヘリウム/アルゴン/水素ガスリークを早期発見
日清紡ホールディングス株式会社 -
脱炭素を目指す『出光カーボンオフセットfuel（ICOF）』
燃料油を使用しながらCO2排出量のオフセットが可能！カーボンク…
出光リテール販売株式会社 -
カットサンプルご提供！重量物包装用『強化段ボール』ハイプルエース
スチール製、樹脂製、木製資材の代替に使用可能な強化段ボール。リ…
王子インターパック株式会社 -
人協働ロボット搭載AGV
理想の1台が手に入る！人協働ロボットで進化したラボ・オートメー…
田辺工業株式会社 -
ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工
金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メ…
株式会社栗田製作所 本社・京都事業部